[發(fā)明專利]疊層成形設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200880000623.1 | 申請日: | 2008-05-30 |
| 公開(公告)號: | CN101541511A | 公開(公告)日: | 2009-09-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 阿部諭;東喜萬;吉田德雄;不破勲 | 申請(專利權(quán))人: | 松下電工株式會社 |
| 主分類號: | B29C67/00 | 分類號: | B29C67/00;B22F3/105;B22F3/16 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 田軍鋒;魏金霞 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 成形 設(shè)備 | ||
1.一種疊層成形設(shè)備,所述設(shè)備包括:
粉末層制備裝置,所述粉末層制備裝置構(gòu)造成制備無機(jī)或有機(jī)粉末材 料的粉末層;以及
光學(xué)單元,所述光學(xué)單元構(gòu)造成將光束照射到所述粉末層的預(yù)期部分 以燒結(jié)或熔融而使所述部分固化成硬化層,使得所述粉末層的制備和所述 硬化層的形成重復(fù)進(jìn)行以制造層疊并一體結(jié)合有多個所述硬化層的三維 物體,
其中,所述設(shè)備還包括:
固定的基座,所述粉末層和所述硬化層承載在所述固定的基座上;
升降架,所述升降架構(gòu)造成圍繞所述固定的基座的外周并能夠相對 于所述固定的基座豎直運(yùn)動,從而在所述基座上方限定出由所述升降架 的內(nèi)表面所圍繞的空間以制備所述粉末層;以及
升降驅(qū)動裝置,所述升降驅(qū)動裝置驅(qū)動所述升降架豎直運(yùn)動。
2.如權(quán)利要求1所述的疊層成形設(shè)備,所述設(shè)備還包括:
銑削單元,所述銑削單元設(shè)置成打磨正在制造的所述三維物體的前體 的表面,
其中,所述銑削單元為數(shù)控機(jī)器的形式,其具有至少能夠相對于三 條軸線進(jìn)行控制并固定于所述基座的工作臺。
3.如權(quán)利要求1或2所述的疊層成形設(shè)備,其中,所述粉末層制備裝 置包括滑板,所述滑板能夠在所述升降架的頂面上滑動并具有粉末供應(yīng) 口,所述粉末供應(yīng)口用于將所述粉末供應(yīng)到形成在所述基座上并由所述升 降架圍繞的所述空間中。
4.如權(quán)利要求3所述的疊層成形設(shè)備,其中,
所述粉末供應(yīng)口的尺寸構(gòu)造成具有垂直于所述滑板的滑動方向的寬 度,所述粉末供應(yīng)口的所述寬度大于所述基座的對應(yīng)寬度。
5.如權(quán)利要求3所述的疊層成形設(shè)備,其中,
所述滑板設(shè)置有用于增大所述粉末的容積密度的構(gòu)件。
6.如權(quán)利要求3所述的疊層成形設(shè)備,其中,
所述滑板設(shè)置有用于平整所述粉末層的表面的構(gòu)件。
7.如權(quán)利要求1或2所述的疊層成形設(shè)備,所述設(shè)備還包括:
遮蔽框,所述遮蔽框設(shè)置在所述升降架上并設(shè)置成具有敞開的底部并 在所述遮蔽框的頂部開口中具有用于使所述光束透過的窗;以及
氛圍氣體供應(yīng)裝置,所述氛圍氣體供應(yīng)裝置用于將氛圍氣體供入所述 遮蔽框內(nèi)。
8.如權(quán)利要求7所述的疊層成形設(shè)備,其中,
所述遮蔽框設(shè)置有用于將所述氛圍氣體以渦旋流的形式供入所述遮 蔽框內(nèi)的渦旋流形成裝置。
9.如權(quán)利要求7所述的疊層成形設(shè)備,所述設(shè)備還包括:
氧氣濃度測量計(jì),所述氧氣濃度測量計(jì)用于測量所述遮蔽框的內(nèi)部空 間中的氧氣濃度;
所述氛圍氣體供應(yīng)裝置構(gòu)造成根據(jù)所述氧氣濃度測量計(jì)的輸出來供 應(yīng)所述氛圍氣體。
10.如權(quán)利要求7所述的疊層成形設(shè)備,所述設(shè)備還包括:
活塞,所述活塞構(gòu)造成在所述遮蔽框內(nèi)豎直運(yùn)動以便供應(yīng)和排放所述 氛圍氣體。
11.如權(quán)利要求7所述的疊層成形設(shè)備,其中,
所述窗是f·θ透鏡的形式。
12.如權(quán)利要求7所述的疊層成形設(shè)備,所述設(shè)備還包括:
清潔裝置,所述清潔裝置構(gòu)造成清潔包括所述窗的內(nèi)表面在內(nèi)的所述 遮蔽框的內(nèi)表面。
13.如權(quán)利要求12所述的疊層成形設(shè)備,其中,
所述清潔裝置包括形成在所述升降架上的清潔構(gòu)件,所述清潔構(gòu)件形 成能夠豎直運(yùn)動并能夠在所述遮蔽框內(nèi)旋轉(zhuǎn)以便清潔包括所述窗的內(nèi)表 面在內(nèi)的所述遮蔽框的內(nèi)表面。
14.如權(quán)利要求12所述的疊層成形設(shè)備,其中,
設(shè)置有能夠在所述升降架的頂面上滑動的多個所述遮蔽框,使得當(dāng)所 述遮蔽框中的一個定位在所述基座上時,另外的遮蔽框處于由所述清潔裝 置進(jìn)行清潔的位置。
15.如權(quán)利要求7所述的疊層成形設(shè)備,其中,
所述光學(xué)單元設(shè)置在所述遮蔽框的側(cè)部上。
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