[發(fā)明專利]用于光致抗蝕劑的抗反射涂料組合物的溶劑混合物

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200880002500.1
• 申請日: 2008-01-16
• 公開（公告）號: CN101583907A
• 公開（公告）日: 2009-11-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 向中;吳恒鵬;莊弘;E·岡薩雷斯;M·O·奈瑟
• 申請（專利權(quán)）人: AZ電子材料美國公司
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/09;C09D7/00
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所
• 代理人: 王 健

1.抗反射涂料組合物，其中該抗反射涂料組合物包含聚合物交 聯(lián)劑和溶劑混合物，其中該溶劑混合物包含至少一種主要有機(jī)溶劑和 至少一種輔助有機(jī)溶劑，其中輔助有機(jī)溶劑選自結(jié)構(gòu)1、2和3的任一 種

其中R₁、R₃和R₄獨(dú)立地選自H和C₁-C₆烷基，并且R₂、R₅、R₆、R₇、 R₈和R₉獨(dú)立地選自C₁-C₆烷基和n＝1-5，

并且其中所述聚合物交聯(lián)劑衍生自至少一種甘脲單體，且所述聚 合物交聯(lián)劑可溶于所述溶劑混合物。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的組合物，其中輔助有機(jī)溶劑的濃度少于溶劑 混合物的25wt％。

3.根據(jù)權(quán)利要求1的組合物，其中輔助有機(jī)溶劑占總?cè)軇┗旌衔? 的1-10重量％。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2的組合物，其中該抗反射涂料組合物在加 速老化之后具有小于100/ml的0.2微米的液體顆粒數(shù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1的組合物，其進(jìn)一步包含酸產(chǎn)生劑。

6.根據(jù)權(quán)利要求5的組合物，其中所述酸產(chǎn)生劑是熱酸產(chǎn)生劑和 /或光酸產(chǎn)生劑。

7.根據(jù)權(quán)利要求1的組合物，其中聚合物交聯(lián)劑吸收用于使光致 抗蝕劑曝光的輻射。

8.根據(jù)權(quán)利要求1的組合物，其進(jìn)一步包含聚合物或聚合物混合 物。

9.根據(jù)權(quán)利要求8的組合物，其中該聚合物包含至少一個選自以 下的結(jié)構(gòu)部分：酚基、與(甲基)丙烯酸酯單體單元相連的羥基、與乙 烯基醚單體單元相連的羥基、與單體單元相連的羧酸基團(tuán)或氨基。

10.根據(jù)權(quán)利要求9的組合物，其中所述聚合物選自羥基苯乙烯 共聚物和聚酯。

11.根據(jù)權(quán)利要求1的組合物，其中甘脲單體包含結(jié)構(gòu)4的結(jié)構(gòu) 部分：

12.根據(jù)權(quán)利要求1的組合物，其中聚合物交聯(lián)劑是甘脲單體和 包含至少一個羥基或酸基的化合物的反應(yīng)產(chǎn)物。

13.根據(jù)權(quán)利要求1的組合物，其中主要有機(jī)溶劑包括至少一種 選自PGMEA、PGME、EEP、乳酸乙酯和其混合物的溶劑。

14.形成圖像的方法，包括：

a)用權(quán)利要求1-10任一項的涂料組合物涂覆基材并且烘焙；

b)將光致抗蝕劑薄膜涂覆在抗反射涂料的頂上并且烘焙；

c)將光致抗蝕劑成像式曝光；

d)將光致抗蝕劑中的圖像顯影；

e)任選地，在曝光步驟之后將基材烘焙。

15.權(quán)利要求14的方法，其中光致抗蝕劑包含聚合物和光活性化 合物。