[發明專利]化學機械拋光設備及其研磨液輸送方法

有效

• 申請號: 200910057408.1
• 申請日: 2009-06-11
• 公開（公告）號: CN101920476A
• 公開（公告）日: 2010-12-22
• 發明（設計）人: 牛曉翔;瞿治軍
• 申請（專利權）人: 上海華虹NEC電子有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02;B24B37/04;B24B57/02;H01L21/304
• 代理公司: 上海浦一知識產權代理有限公司 31211
• 代理人: 張驥

1.一種化學機械拋光設備，包括研磨頭加壓裝置、旋轉馬達、研磨頭平動滑軌、固定環、研磨頭、硅片保持環、硅片、研磨墊、研磨臺、研磨液輸送裝置；硅片通過硅片保持環固定于研磨頭的底部，研磨頭的頂部設有研磨頭加壓裝置，研磨頭加壓裝置上設有旋轉馬達，研磨頭通過固定環連接在研磨頭加壓裝置的旋轉終端上，研磨頭加壓裝置設置于研磨頭平動滑軌內，研磨頭的下方設置有研磨臺，研磨臺的上表面設置有研磨墊；

其特征在于：所述研磨頭設置有研磨液輸送器，研磨液輸送器的一端與研磨液輸送裝置的管路連通，研磨液輸送器的另一端通向硅片保持環邊緣，研磨液輸送器的出口設置于硅片的一側。

2.根據權利要求1所述的化學機械拋光設備，其特征在于：所述研磨液輸送器設置于研磨頭內部。

3.根據權利要求2所述的化學機械拋光設備，其特征在于：所述研磨液輸送器通過研磨頭加壓裝置內的管路連接研磨液輸送裝置。

4.根據權利要求3所述的化學機械拋光設備，其特征在于：所述研磨頭加壓裝置內的管路與研磨液輸送裝置的管路之間通過由抗酸抗堿的PFA材料制成的3/8inch兩通接頭連接。

5.根據權利要求1所述的化學機械拋光設備，其特征在于：所述研磨液輸送器采用抗酸抗堿的PFA材料加工而成。

6.一種權利要求1所述的化學機械拋光設備的研磨液輸送方法，其特征在于：

將研磨液輸送裝置移至研磨頭加壓裝置上方，并將研磨液輸送裝置的管路與研磨頭加壓裝置內的管路一端連通；研磨頭加壓裝置內管路的另一端通過研磨液輸送器連通至硅片保持環邊緣；研磨液輸送裝置將研磨液通過研磨頭加壓裝置內的管路、研磨液輸送器，輸送到硅片的一側。