[發(fā)明專利]在沖片表面形成氧化物的退火爐

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910024687.1
• 申請日: 2009-02-26
• 公開（公告）號: CN101525682A
• 公開（公告）日: 2009-09-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 格溫·約翰斯頓
• 申請（專利權(quán)）人: 騰普（常州）精機(jī)有限公司
• 主分類號: C21D1/26
• 分類號: C21D1/26;C21D9/54
• 代理公司: 常州市維益專利事務(wù)所
• 代理人: 何學(xué)成

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種對變壓器或者電機(jī)的沖片外表面進(jìn)行絕緣處理的裝置，特 別是用于在沖片表面形成氧化物的退火爐。

背景技術(shù)

電機(jī)、變壓器和其他的電子設(shè)備一般含有一個由鋼質(zhì)沖片疊加而成的磁 極，通過這些鋼質(zhì)沖片疊加在一起的磁極形成的磁路來傳遞磁通量。為了得到 良好的磁性能，通常需要將鋼質(zhì)沖片在帶有連續(xù)輥?zhàn)拥南涫綘t中經(jīng)過退火處理， 沖片的性能取決于鋼材的磁性能，具有代表性的最好的磁性能是材料通過熱處 理或沖片沖壓后退火來獲得，現(xiàn)有的退火爐，爐內(nèi)成排的沖片要得到完整的氧 化物絕緣保護(hù)很困難，特別是，當(dāng)沖片用鋼絲捆扎在一起，氧化媒介不能夠均 勻的在沖片間的小縫隙間擴(kuò)散，氧化效果很差。

發(fā)明目的

本發(fā)明針對上述技術(shù)的氧化媒介不能夠均勻的在沖片間的小縫隙間擴(kuò)散， 氧化效果不均勻的不足之處提供一種效果好的用于在沖片表面形成氧化物的退 火爐。

實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

用于在沖片表面形成氧化物的退火爐，爐內(nèi)包括用于沖片預(yù)熱除油的預(yù)熱 區(qū)、用于沖片脫碳的高溫區(qū)，爐內(nèi)設(shè)置有用于沖片降溫冷卻的冷卻區(qū)、用于隔 離氧化區(qū)和冷卻區(qū)的凈化區(qū)、用于在沖片表面形成氧化物的氧化區(qū)，有一傳送 裝置設(shè)置爐內(nèi)，該裝置經(jīng)過預(yù)熱區(qū)、高溫區(qū)、冷卻區(qū)、凈化區(qū)、氧化區(qū)內(nèi)，氧 化區(qū)內(nèi)設(shè)置有加工沖片氧化物的氧化裝置、氣氛循環(huán)裝置、爐腔氣氛控制裝置， 氧化裝置和氣氛循環(huán)裝置相連通，氧化裝置由氣氛噴射裝置和氣氛注射管組成， 氣氛噴射裝置設(shè)置在氣氛注射管上。

所述的氣氛循環(huán)裝置由氣氛抽取管、抽氣總管、管道部件、高溫風(fēng)扇、控 制高溫風(fēng)扇的變速電機(jī)、壓力管道部件、通孔和總壓力管組成，若干個氣氛抽 氣管設(shè)置在爐體側(cè)壁與抽氣總管連通，高溫風(fēng)扇設(shè)置在爐體頂部由設(shè)置在其側(cè) 面的變速電機(jī)控制，高溫風(fēng)扇上設(shè)置有入口和排氣裝置，入口和抽氣總管之間 通過管道部件連通，排氣裝置和通孔之間通過壓力管道部件連通，總壓力管設(shè) 置在爐體內(nèi)通過爐體側(cè)壁的通孔與壓力管道部件連通，所述的抽氣總管內(nèi)設(shè)置 有隔離材料。

所述的爐腔氣氛控制裝置由循環(huán)風(fēng)扇、控制循環(huán)風(fēng)扇的電機(jī)和若干加熱元 件組成，循環(huán)風(fēng)扇設(shè)置在爐腔內(nèi)通過設(shè)置在爐頂?shù)碾姍C(jī)控制。

所述的傳送裝置由輸送裝置與托盤組成，輸送裝置由若干均勻設(shè)置的輥?zhàn)? 組成，輥?zhàn)拥亩瞬吭O(shè)置有齒輪通過鏈條帶動齒輪使輥?zhàn)愚D(zhuǎn)動。

所述的氣氛噴射裝置為若干個氣氛噴射頭，該氣氛噴射頭為設(shè)置在氣氛注 射管上的噴射孔，氣氛噴射裝置的走向與托盤的移動方向垂直，所述的氣氛噴 射頭設(shè)置在輥?zhàn)又g的間隙內(nèi)。

所述的氧化裝置和氣氛循環(huán)裝置通過L型部件相連通。

所述的凈化區(qū)為一個凈化通道，該凈化通道內(nèi)設(shè)置有至冷卻水管和冷卻系 統(tǒng)，冷卻水管設(shè)置在凈化通道內(nèi)，所述的冷卻系統(tǒng)設(shè)置在傳送裝置下面，冷卻 管上設(shè)置有若干熱交換片。

所述的凈化通道內(nèi)具有一個強(qiáng)制循環(huán)風(fēng)扇和溫度傳感器。

所述的凈化通道上設(shè)置有一個開口，溫度傳感器設(shè)置在該開口內(nèi)。

采用了上述方案，氣氛噴射頭設(shè)置在輥?zhàn)又g的間隙內(nèi)，就能使間隙之間 的沖片部位得到有效的氧化，加熱元件能及時控制氧化區(qū)內(nèi)的氧化氣體的溫度， 循環(huán)風(fēng)扇把加熱元件所產(chǎn)生的熱量均勻的分布到氧化區(qū)內(nèi)，為充分氧化創(chuàng)造好 的條件，氣氛循環(huán)裝置時的氧化區(qū)的氧化氣體高效的循環(huán)起來，凈化區(qū)內(nèi)設(shè)置 的冷卻水管和冷卻系統(tǒng)能進(jìn)一步冷卻沖片，凈化通道頂部設(shè)置的溫度傳感器能 及時反映凈化通道內(nèi)的溫度到電腦內(nèi)，控制冷卻區(qū)的減壓和增壓。本發(fā)明的有 益效果是可以提高效率和氧化物形成的均勻性。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的退火爐凈化區(qū)和氧化區(qū)的部分側(cè)視圖；

圖2為沿圖1中的II-II線的剖視圖。