[發(fā)明專利]用于至少兩種顆粒狀材料的填充裝置和使用該裝置的填充方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200880016085.5
• 申請(qǐng)日: 2008-05-21
• 公開（公告）號(hào): CN101743079A
• 公開（公告）日: 2010-06-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 帕斯卡·雷維拉恩德;呂克·費(fèi)代爾佐尼
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 法國原子能委員會(huì)
• 主分類號(hào): B22F3/00
• 分類號(hào): B22F3/00;B28B13/02;B30B15/30;B65B37/12;B65G69/04
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 黨曉林

1.一種可以實(shí)現(xiàn)將至少兩種顆粒狀材料在不混合的情況下同時(shí)填充 的填充裝置，其包括漏斗組件(6)和沿流動(dòng)方向設(shè)置在所述漏斗組件(6) 下游的分配器(8)，所述漏斗組件(6)包括至少兩個(gè)漏斗(10，12)， 即用來供應(yīng)第一種材料(A)的內(nèi)漏斗(10)和用來供應(yīng)第二種材料(B) 的外漏斗(12)，所述分配器(8)包括直接對(duì)著內(nèi)漏斗(10)設(shè)置的中 心通道(14)和將第二種材料(B)向所述分配器外部偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)裝置(16)， 該偏轉(zhuǎn)裝置(16)被設(shè)置為直接對(duì)著外漏斗(12)，所述偏轉(zhuǎn)裝置(16) 至少部分鄰接所述中心通道(14)，所述分配器(8)可以繞縱軸(X)旋 轉(zhuǎn)，所述縱軸(X)的方向是平均流動(dòng)方向，其中所述分配器包括中心軸 (18)，該中心軸的正對(duì)著內(nèi)漏斗(10)的上端(32)形成了用于第一種 材料(A)的偏轉(zhuǎn)表面，在所述中心軸與所述中心通道的壁之間限定有用 于所述第一種材料(A)的環(huán)形槽。

2.如權(quán)利要求1所述的填充裝置，其中所述偏轉(zhuǎn)裝置(16)具有頂 冠形狀(17)，該頂冠形狀(17)的偏轉(zhuǎn)表面是內(nèi)凹復(fù)曲面。

3.如權(quán)利要求1所述的填充裝置，其中所述偏轉(zhuǎn)裝置(16)具有頂 冠形狀(17’)，該頂冠形狀(17’)的偏轉(zhuǎn)表面具有V形橫截面。

4.如權(quán)利要求1至3之一所述的填充裝置，其中縱軸(X)的中心 軸通過葉片(20)與所述中心通道(14)的壁(22)連接。

5.如權(quán)利要求4所述的填充裝置，其中所述葉片(20)被包含在相 對(duì)于縱軸(X)傾斜的平面內(nèi)。

6.如權(quán)利要求1至3之一所述的填充裝置，其中所述偏轉(zhuǎn)表面(32) 具有V形輪廓或者U形輪廓。

7.如權(quán)利要求1至3之一所述的填充裝置，其中所述漏斗組件(6) 包括構(gòu)成所述內(nèi)漏斗的中心槽(10)和構(gòu)成所述外漏斗的外圍槽(12)。

8.如權(quán)利要求7所述的填充裝置，其中所述外圍槽(12)是連續(xù)的， 或者由一系列單獨(dú)的槽構(gòu)成。

9.如權(quán)利要求4所述的填充裝置，其中所述偏轉(zhuǎn)表面(32)具有V 形輪廓或者U形輪廓。

10.如權(quán)利要求4所述的填充裝置，其中所述漏斗組件(6)包括構(gòu) 成所述內(nèi)漏斗的中心槽(10)和構(gòu)成所述外漏斗的外圍槽(12)。

11.使用如權(quán)利要求1至10之一所述的填充裝置來填充容器(2) 的填充方法，該填充方法包括以下步驟：

a)將所述分配器(8)引入所述容器(2)中；

b)繞所述縱軸(X)旋轉(zhuǎn)所述分配器(8)；

c)通過漏斗組件將兩種材料供給到所述分配器(8)。

12.如權(quán)利要求11所述的填充方法，該填充方法包括在填充過程中 調(diào)整所述分配器(8)的旋轉(zhuǎn)速度和/或一個(gè)或兩個(gè)漏斗的流動(dòng)區(qū)域的步驟。

13.如權(quán)利要求12所述的方法，其中所述旋轉(zhuǎn)速度被設(shè)置為能夠使 兩種材料流動(dòng)速率相等的值。