[發明專利]一種材料表面制備殼聚糖/蛋白質復合微圖形的方法

無效

• 申請號: 200910058128.2
• 申請日: 2009-01-14
• 公開（公告）號: CN101461965A
• 公開（公告）日: 2009-06-24
• 發明（設計）人: 魯雄;謝佳;周先禮;姜麗麗;張紅平;屈樹新;馮波;翁杰;汪建新
• 申請（專利權）人: 西南交通大學
• 主分類號: A61L31/04
• 分類號: A61L31/04;B41C3/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種材料表面制備殼聚糖/蛋白質復合微圖形的方法，以殼聚糖 CS和牛血清白蛋白BSA為原料采用微轉移模塑法使CS和BSA兩種 物質在硅表面均勻吸附得到復合微圖形，包括如下步驟：

(1)硅基片的制備：將純硅片采用干氧氧化處理，以獲得表面 有均勻致密氧化層的硅基片；所述表面均勻致密氧化層的硅基片經清 洗后再經堿處理，最后用蒸餾水清洗干凈，干燥后得到表面充滿羥基 的硅片；

(2)溶液的配制：CS溶于CH₃COOH中，配制成2mg/ml?CS 的CH₃COOH溶液；BSA溶于pH值為6.6的磷酸鹽緩沖液中，配 制成2mg/ml的BSA溶液；

(3)彈性印章制備：按質量比10∶1的比例充分混合聚二甲基硅 氧烷PDMS與硅橡膠固化劑，所得混合物澆鑄在表面具有微米尺寸 溝槽結構的硅模板上；于80℃下固化后將固化物從硅模板上剝離， 經親水性改善處理后再經蒸餾水清洗、干燥得到有溝槽表面結構的彈 性印章，所述親水性改善處理采用1mol/L鹽酸溶液中浸泡12小時 處理；

(4)微圖形的拓制：分別用(2)得到的CS溶液和BSA溶液分 別滴加在二個(3)得到的有溝槽表面結構的彈性印章上，靜置并刮 除表面多余的溶液，得到二個分別具有CS微圖形和BSA微圖形的彈 性印章，即完成微圖形的分別拓制；

(5)將(4)得到的具有CS微圖形的彈性印章反扣在(1)步 驟制得的硅基片表面，保持二者的完全緊密接觸，于20℃下干燥后 剝離彈性印章，再于0.0125mol/L的NaOH中浸泡1min，以中和CS 的酸性；硅基片表面吸附留下CS的溝槽微圖形；

(6)將(4)得到的具有BSA微圖形的彈性印章反扣在(5) 得到的具有CS的溝槽微圖形的硅基片上，在已吸附有CS的硅基片 表面，交叉地吸附上BSA微圖形，得到材料表面形狀規則的殼聚糖/ 蛋白質復合微圖形。

2.根據權利要求1所述的一種材料表面制備殼聚糖/蛋白質復合微圖 形的方法，其特征在于，所述純硅片采用干氧氧化處理，采用在1000℃ 下燒結4小時。