[發(fā)明專利]用于照射圖案形成裝置的照射系統(tǒng)和制造照射系統(tǒng)的方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200880010265.2
• 申請日: 2008-04-03
• 公開（公告）號: CN101681115A
• 公開（公告）日: 2010-03-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: J·B·P·范斯庫特;H·J·M·梅杰爾
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 王新華

1.一種照射系統(tǒng)，包括：

外殼；和

光學(xué)系統(tǒng)，該光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置在所述外殼內(nèi)，所述光學(xué)系統(tǒng)包括至少一個光學(xué)元件，所述光學(xué)系統(tǒng)被構(gòu)造和布置以用從中間焦點發(fā)散的輻射束照射圖案形成裝置，所述中間焦點位于與所述照射系統(tǒng)的底部大致相同的高度水平的位置處或位于所述照射系統(tǒng)的底部下方的位置處。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射系統(tǒng)，其中，所述光學(xué)系統(tǒng)被布置以將所述中間焦點成像在所述圖案形成裝置上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射系統(tǒng)，其中，所述照射系統(tǒng)的底部設(shè)置有用于支撐所述外殼的一個或多個支撐構(gòu)件。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的照射系統(tǒng)，其中，所述中間焦點位于與所述支撐構(gòu)件中的至少一個大致相同的高度水平上。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的照射系統(tǒng)，其中，所述支撐構(gòu)件中的至少一個具有可調(diào)整的高度，用于調(diào)整所述中間焦點相對于所述照射系統(tǒng)的底部所設(shè)置的位置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射系統(tǒng)，其中，所述中間焦點位于所述照射系統(tǒng)的底部下方約0.10米和約2.00米之間的位置處。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的照射系統(tǒng)，其中，所述中間焦點位于所述照射系統(tǒng)的底部下方約0.20米和約1.50米之間的位置處。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的照射系統(tǒng)，其中，所述中間焦點位于所述照射系統(tǒng)的底部下方約0.10米的位置處。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射系統(tǒng)，進一步包括反射鏡，從所述中間焦點發(fā)出的輻射束直接入射到所述反射鏡上。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的照射系統(tǒng)，進一步包括另一反射鏡，所述反射鏡被構(gòu)造和布置以將所述輻射束聚焦到所述圖案形成裝置上，其中，所述反射鏡被布置以將所述輻射束直接反射至所述另一反射鏡。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射系統(tǒng)，進一步包括反射鏡，所述反射鏡被構(gòu)造和布置以將所述輻射束聚焦到所述圖案形成裝置上。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的照射系統(tǒng)，其中，所述中間焦點的位置位于所述外殼外面。

13.一種組件，包括：

照射系統(tǒng)，所述照射系統(tǒng)包括：

外殼；和

光學(xué)系統(tǒng)，所述光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置在所述外殼內(nèi)，所述光學(xué)系統(tǒng)包括至少一個光學(xué)元件，所述光學(xué)系統(tǒng)被構(gòu)造和布置以用從中間焦點發(fā)散的輻射束來照射圖案形成裝置，所述中間焦點位于與所述照射系統(tǒng)的底部大致相同的高度水平的位置處或位于所述照射系統(tǒng)的底部下方的位置處；和

源-收集器模塊，所述源-收集器模塊包括輻射源和用于將所述輻射源成像在所述中間焦點上的收集器。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的組件，其中，所述輻射源位于所述照射系統(tǒng)的底部下方的位置處。

15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的組件，其中，所述源-收集器模塊位于所述照射系統(tǒng)的底部下方的位置處。

16.一種光刻設(shè)備，包括：

照射系統(tǒng)，包括：

外殼；和

光學(xué)系統(tǒng)，所述光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置在所述外殼內(nèi)，所述光學(xué)系統(tǒng)包括至少一個光學(xué)元件，所述光學(xué)系統(tǒng)被構(gòu)造和布置以用從中間焦點發(fā)散的輻射束來照射圖案形成裝置，所述中間焦點位于與所述照射系統(tǒng)的底部大致相同的高度水平或位于所述照射系統(tǒng)的底部下方的位置處；

源-收集器模塊，包括輻射源和用于將所述輻射源成像在所述中間焦點上的收集器；

支撐結(jié)構(gòu)，被構(gòu)造用于支撐所述圖案形成裝置，所述圖案形成裝置被構(gòu)造和布置以將圖案在輻射束的橫截面賦予給所述輻射束以形成圖案化的輻射束；

襯底臺，被構(gòu)造用于保持襯底；和

投影系統(tǒng)，被配置以將所述圖案化的輻射束投影到所述襯底的目標(biāo)部分上。