[實(shí)用新型]沉積材料形成鍍層的設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200820112365.3
• 申請(qǐng)日: 2008-08-27
• 公開（公告）號(hào): CN201614406U
• 公開（公告）日: 2010-10-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 丹尼斯·梯爾
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 梯爾涂層有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 林芳芳;王潔

1.一個(gè)沉積材料形成鍍層的設(shè)備包括：電場(chǎng)裝置，用于產(chǎn)生一個(gè)指向一個(gè)待鍍層的基底(‘7：7‘)的電場(chǎng)(E)和磁場(chǎng)裝置(1，2；10，11，12；20)，所述磁場(chǎng)裝置包括至少兩個(gè)磁控管(1，2；10，12)和/或磁體組件，每一個(gè)都具有內(nèi)部部分和相反極性的外部部分，其特征在于所述磁控管和/或磁體陣列設(shè)置為：一個(gè)磁控管和/或磁體組件(1；10)的外部部分和其他，或另一個(gè)磁控管和/或磁體組件(2；12)的外部部分，放置在相鄰位置；并且，至少一個(gè)所述磁控管或磁體組件的外部部分具有相對(duì)于其他或另一個(gè)磁控管和/或磁體組件的外部部分的極性的相反極性。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于磁控管和/或磁體組件被設(shè)置為，鄰近的磁控管和磁體組件具有相反極性的外部環(huán)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于外部極放置的角度相對(duì)于待鍍層的基底(7；7’)的位置放置，使它們?cè)诨咨铣梢粋€(gè)大角度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，其特征在于所述設(shè)備包括多個(gè)磁控體和磁體組件，它們鄰近的外部部分具有相反極性。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的設(shè)備，其特征在于所述磁控管和/或磁體組件(1，2；10，12)放置在所述基底的周圍，并且基底一般在這些磁控管的中心位置。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其特征在于所述磁控管和/或磁體組件是在所述基底周圍一個(gè)多邊形或者環(huán)上的等角的位置。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于有偶數(shù)個(gè)磁控管和/或磁體組件。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于至少有3個(gè)或者4個(gè)磁控管和/或磁體組件。