[實(shí)用新型]批量制備鍍膜顆粒的滾筒式磁控濺射設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200820123627.6
• 申請(qǐng)日: 2008-11-10
• 公開（公告）號(hào): CN201309961Y
• 公開（公告）日: 2009-09-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 杜軍;毛昌輝;楊劍;唐群;楊志民;熊玉華
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京有色金屬研究總院
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35
• 代理公司: 北京北新智誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 朱麗華

1、一種滾筒式磁控濺射設(shè)備，包括濺射室及內(nèi)置的靶托和放置試樣的樣品臺(tái)，其特征在于：所述的濺射室為雙開門可抽拉式結(jié)構(gòu)，靶托與放置試樣的樣品臺(tái)分別固定在兩門上，兩門分別通過(guò)支撐架安置于導(dǎo)軌上且可沿導(dǎo)軌移動(dòng)。

2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的滾筒式磁控濺射設(shè)備，其特征在于：所述固定靶托的門上安裝有扳手，靶托可隨濺射室門上的扳手聯(lián)動(dòng)，門與扳手為可繞固定支點(diǎn)左右180°旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)。

3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的滾筒式磁控濺射設(shè)備，其特征在于：所述的放置試樣的樣品臺(tái)為內(nèi)置滾筒式結(jié)構(gòu)。

4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的滾筒式磁控濺射設(shè)備，其特征在于：所述的滾筒與固定其門為可實(shí)現(xiàn)左右雙向120°旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)。

5、根據(jù)權(quán)利要求3所述的滾筒式磁控濺射設(shè)備，其特征在于：所述的滾筒與固定其門配置有可控制其實(shí)現(xiàn)上、下角度傾斜的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。

6、根據(jù)權(quán)利要求5所述的滾筒式磁控濺射設(shè)備，其特征在于：在滾筒兩側(cè)均設(shè)置60°的倒角擋板。

7、根據(jù)權(quán)利要求3所述的滾筒式磁控濺射設(shè)備，其特征在于：所述的滾筒外壁均勻安置真空加熱電阻絲。

8、根據(jù)權(quán)利要求3所述的滾筒式磁控濺射設(shè)備，其特征在于：所述的滾筒外壁頂部設(shè)有震動(dòng)裝置。