[發明專利]一種化學機械拋光清洗液在審
| 申請號： | 200910052659.0 | 申請日： | 2009-06-08 |
| 公開（公告）號： | CN101906359A | 公開（公告）日： | 2010-12-08 |
| 發明（設計）人： | 徐春 | 申請（專利權）人： | 安集微電子科技(上海)有限公司 |
| 主分類號： | C11D7/32 | 分類號： | C11D7/32;C11D7/38;C11D7/04;C11D1/04;C11D1/10 |
| 代理公司： | 上海翰鴻律師事務所 31246 | 代理人： | 李佳銘 |
| 地址： | 201201 上海市浦東新區華東路*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 機械拋光 清洗 | ||
1.一種化學機械拋光清洗液，其含有載體和化學添加劑，這種化學添加劑能夠與拋光頭、拋光墊或拋光材料的表面殘留物發生氧化還原反應、溶解反應和絡合反應中的一種或多種反應，從而生成可溶性化合物。
2.如權利要求1所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述的能夠與拋光頭、拋光墊或拋光材料的表面殘留物發生氧化還原反應的化學添加劑的分子結構中含有可被氧化的氮氫基團NH和/或NH2。
3.如權利要求2所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述的化學添加劑為殼聚糖、1，2，4三氮唑和5-氨基-四氮唑中的一種或多種。
4.如權利要求1所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述的化學添加劑為含有過氧根的化合物、可溶性碘化物、乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸的可溶鹽、四草酸、四草酸的可溶鹽、氨三乙酸、氨三乙酸的可溶鹽、草酸和草酸的可溶鹽中的一種或多種。
5.如權利要求4所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述的含有過氧根的化合物為過氧化氫；所述的可溶性碘化物為碘化鉀。
6.如權利要求1所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述的化學添加劑的濃度為質量分數0.01～10％。
7.如權利要求6所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述的化學添加劑的濃度為質量分數0.05～5％。
8.如權利要求1所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述的載體為水、水與乙醇的混合物或水與異丙醇的混合物。
9.如權利要求1所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述的化學機械拋光清洗液的pH值為1～12。
10.如權利要求9所述的化學機械拋光清洗液，其特征在于：所述的化學機械拋光清洗液的pH值為1～4。
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