[發明專利]用于輻射計量的光釋光劑量元件及其制備方法無效
| 申請號: | 200910029721.4 | 申請日: | 2009-04-03 |
| 公開(公告)號: | CN101533846A | 公開(公告)日: | 2009-09-16 |
| 發明(設計)人: | 陸敏 | 申請(專利權)人: | 蘇州納米技術與納米仿生研究所 |
| 主分類號: | H01L27/15 | 分類號: | H01L27/15;H01L31/105;H01L33/00;H01L21/82;C23C16/44;G01T1/16 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 輻射 計量 光釋光 劑量 元件 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種用于輻射計量的光釋光元件。
背景技術
OSL(Optically?Stimulated?Lμminescence)又稱光致發光,是一項新的輻射劑量監測技術,是繼LiF(Mg,Ti)熱釋光和LiF(Mg,Cu,P)熱釋光后的第三代輻射劑量監測技術,在全球范圍內用于個人劑量監測已有數年的歷史,使用該技術進行個人劑量監測的人數已有約150萬人。
光致發光探測系統中,射線的探測物質是α-Al2O3:C,每一個探測元件是一個圓形的α-Al2O3:C圓片,它們受到輻照后所產生的電子空穴對會被物質內的晶格缺陷捕獲;在讀取劑量時,α-Al2O3:C圓片受到發光二極管所發出532nm光的激發,被晶格缺陷捕獲的電子或空穴受激進入相應的導帶或價帶,這些自有的電子或空穴遇到晶體內的復合中心就釋放出326nm和420nm兩個熒光峰,發光峰經光電探測器轉換成電信號,該電信號正比與所受輻照強度。
光致發光探測系統相比熱釋光探測系統具有以下優點:
(1)受熱激發(TLD,熱釋光),被捕獲的載流子將全部被釋放;而受光的激發(光釋光),每一次激發則只有很少一部分載流子被釋放,通過控制激發光的頻率可以優化這個過程,因此絕大部分的熒光信號仍保留在元件內,而且是非破壞性的,因此可以重復分析;
(2)α-Al2O3:C具有很高的靈敏度,是LiF(Mg,Ti)的40~60倍,其主體發射峰在410~420nm(綠光)處,線性響應可達到50Gy;可以在低劑量和低能量(可低至5keV)的應用場所保證測量數據的精確;
(3)光釋光劑量計具有抗沖擊,同時對濕、熱及化學物質不敏感;劑量計的極佳的衰退特性可以延長佩戴期限,同時保證劑量數據的準確可靠。
現有的輻射探測計量系統包括:劑量探測器、激發裝置和讀出器,并且現有的劑量計系統(熱釋光或光釋光)都是劑量探測器和讀出器相分離的系統,其中,劑量元件一般是一個直徑為5mm左右,厚度在1mm以下的α-Al2O3:C圓片;激發設備一般為激光器或LED光源,讀出器一般為光電倍增管和一些電路組成。通常“激發設備”和“讀出器”集成在一起構成一個讀出儀器設備。檢測輻射的步驟包括:“劑量元件”放在專用的劑量盒中佩戴在相關人員身上,經一段時間后,相關人員將劑量盒交給專業人員,專業人員將“劑量元件”從劑量盒中取出,放入讀出儀器設備的“劑量元件”架上,開啟讀出程序,讀出劑量數據。
上述技術方案導致很多問題,如:不能實時監測、不能現場監測,而這兩點在安全和遠程監控方面很重要;另外現有的讀出器,一方面價格昂貴,而且,讀出儀需要加熱(熱釋光)和光電倍增管需要高壓,因此能耗較大,光電倍增管高壓不穩定容易影響測試數據的準確性和一致性;同時還需要專業人員維護和操作才能保證它的準確性,費時又費力。
發明內容
本發明目的是提供一種用于輻射計量元件的集成光釋光劑量元件,集成了劑量探測器、激發裝置和讀出器,方便實時監測和現場檢測的同時降低激發所需的能耗。
為達到上述目的,本發明采用的技術方案是:GaN?PIN/α-Al2O3:C/InGaNLED集成光釋光劑量元件,包括:α-Al2O3:C襯底1、n型摻雜層3、三周期InGaN量子阱層/GaN量子壘層5、p型摻雜層7、p電極10和n電極11;所述n型摻雜層3是摻雜硅的GaN層,摻雜濃度在1×1018/cm3~1×1019/cm3之間;所述p型摻雜層7是摻雜鎂的GaN層,摻雜濃度在1×1019/cm3~1×1020/cm3之間;n型GaN摻雜層3設在α-Al2O3:C襯底1的一個表面,所述三周期InGaN量子阱層/GaN量子壘層5設置在n型GaN摻雜層3的表面上,所述p型GaN摻雜層7設置在三周期InGaN量子阱層/GaN量子壘層5的表面上,接觸電極10和11分別設置在所述p型GaN摻雜層7和所述n型GaN摻雜層3的表面上;
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





