[發明專利]對玻璃微流控芯片刻蝕時起保護作用的保護膜的制備方法

無效

• 申請號: 200910082368.6
• 申請日: 2009-04-15
• 公開（公告）號: CN101544349A
• 公開（公告）日: 2009-09-30
• 發明（設計）人: 陳義;王海
• 申請（專利權）人: 中國科學院化學研究所
• 主分類號: B81C1/00
• 分類號: B81C1/00
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 李 柏

1.一種對玻璃微流控芯片刻蝕時起保護作用的保護膜的制備方法，該方法包括制作玻璃微流控芯片時的在玻璃基片上鍍鉻犧牲層、涂膠、烘膠、紫外曝光、顯影、去玻璃基片上裸露的鉻犧牲層、濕法刻蝕、去膠、去除除去膠層后玻璃基片上的鉻犧牲層、在500～600℃下封合步驟；其特征在于：在顯影步驟后及在接著進行的去鉻犧牲層步驟之前，用草酸、馬來酸、馬來酸酐、乙酸、三氯乙酸、苯磺酸、酒石酸、檸檬酸、消旋蘋果酸所組成的組中的至少一種調節質量濃度為15～37％的甲醛水溶液或質量濃度為2～25％的戊二醛水溶液的pH為2～5.5，然后在室溫下將烘干的在含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠表面帶有掩膜圖形的玻璃基片浸泡在上述pH為2～5.5的甲醛水溶液或戊二醛水溶液中10～40分鐘，使甲醛分子或戊二醛分子浸潤到含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠基質當中；把浸泡好的玻璃基片用蒸餾水沖洗干凈，然后在100～155℃下使甲醛或戊二醛與含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠中的線性酚醛樹脂成份發生交聯反應，使含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠交聯成具有體型成網狀結構的保護膜。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征是：在100～155℃下使甲醛或戊二醛與含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠中的線性酚醛樹脂成份發生交聯反應的時間為10～45分鐘。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征是：將烘干的在含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠表面帶有掩膜圖形的玻璃基片浸泡在pH為2～2.8的質量濃度為15％～22％的甲醛水溶液或質量濃度為2％～6％的戊二醛水溶液中10～15分鐘，使甲醛分子或戊二醛分子浸潤到含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠基質當中；把浸泡好的玻璃基片用蒸餾水沖洗干凈，然后在100～110℃下使甲醛或戊二醛與含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠中的線性酚醛樹脂成份發生交聯反應10～15分鐘，使含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠交聯成具有體型成網狀結構的保護膜。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征是：將烘干的在含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠表面帶有掩膜圖形的玻璃基片浸泡在pH為2.8～3.2的質量濃度為22％～26％的甲醛水溶液或質量濃度為6％～10％的戊二醛水溶液中15～20分鐘，使甲醛分子或戊二醛分子浸潤到含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠基質當中；把浸泡好的玻璃基片用蒸餾水沖洗干凈，然后在110～120℃下使甲醛或戊二醛與含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠中的線性酚醛樹脂成份發生交聯反應15～20分鐘，使含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠交聯成具有體型成網狀結構的保護膜。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征是：將烘干的在含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠表面帶有掩膜圖形的玻璃基片浸泡在pH為3.2～3.7的質量濃度為26％～30％的甲醛水溶液或質量濃度為10％～14％的戊二醛水溶液中20～25分鐘，使甲醛分子或戊二醛分子浸潤到含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠基質當中；把浸泡好的玻璃基片用蒸餾水沖洗干凈，然后在120～130℃下使甲醛或戊二醛與含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠中的線性酚醛樹脂成份發生交聯反應20～25分鐘，使含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠交聯成具有體型成網狀結構的保護膜。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征是：將烘干的在含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠表面帶有掩膜圖形的玻璃基片浸泡在pH為3.7～4的質量濃度為30％～33％的甲醛水溶液或質量濃度為14％～17％的戊二醛水溶液中25～30分鐘，使甲醛分子或戊二醛分子浸潤到含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠基質當中；把浸泡好的玻璃基片用蒸餾水沖洗干凈，然后在130～135℃下使甲醛或戊二醛與含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠中的線性酚醛樹脂成份發生交聯反應25～30分鐘，使含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠交聯成具有體型成網狀結構的保護膜。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征是：將烘干的在含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠表面帶有掩膜圖形的玻璃基片浸泡在pH為4～4.4的質量濃度為33％～35％的甲醛水溶液或質量濃度為17％～20％的戊二醛水溶液中30～35分鐘，使甲醛分子或戊二醛分子浸潤到含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠基質當中；把浸泡好的玻璃基片用蒸餾水沖洗干凈，然后在135～145℃下使甲醛或戊二醛與含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠中的線性酚醛樹脂成份發生交聯反應30～35分鐘，使含有線性酚醛樹脂的正性光刻膠交聯成具有體型成網狀結構的保護膜。