[發明專利]一種用于熱電材料的涂層及其含有該涂層的器件

有效

• 申請號: 200910055439.3
• 申請日: 2009-07-27
• 公開（公告）號: CN101969094A
• 公開（公告）日: 2011-02-09
• 發明（設計）人: 陳立東;黃向陽;李小亞;夏緒貴;何琳
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海硅酸鹽研究所;康寧股份有限公司
• 主分類號: H01L35/02
• 分類號: H01L35/02;H01L35/28;H01L35/34
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 彭茜茜;白益華

1.一種涂層，其用于熱電材料，其特征在于，包括：

含有熱電材料的熱電層；

一層或多層金屬涂層，其中所述金屬涂層形成與所述熱電層接觸的表面以及另一相向表面；

一層或多層金屬氧化物涂層，所述金屬氧化物涂層含有金屬氧化物，其中所述金屬氧化物涂層形成與所述相向表面接觸的表面。

2.如權利要求1所述的涂層，其特征在于，所述熱電材料選自填充和/或摻雜方鈷礦。

3.如權利要求2所述的涂層，其特征在于，所述填充和/或摻雜方鈷礦選自CoSb₃基方鈷礦。

4.如權利要求1所述的涂層，其特征在于，所述金屬涂層含有Ta、Nb、Ti、Mo、V、Al、Zr、Ni、NiAl、TiAl、NiCr或其組合。

5.如權利要求1所述的涂層，其特征在于，所述金屬氧化物涂層含有TiO₂、Ta₂O₅、Nb₂O₅、Al₂O₃、ZrO₂、NiO、SiO₂或其組合。

6.如權利要求1所述的涂層，其特征在于，其厚度為10-500μm(微米)。

7.如權利要求6所述的涂層，其特征在于，其厚度為50-200μm(微米)。

8.如權利要求1所述的涂層，其特征在于，所述金屬涂層的厚度為0.01-20um(微米)。

9.如權利要求8所述的涂層，其特征在于，所述金屬涂層的厚度為0.2-2um(微米)。

10.如權利要求1所述的涂層，其特征在于，所述熱電層具有厚度為L_T，所述金屬涂層和金屬氧化物涂層各自具有厚度為L_M&MOx，其中L_M&MOx≤L_T，且(L_T-L_M&MOx)/L_T≤0.4。

11.一種含有如權利要求1所述的涂層的器件。

12.一種如權利要求1所述的涂層的制備方法，其特征在于：

提供含有熱電材料的熱電層；

在所述熱電層上形成一層或多層金屬涂層，其中所述金屬涂層形成與所述熱電層接觸的表面以及另一相向表面；

在所述金屬涂層上形成一層或多層金屬氧化物涂層，所述金屬氧化物涂層含有金屬氧化物，其中所述金屬氧化物形成與所述金屬涂層的相向表面接觸的表面。

13.一種如權利要求12所述的涂層的制備方法，其特征在于：

所述全部或部分金屬涂層由以下方法形成：熱蒸發法、電弧噴涂法、等離子噴涂法、火焰噴鍍法、真空濺射法、電化學蒸汽沉積法、電鍍法、或沉積法(electroless?deposition)。

14.一種如權利要求12所述的涂層的制備方法，其特征在于：

所述全部或部分金屬氧化物涂層由以下方法形成：

熱蒸發沉積法、真空濺射法、等離子噴涂法、溶膠法(sol-gel)、化學溶液沉積法(chemical?solution?deposition)、或化學蒸汽沉積法(chemicalvapor?deposition)。

15.一種如權利要求12所述的涂層的制備方法，其特征在于：

通過對所述金屬涂層的至少部分氧化，使得所述金屬氧化物涂層與所述金屬涂層的相向表面接觸。