[發(fā)明專利]金屬嵌入式熔融石英寬帶反射光柵有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910054514.4 | 申請日: | 2009-07-08 |
| 公開(公告)號: | CN101609176A | 公開(公告)日: | 2009-12-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 周常河;曹紅超;馮吉軍 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所 |
| 主分類號: | G02B5/18 | 分類號: | G02B5/18 |
| 代理公司: | 上海新天專利代理有限公司 | 代理人: | 張澤純 |
| 地址: | 201800上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 金屬 嵌入式 熔融 石英 寬帶 反射光柵 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本專利涉及反射式光柵,特別是一種用于800納米波長的金屬嵌入式熔融石英寬帶反射式光柵。
背景技術(shù)
在啁啾脈沖放大技術(shù)中,人們往往需要高衍射效率、較寬波長范圍和較高的抗激光損傷能力的衍射光柵。最近,Wei?Jia等人在熔融石英上制作出了這種高衍射效率的透射式光柵,其-1級的衍射效率理論上可達98%。【在先技術(shù)1:W.Jia?et?al.,Appl.Opt.47,6058(2008)】。但是,在很多應(yīng)用,比如在光柵調(diào)諧窄線寬振蕩器、光柵脈沖壓縮器等中需要反射式光柵。傳統(tǒng)的多層介質(zhì)光柵以及純金屬光柵雖然可以滿足要求,但是多層介質(zhì)光柵的制作相當(dāng)復(fù)雜、制作成本較高;純金屬的全息光柵以及刻劃光柵的機械強度及抗激光損傷能力較弱,不適合用于高功率激光系統(tǒng)。
熔融石英是一種理想的光柵材料,它具有高光學(xué)質(zhì)量:穩(wěn)定的性能、高損傷閾值和從深紫外到遠紅外的寬透射譜。金作為一種常用的金屬反射膜,其強度和穩(wěn)定性較好,在紅外區(qū)的反射率很高。目前,常用的金屬反射光柵大多以金為薄膜材料。因此,利用熔融石英和金材料結(jié)合制作新型的嵌入式反射式光柵具有廣泛的應(yīng)用前景。
矩形光柵是利用微電子深刻蝕工藝,在基底上加工出的具有矩形槽形的光柵。高密度矩形光柵的衍射理論,不能由簡單的標(biāo)量光柵衍射方程來解釋,而必須采用矢量形式的麥克斯韋方程并結(jié)合邊界條件,通過編碼的計算機程序精確地計算出結(jié)果。Moharam等人已給出了嚴格耦合波理論的算法【在先技術(shù)2:M.G?Moharam?et?al.,J.Opt.Soc.Am.A.12,1077(1995)】,可以解決這類高密度光柵的衍射問題。但據(jù)我們所知,目前為止,還沒有人針對常用800納米波長給出在熔融石英基片上制作的金嵌入式反射光柵的設(shè)計參數(shù)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是針對常用800納米波長的激光器提供一種寬帶金屬嵌入式熔融石英寬帶反射光柵。該金屬嵌入式熔融石英寬帶反射光柵可以使TE偏振光在利特羅入射角的情況下的-1級衍射效率在130納米(780~910納米)的波長帶寬內(nèi)高于90%;而當(dāng)在非利特羅角入射的情況下的-1級衍射效率在284納米(780~1064納米)的波長帶寬內(nèi)高于80%。因此,該金屬嵌入式熔融石英寬帶反射光柵在啁啾脈沖壓縮技術(shù)中具有重要的實用價值。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案如下:
一種用于800納米波段的金屬嵌入式熔融石英寬帶反射光柵,其特點在于該光柵的周期為450~550納米、刻蝕深度700~900納米,金膜的厚度為380~660納米,光柵的占空比為0.4。
所述的金屬嵌入式熔融石英寬帶反射光柵的周期為550納米,光柵的刻蝕深度為800納米,金膜的厚度為550納米。
本發(fā)明的依據(jù)如下:
圖1顯示了金屬嵌入式熔融石英寬帶反射光柵的幾何結(jié)構(gòu)。區(qū)域1、2、3都是均勻的,分別為熔融石英(折射率n1=1.45332)、金膜(折射率n2=0.18-i5.13)和空氣(折射率n3=1.0)。TE偏振入射光對應(yīng)于電場矢量的振動方向垂直于入射面。線性偏振的光波以一定角度θi=sin-1(λ/(2*Λ*n3))入射(定義為利特羅角),λ代表入射光波長,Λ代表光柵周期。
在如圖1所示的光柵結(jié)構(gòu)下,本發(fā)明采用嚴格耦合波理論【在先技術(shù)2】計算了矩形金屬嵌入式熔融石英寬帶反射光柵(占空比為0.4)的-1級衍射效率隨入射角的變化曲線如圖2所示,即當(dāng)光柵的周期為550納米、刻蝕深度為800納米,金膜的厚度為550納米時,該光柵的-1級衍射效率在30°的角度帶寬內(nèi)大于90%。
如圖3所示,光柵的周期為550納米,深度為800納米,金膜厚度為550納米,在利特羅角入射時,TE偏振模式的入射光在120納米的(780~900納米)譜寬范圍內(nèi)的-1級衍射效率均可以達到90%以上。
如圖4所示,TE偏振模式的入射光以72°角度(非利特羅角度)附近入射到光柵時,光柵的周期為550納米,深度為800納米,金膜厚度550納米,光柵占空比為0.4時,TE偏振模式的入射光在284納米的(780-1064納米)的寬譜寬范圍內(nèi)的-1級衍射效率均可以達到80%以上。
附圖說明
圖1是本發(fā)明金屬嵌入式熔融石英寬帶反射光柵的幾何結(jié)構(gòu)。
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