[實用新型]一種涂布裝置

有效

• 申請號: 200820131235.4
• 申請日: 2008-07-23
• 公開（公告）號: CN201239704Y
• 公開（公告）日: 2009-05-20
• 發明（設計）人: 楊浩;陳祖胖;陳學剛
• 申請（專利權）人: 比亞迪股份有限公司
• 主分類號: B05C11/04
• 分類號: B05C11/04
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司
• 代理人: 王鳳桐;王敬波

技術領域

本實用新型涉及一種用于將液體或膠狀材料均勻涂敷在片材上的涂布裝置。

背景技術

在工業生產中，常常需要將液體或膠狀材料(如高分子材料)涂敷在片材(如各種塑料薄膜、紙張)上，以改善其耐燃性、耐腐蝕性、美觀性等性能。目前，在實際的生產過程中，各種涂布裝置和涂布工藝已經發展得較為成熟，如門輥涂布、氣刀涂布等。

在大規模批量生產之前，為了獲得理想的涂布效果，通常需要在實驗室階段以各種工藝參數進行涂布試驗，以確定何種工藝參數為最佳組合。因此，與工業生產階段不同，在實驗室階段，需要進行少量的涂布作業，從而對涂布后的效果進行評價。

但是，目前較為成熟的各種涂布裝置均適用于大規模、大批量生產中，不能適用于實驗室階段的少量涂布作業。因此，需要提供一種能夠進行少量作業的涂布裝置。

實用新型內容

本實用新型的目的在于克服現有的涂布裝置不適用于少量涂布作業的缺陷，而提供一種適用于少量涂布作業的涂布裝置。

本實用新型提供了一種涂布裝置，其中，該涂布裝置包括具有工作面的工作臺，設置在所述工作臺上的相互平行的二條導軌，以及具有刮刀的支架，該支架與所述導軌配合并能夠沿該導軌移動，所述刮刀朝向所述工作面并與該工作面保持合適的距離。

與傳統的應用于工業生產中的涂布裝置相比，本實用新型所提供的涂布裝置結構簡單，通過使與導軌配合的支架沿該導軌的移動，從而使安裝在支架上的刮刀相對于工作臺的工作面移動，以進行少量的涂布作業。因而，本實用新型所提供的涂布裝置完全能夠適用于實驗室中的少量涂布作業。

附圖說明

圖1為根據本實用新型一種實施方式的涂布裝置的透視圖；

圖2為根據本實用新型一種實施方式的涂布裝置的剖視圖；

圖3為圖2中所示的涂布裝置的導軌的透視圖；

圖4為圖2中所示的涂布裝置的支架的透視圖。

具體實施方式

下面參考附圖對本實用新型的具體實施方式進行詳細的描述。

根據本實用新型的一種實施方式，提供了一種涂布裝置，該涂布裝置包括具有工作面2的工作臺1，設置在工作臺1上的相互平行的二條導軌3，以及帶有刮刀5的支架4，該支架4與所述導軌3配合并能夠沿該導軌3移動，所述刮刀5朝向所述工作面2并與該工作面2保持合適的距離。

按照本實用新型所提供的涂布裝置，在確保刮刀5與工作面2之間具有所需的合適距離的情況下，通過使帶有刮刀5的支架4沿著導軌3移動，帶動刮刀5相對于工作面2移動，從而能夠對鋪設在工作面2上的片材(如PET膜等)完成涂布作業

與現有的用于大規模、大批量生產中的涂布裝置相比，本實用新型所提供的涂布裝置結構簡單，操作方便，可以得到不同的厚度要求的涂布要求，適用于在實驗室中進行小量的涂布作業。

工作臺1用于支撐導軌3，并為涂布作業提供工作面2。當進行涂布作業時，首先要將待涂布的片材(如各種布料)均勻地平鋪在工作臺1的工作面2上，如果需要，還要確保該片材牢固地固定在工作面2上；然后再通過支架4上的刮刀5對涂布材料(如各種樹脂等)在平鋪在工作面2上的片材上進行涂布作業。

顯然，工作面2的平整程度會對涂布后的涂布效果有重要的影響，因此，需要確保工作面2具有較高的平整程度，優選地，該工作面2的平面度的公差范圍為0.1mm，也就是說，工作面2處于兩個相距0.1mm的平行平面之間的范圍內。進一步優選地，工作面2的平面度的公差范圍為0.01mm，從而獲得更為平整的效果。

根據本實用新型的多種實施方式，設置在工作臺1上的導軌3以及與該導軌3配合的支架4可以具有多種不同的形式。

例如，根據本實用新型的一種實施方式，導軌3也可以具有一條，支架4與導軌3的上部配合，且支架4上的刮刀分別對稱地分布在導軌3的兩側，因而，當支架4沿導軌3移動時，刮刀可以在導軌3的兩側與工作臺1的工作面2配合作業。

在優選情況下，為了使支架4與導軌3具有更為可靠的配合關系，如圖1所示，導軌3為兩條且該兩條導軌3相互平行。

在該情況下，由于支架4同時與兩條導軌3相互配合，因而，該支架4可以在上述兩條導軌3的支撐下沿導軌3的延伸方向移動，從而實現支架4和導軌3之間的可靠配合關系。

根據本實用新型的一種實施方式，如圖1、圖2和圖4所示，支架4位于兩條導軌3之間，支架4包括平行于工作面2的橫臂14和支撐該橫臂14的一對支撐臂15，該對支撐臂15分別與兩條導軌3配合。