[發明專利]一種金屬配合物的制備方法

無效

• 申請號: 200910029018.3
• 申請日: 2009-01-09
• 公開（公告）號: CN101498005A
• 公開（公告）日: 2009-08-05
• 發明（設計）人: 袁亞仙;姚建林
• 申請（專利權）人: 蘇州大學
• 主分類號: C25B3/12
• 分類號: C25B3/12;C07F1/08;C07D233/58
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司
• 代理人: 陶海鋒

技術領域

本發明涉及一種制備金屬配合物的方法，具體涉及一種以離子液體為電解液制備金屬配合物的方法。

背景技術

制備金屬配合物有各種各樣的方法，其中電化學合成方法由于其步驟簡單，操作條件溫和，電極反應的方向易控制，生成的配合物中金屬通常顯低價等優點在合成金屬配合物方面得到了廣泛的應用。

大多數金屬配合物的電解合成都是在金屬電極上進行的，一般來說，它們可以看成是通過氧化還原得到金屬配合物的反應。電化學合成金屬配合物大多使用“犧牲”陽極法(或電化學陽極溶解法)，金屬陽極氧化而溶解，同時配體(HL)在陰極上被還原放出氫氣，配位反應在溶液中進行，如：D.G.Tuck和Sousa等人以銦和一些過渡金屬為犧牲陽極，用該法合成了一系列的金屬配合物(參見：T?AAnnan，J?Gu，Z?Tian，D?G?Tuck，J.Chem.Soc.Dalton?Trans.，1992，3061.)。

大部分的電化學合成都選擇了非水溶劑(如乙腈、丙酮、甲苯、二甲亞砜、甲醇、四氫呋喃等)(參見：A?M?Vecchio-Sadus，J.Appl.Electrochem.，1993，23，401～416.)作為反應介質，而且在反應過程中為了提高導電率，還或多或少地添加了部分支持電解質(NaOAc、(n-Bu)₄NClO₄、LiClO₄、Et₄NClO₄等)，如：Labisbal等利用Cu、Ni為陽極，四甲基高氯酸銨為支持電解質，使用Tuck等所描述的電解槽，在含配體席夫堿H₂L(它是由水楊醛和鄰氨基苯酚制得)的乙腈溶液中進行電解，合成了[CuL]、[NiL]配合物(參見：E?Labisbal，J?A?Garcia-Vazquez，J?Romeroet?al.Polyhedron，1995，14(5)：663～670.)；

Garcia-Vazquez等利用Co、Ni、Cu、Zn、Cd為陽極，在含配體席夫堿((2-甲苯磺酰氨基(2-吡啶基)苯胺即HL)的乙腈溶液中，以四甲基高氯酸銨為支持電解質，電解合成得到[ML₂]配合物(參見：J?A?Garcia-Vazquez，J?Romero，L?DMaria?et?al.Polyhedron，1997，17(9)：1547～1552.)；

Garnovskii等利用Co、Ni、Cu、Zn為陽極，Pt為陰極，四乙基高氯酸銨為支持電解質，根據標準的電化學過程，在含有配體席夫堿((2-N-甲苯磺酰氨基(2-甲苯磺酰氨苯亞甲基))苯胺即H₂L)的甲醇溶液中進行電解得到席夫堿三齒配合物[MLL′](M＝Co、Ni、Zn，L′＝2-氨基吡啶；M＝Cu，L′＝CH₃OH)配合物，通過X射線單晶衍射確定了Zn、Ni配合物的晶體結構(參見：D?A?Garnovskii，M?FC?Guedesda?Silva，M?N?Kopylovich?et?al.Polyhedron，2003，22(10)：1335～1340.)；

Shiroki等用Co作陽極，在含配體二苯基乙炔和RCpH(R＝H，Et，Pr)的乙腈溶液中電解合成了少量的環戊二烯基四苯基-丁二烯的Co(I)配合物，此反應有水時就會形成一個無環四電子給體，即η⁵-環戊二烯鈷-η⁴-四苯基丁二烯(參見：V?L?Shirokii，V?A?Knizhnikov，A?V?Mosin?et?al.Metalloorg.Khim.，1991，(4)：1059～1064.)；