[發明專利]水處理設備

有效

• 申請號: 200880116095.6
• 申請日: 2008-11-12
• 公開（公告）號: CN101861285A
• 公開（公告）日: 2010-10-13
• 發明（設計）人: 莫里斯·拉卡斯
• 申請（專利權）人: 達格公司
• 主分類號: C02F1/20
• 分類號: C02F1/20;B01D19/00;C02F1/78;C02F9/02;C02F9/04
• 代理公司: 北京正理專利代理有限公司 11257
• 代理人: 張雪梅

1.一種用于處理水的水處理設備，所述設備包括：

a)臭氧處理模塊，用于以臭氧處理所述水；

b)除氣模塊，位于所述臭氧處理模塊下游且與其流體連通，用于從所述水中去除未溶解的氣體并提供基本上氣體飽和的水；

c)過濾模塊，位于所述除氣模塊下游且與其流體連通，用于過濾所述氣體飽和的水，所述過濾模塊包括膜，該膜適于當所述氣體飽和的水流過其時導致壓力下降，所述壓力下降導致微泡的形成。

2.如權利要求1所述的水處理設備，其中所述膜包括開口且其中一部分所述微泡形成于所述膜的開口內。

3.如權利要求1所述的水處理設備，其中所述設備還包括臭氧源，該臭氧源與所述臭氧處理模塊相連，用于為其提供所述臭氧。

4.如權利要求1所述的水處理設備，其中所述臭氧處理模塊還包括臭氧注入單元用于將所述臭氧注入所述水中。

5.如權利要求4所述的水處理設備，其中所述臭氧注入單元為文氏管。

6.如權利要求3所述的水處理設備，其中所述臭氧源包括在所述臭氧處理模塊內。

7.如權利要求3所述的水處理設備，其中所述臭氧處理模塊還包括接觸室，其位于所述臭氧注入單元下游且與其流體連通，用于至少一部分所述臭氧溶解到所述水中。

8.如權利要求6所述的水處理設備，其中所述臭氧處理模塊還包括接觸室，其位于所述臭氧注入單元下游且與其流體連通，用于至少一部分所述臭氧溶解到所述水中。

9.如權利要求1所述的水處理設備，其中所述膜過濾模塊包括至少一個膜過濾器。

10.如權利要求1所述的水處理設備，其中所述膜過濾模塊包括多個膜過濾器。

11.如權利要求10所述的水處理設備，其中所述膜過濾器是并行設置的。

12.如權利要求1所述的水處理設備，其中所述膜包括開口且其中當所述氣體飽和的水流過所述膜中的所述開口時導致所述壓力下降。

13.如權利要求1-12的任一權利要求所述的水處理設備，其中所述設備是完全加壓的。

14.一種用于處理原水的水處理設備，所述設備包括：

a)臭氧處理模塊，其包括：

i)臭氧注入單元，用于將臭氧注入到所述原水中；

ii)接觸室，位于所述臭氧注入單元下游且與其流體連通，用于將至少一部分所述臭氧溶解到所述原水中；

b)除氣模塊，位于所述接觸室下游且與其流體連通，包括除氣器用于從所述經臭氧處理的水中去除未溶解的氣體并提供基本上氣體飽和的水；

c)過濾模塊，位于所述除氣模塊下游且與其流體連通，包括至少一個膜，該膜本身包含多個開口，所述氣體飽和的水可流過所述開口；

此所述氣體飽和的水流過所述膜引起微泡的形成，所述微泡去除和阻止顆粒物在膜中的積累。

15.如權利要求14所述的水處理設備，其中所述設備還包括臭氧源，該臭氧源與所述臭氧注入單元相連，用于為其提供臭氧。

16.如權利要求14所述的水處理設備，其中所述臭氧注入單元為文氏管。

17.如權利要求14所述的水處理設備，其中所述氣體飽和的水流過所述開口引起所述氣體飽和的水壓力下降，借此所述壓力下降引起所述微泡的形成。

18.如權利要求14所述的水處理設備，其中所述臭氧處理單元還包括滯留水再循環裝置，用于使一部分所述氣體飽和的水在流過所述開口之前再循環。

19.如權利要求18所述的水處理設備，其中所述滯留水再循環裝置包括滯留水注入單元，用于將所述部分氣體飽和的水注入到所述原水中，所述滯留水注入單元與所述過濾模塊的滯留水出口流體連通。

20.如權利要求19所述的水處理設備，其中所述滯留水注入單元為文氏管。

21.如權利要求19所述的水處理設備，其中所述滯留水注入單元與所述臭氧注入單元并行設置，借此所述臭氧注入單元接收所述原水的第一部分而所述滯留水注入單元接收所述原水的第二部分。