[實(shí)用新型]對高溫和/或高壓樣品進(jìn)行磁共振測量的裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200820128824.7 | 申請日: | 2008-11-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN201347760Y | 公開(公告)日: | 2009-11-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 羅伯特·弗里德曼;克里什納默西·加尼森;道格拉斯·W·格蘭特 | 申請(專利權(quán))人: | 普拉德研究及開發(fā)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | E21B49/08 | 分類號(hào): | E21B49/08;G01V3/32 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人: | 封新琴 |
| 地址: | 英屬維爾京*** | 國省代碼: | 維爾京群島;VG |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 溫和 高壓 樣品 進(jìn)行 磁共振 測量 裝置 | ||
1.一種對高溫和/或高壓樣品進(jìn)行磁共振測量的裝置,其特征在于包括:
第一流動(dòng)管,其具有縱軸和內(nèi)部區(qū)域并且包含高溫和/或高壓樣品;
一對平行的磁板,其布置在第一流動(dòng)管的相對側(cè)并且垂直于第一流動(dòng)管縱軸磁化;及
天線,其布置在第一流動(dòng)管的內(nèi)部區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的裝置,其中所述磁共振測量為核磁共振測量或電子自旋共振測量。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的裝置,其中所述第一流動(dòng)管由金屬制成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的裝置,其中所述磁板包括一片或多片永磁材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的裝置,還包括磁體組件,其中該磁體組件帶有所述一對磁板。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的裝置,其中所述磁體組件包括高導(dǎo)磁性的外殼。
7.根據(jù)權(quán)利要求5的裝置,其中所述磁體組件包括導(dǎo)線從中經(jīng)過的穿透性導(dǎo)線通道。
8.根據(jù)權(quán)利要求5的裝置,其中所述磁體組件包括所述第一流動(dòng)管從中經(jīng)過的第一流動(dòng)管通道。
9.根據(jù)權(quán)利要求5的裝置,其中所述磁體組件包括第二流動(dòng)管從中經(jīng)過的第二流動(dòng)管通道。
10.根據(jù)權(quán)利要求5的裝置,其中所述磁體組件包括一個(gè)或多個(gè)在磁板和第一流動(dòng)管之間放置的磁極片。
11.根據(jù)權(quán)利要求5的裝置,其中所述磁體組件包括其上安裝磁板的磁體載體,高導(dǎo)磁性外殼,及磁體磁極片。
12.根據(jù)權(quán)利要求11的裝置,其中所述磁體載體具有第一流動(dòng)管從中經(jīng)過的第一孔,第二流動(dòng)管從中經(jīng)過的第二孔,及導(dǎo)線從中經(jīng)過的第三孔。
13.根據(jù)權(quán)利要求1的裝置,其中所述天線為布置在屏蔽層和保護(hù)層之間的線圈。
14.根據(jù)權(quán)利要求1的裝置,還包括脈沖場梯度線圈,其布置在第一流動(dòng)管的外部,但接近第一流動(dòng)管。
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