[發明專利]具有改進的性能的多層可成像元件

有效

• 申請號: 200880102901.4
• 申請日: 2008-08-04
• 公開（公告）號: CN101861245A
• 公開（公告）日: 2010-10-13
• 發明（設計）人: J·帕特爾;T·陶;S·薩雷亞
• 申請（專利權）人: 伊斯曼柯達公司
• 主分類號: B41C1/10
• 分類號: B41C1/10;B41M5/36;G03F7/09;B41M5/42;G03F7/032
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 趙蘇林;韋欣華

發明領域

本發明涉及在成像和顯影后可烘烤性和耐化學品性方面具有各種改進的性能的正性工作多層可成像元件。本發明還涉及使用這些元件獲得平版印刷板的方法和由其得到的圖像。

發明背景

在常規或″濕″平版印刷中，油墨接受區(稱為圖像區域)在親水性表面上產生。當這種表面用水潤濕并施用油墨時，該親水區保持水并排斥油墨，油墨接受區接受油墨并排斥水。將油墨轉移到其上將要復制圖像的材料的表面上。例如，可以首先將油墨轉移到中間轉印布(blanket)上，它進而用于將油墨轉移到其上將要復制圖像的材料的表面上。

可用于制備平版印刷板的可成像元件通常包括施加在基材的親水性表面上的可成像層。這種可成像層包括一種或多種可以分散在適合的粘結劑中的輻射敏感性組分。或者，所述輻射敏感性組分也可以是粘結劑材料。在成像之后，通過適合的顯影劑除去所述可成像層的成像區或未成像區，從而使基材的基礎性親水性表面露出。如果除去成像區域，則元件被認為是正性工作的。相反地，如果除去未成像區域，則元件被認為是負性工作的。在每種情況下，可成像層的保留的區域(即，圖像面積)是油墨接受性的，而通過顯影過程露出的親水表面的區域接受水和水溶液(通常是潤版溶液)并排斥油墨。

可成像元件用紫外和/或可見輻射的成像通常通過具有透明和不透明區域的掩模進行。成像發生在掩模的透明區域下的區域中而不發生在不透明掩模區域下的區域中。如果最終圖像需要校正，則必須制作新的掩模。這是一個耗時的過程。此外，掩模的尺寸可能因溫度和濕度的改變而輕微改變。因此，當用在不同的時間或不同的環境中時，同一掩模可能給出不同的結果而可能引起套色(registration)問題。

直接數字成像已避免了通過掩模成像的需要而在印刷工業中變得越來越重要。已開發出與紅外激光器一起使用的用于制備平版印刷板的可成像元件。熱可成像、多層元件例如，在美國專利6,294,311(Shimazu等)、6,352,812(Shimazu等)、6,593,055(Shimazu等)、6,352,811(Patel等)、6,358,669(Savariar-Hauck等)和6,528,228(Savariar-Hauck等)，和美國專利申請公開2004/0067432?A1(Kitson等)中進行了描述。

美國專利7,049,045(Kitson等)、7,144,661(Ray等)、7,186,482(Kitson等)和7,247,418(Saraiya等)描述了具有改進的耐印刷化學品性并可烘烤以增長印刷機運行時間的多層正性工作可成像元件。

此外，U.S.S.N?11/551,259(由Patel、Saraiya和Tao于2006年10月20日提交)描述了顯示改進的熱顯影后可烘烤性的正性工作可成像元件。

待解決的問題

成像的多層正性工作元件常在顯影后烘烤以增長其印刷機上運行時間。雖然已知的可成像元件表現出優異的成像和印刷性能，但需要改進成像元件的顯影后可烘烤性同時提高成像敏感性(速度)和保持耐印刷化學品性。具體來說，希望降低烘烤溫度和縮短烘烤時間同時保持印刷機上運行時間。進一步希望提高耐印刷化學品性，而不削弱其它性能。

發明概述

本發明提供包含輻射吸收性化合物和具有親水性表面的基材的正性工作可成像元件，且所述基材上依次具有：包含主聚合物粘結劑的內層組合物和油墨接受性外層，條件是在熱成像后所述元件的曝光區域可通過堿性顯影劑除去，其中所述主聚合物粘結劑具有至少40的酸值并由以下結構(I)表示：

-(A)_w-(B)_x-(C)_x-(D)_z-????????(I)

其中

A表示衍生自一種或多種N-烷氧基甲基(烷基)丙烯酰胺或(烷基)丙烯酸烷氧基甲基酯的重復單元，

B表示衍生自一種或多種含側氰基的烯屬不飽和可聚合單體的重復單元，

C表示衍生自一種或多種含一個或多個羧基、磺酸或磷酸酯基的烯屬不飽和可聚合單體的重復單元，

D表示衍生自一種或多種除由A、B和C表示的那些以外的烯屬不飽和可聚合單體的重復單元，

w是3-80wt％，x是10-85wt％，y是2-80wt％，z是10-85wt％。

在另一個方面中，本發明提供形成圖像的方法，包括：

A)將本發明的正性工作可成像元件成像曝光，從而形成具有曝光和未曝光區域的成像元件，