[發(fā)明專利]具有橋連碳烯配體的過渡金屬配合物及其在OLED中的用途有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200880120200.3 | 申請日: | 2008-10-17 |
| 公開(公告)號: | CN101896494A | 公開(公告)日: | 2010-11-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | O·莫爾特;C·倫納茨;E·弗茨;K·卡勒;N·蘭格爾;C·席爾德克內(nèi)希特;J·魯?shù)婪?/a>;G·瓦根布拉斯特;渡邊宗一 | 申請(專利權(quán))人: | 巴斯夫歐洲公司 |
| 主分類號: | C07F15/00 | 分類號: | C07F15/00;C07F19/00;H01L51/00;H05B33/00 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務(wù)所 11247 | 代理人: | 劉金輝;林柏楠 |
| 地址: | 德國路*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 橋連碳烯配體 過渡 金屬 配合 及其 oled 中的 用途 | ||
1.一種通式(I)的環(huán)金屬化碳烯配合物:
其中符號各自如下所定義:
M為選自元素周期表(CAS版)第IB、IIB、IIIB、IVB、VB、VIB、VIIB、VIIIB族,鑭系元素和第IIIA族金屬的金屬原子,它們處于合適金屬原子可能的任何氧化態(tài);優(yōu)選Fe、Os、Co、Rh、Ir、Ni、Ru、Pd和Pt、Cu、Au、Ce、Tb、Eu,更優(yōu)選Os、Ru、Rh、Ir和Pt,最優(yōu)選Ir、Os和Pt;
K為不帶電荷的單齒或雙齒配體;
L為單陰離子或雙陰離子配體,優(yōu)選單陰離子配體,其可以是單齒或雙齒的;
X為CH、CR1或N;
Y為S、O、PR2或SiR22;
A、D、G、E、A’、D’、G’和E’各自獨(dú)立地為CH、CR3或N;
R1、R2、R3各自獨(dú)立地為取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C5-C20環(huán)烷基、取代或未取代的C5-C20環(huán)烯基、具有5-30個環(huán)原子的取代或未取代的雜環(huán)烷基、具有5-30個環(huán)原子的取代或未取代的雜環(huán)烯基、取代或未取代的C2-C20鏈烯基、取代或未取代的C2-C20炔基、取代或未取代的C6-C30芳基、具有5-30個環(huán)原子的取代或未取代的雜芳基或選自如下的具有給體或受體作用的取代基:C1-C20烷氧基、C6-C30芳氧基、C1-C20烷硫基、C6-C30芳硫基、SiR4R5R6、鹵素基團(tuán)、鹵代C1-C20烷基、羰基(-CO(R4))、羰硫基(-C=O(SR4))、羰氧基(-C=O(OR4))、氧羰基(-OC=O(R4))、硫羰基(-SC=O(R4))、氨基(-NR4R5)、OH、擬鹵素基團(tuán)、酰胺基(-C=O(NR4R5))、-NR4C=O(R5)、膦酸根(-P(O)(OR4)2)、磷酸根(-OP(O)(OR4)2)、膦(-PR4R5)、氧化膦(-P(O)R42)、硫酸根(-OS(O)2OR4)、亞砜(-S(O)R4)、磺酸根(-S(O)2OR4)、磺?;?-S(O)2R4)、磺酰胺(-S(O)2NR4R5)、NO2、有機(jī)硼酸酯(-B(OR4)2)、亞氨基(-C=NR4R5)、硼烷基團(tuán)、錫烷基團(tuán)、肼基、腙基、肟基、亞硝基、重氮基、乙烯基、亞砜亞胺、鋁烷、鍺烷、環(huán)硼氧烷和環(huán)硼氮烷;
或
R1和R2基團(tuán)一起形成飽和或不飽和、取代或未取代的包含3-6個原子的橋,以使R1和R2基團(tuán)與X-Y基團(tuán)一起形成5-8元環(huán);
或
兩個相鄰R3基團(tuán)一起形成飽和或不飽和、取代或未取代的包含3-6個原子的橋,以使R3基團(tuán)與單元A=D、D-E、A’=D’、D’-E’、E’=G’之一一起形成5-8元環(huán);
或
位于G’和A位置的R3基團(tuán)一起形成飽和或不飽和、取代或未取代的包含1-4個原子的橋,以使R3基團(tuán)與單元-G’-C-C-A-一起形成5-8元環(huán);
R4、R5、R6各自獨(dú)立地為H、取代或未取代的C1-C20烷基或取代或未取代的C6-C30芳基或具有5-30個環(huán)原子的雜芳基;
n為碳烯配體的數(shù)目,其中n至少為1,并且當(dāng)n>1時,式I配合物中的碳烯配體可以相同或不同;
m是配體K的數(shù)目,其中m可以為0或≥1,并且當(dāng)m>1時,配體K可以相同或不同;
o是配體L的數(shù)量,其中o可以為0或≥1,并且當(dāng)o>1時,配體L可以相同或不同;
其中n+m+o之和取決于所用金屬原子的氧化態(tài)和配位數(shù),取決于配體L和K的齒數(shù)以及取決于配體L上的電荷,條件是n至少為1。
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