[發明專利]涂敷裝置

有效

• 申請號: 200910006827.2
• 申請日: 2009-02-27
• 公開（公告）號: CN101518769A
• 公開（公告）日: 2009-09-02
• 發明（設計）人: 釜谷學;森俊裕
• 申請（專利權）人: 東麗工程株式會社
• 主分類號: B05C5/00
• 分類號: B05C5/00;B05C11/00;B05C13/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 李貴亮

技術領域

本發明涉及在基板上涂敷涂敷液的涂敷裝置。

背景技術

在液晶顯示器和等離子顯示器等的平面顯示器中，使用在玻璃基板上 涂敷抗蝕劑液的顯示器(稱涂敷基板)。該涂敷基板通過均勻地涂敷抗蝕 劑液的涂敷裝置而形成。

該涂敷裝置具有載置基板的載物臺和噴出抗蝕劑液的涂敷組件，通過 在從涂敷組件噴出涂敷液的同時移動涂敷組件，而在基板上形成均勻厚度 的抗蝕劑液膜。

在上述涂敷裝置中，作為將基板保持在載物臺上的單元，較普遍的是， 在載物臺形成有吸引孔，在該吸引孔產生吸引力，從而將基板吸附保持于 載物臺上(參照例如專利文獻1)。具體的是，通過配管連接吸引孔和吸引 力產生裝置，使該吸引力產生裝置動作，從而通過配管在吸引孔產生吸引 力。即，當吸引力產生裝置動作時，配管內的大氣被排氣，而配管內成為 由吸引力產生裝置設定的設定壓力(比大氣壓小的壓力)，在吸引孔產生 與該設定壓力對應的吸引力。如此，能夠使基板吸附保持在載物臺上。

【專利文獻1】日本特開2006-281091號公報。

在上述涂敷裝置中，為了吸附保持基板需要較長時間，存在涂敷裝置 整體的生產周期變長的問題。即，在吸引口產生吸引力所需時間依賴于吸 引力產生裝置的排氣速度，因此，為將基板迅速地吸附于載物臺上，必須 以高速進行排氣。

但是，吸引力產生裝置通常設置在設有涂敷裝置工廠，還連接有需要 吸引力產生裝置的其他裝置，因此，當為了提高排氣速度而變更吸引力產 生裝置的設定壓力時，有對其他裝置帶來影響之虞。

發明內容

本發明是鑒于上述問題點而作出的，其目的在于提供一種涂敷裝置， 其能夠在不變更吸引力產生裝置的設定壓力的情況下，通過迅速產生吸附 基板的吸引力而縮短吸附時間，從而提高作為涂敷裝置整體的生產周期。

為解決上述課題，本發明的涂敷裝置具備：載物臺，其載置基板；基 板保持機構，其在形成于所述載物臺的表面的吸引孔產生吸引力而將基板 吸附保持于載物臺的表面；涂敷組件，其相對于保持在載物臺表面的基板 相對地移動的同時噴出涂敷液，所述涂敷裝置的特征在于，所述基板保持 機構的吸引孔通過配管與產生吸引力的吸引力產生裝置連通連接，所述配 管具備能夠利用主閥開閉的主配管和能夠利用副閥開閉的副配管，在所述 副配管設有具備儲存部的儲存箱，所述儲存部在比所述副閥靠吸引力產生 裝置側具有規定容量，該儲存部具有比一定區間的副配管的容量大的容 量。

根據上述涂敷裝置，由于設置有具有比一定區間的副配管的容量大的 所述儲存部的儲存箱，因此，能夠使載物臺的吸引孔產生吸引力而迅速吸 附基板。具體而言，通過使吸引力產生裝置在主閥和副閥處于關閉的狀態 進行動作，而使儲存箱的儲存部維持于在吸引力產生裝置設定的設定壓力 (比大氣壓低的壓力)。并且，通過使主閥和副閥在基板載置于載物臺的 表面的狀態下設定打開狀態，而將保持在所述設定壓力的儲存箱的儲存部 瞬間開放，從而將從副閥至吸引孔的配管內的大氣瞬間吸入儲存部。由此， 能夠在吸引孔迅速地產生吸引力。從而，僅使副閥進行動作即可在吸引孔 迅速地產生吸引力，因此，能夠在不變更吸引力產生裝置的設定壓力的情 況下，縮短吸附基板的吸附時間，進而能夠提高作為涂敷裝置整體的生產 周期。

另外，所述儲存部的容量可以比從所述副閥至所述吸引孔的配管的容 量的總和大。

根據該結構，通過設置儲存箱的儲存部，存在于從副閥至吸引孔的配 管內的大氣全部吸入儲存部，因此，能夠可靠產生吸引孔的吸引力。

另外，可以在所述副配管設置有輔助配管，該輔助配管繞過所述儲存 箱而與吸引側副配管和閥側副配管相連通地連接，其中，所述吸引側副配 管在吸引力產生裝置側連接于所述儲存箱，所述閥側副配管在副閥側連接 于所述儲存箱。

根據該結構，通過瞬間開放保持在設定壓力的儲存箱的儲存部，而將 配置在儲存箱兩側的閥側副配管內及吸引側副配管內的大氣瞬間吸入儲 存箱內。隨之，與吸引側副配管連通的輔助配管內的大氣也通過吸引側副 配管吸入儲存箱內，由此，閥側副配管內的大氣進而通過輔助配管吸入儲 存箱內。即，通過設置該輔助配管，與沒有設置輔助配管的情況相比，閥 側副配管內的大氣吸入儲存箱的流量變大，因此，從閥側副配管至吸引孔 的配管內的大氣瞬間吸入儲存部。由此，能夠更加迅速地產生吸引孔的吸 引力。