[實(shí)用新型]一種低能電子加速器束下裝置反應(yīng)器無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200820107509.6 | 申請(qǐng)日: | 2008-03-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN201174259Y | 公開(kāi)(公告)日: | 2008-12-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱南康;錢(qián)衛(wèi)平;王洪;楊明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘇州中核華東輻照有限公司 |
| 主分類號(hào): | G21K5/00 | 分類號(hào): | G21K5/00 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 215200江蘇省吳江市*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 低能 電子 加速器 裝置 反應(yīng)器 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及輻照加工領(lǐng)域,具體地說(shuō)是一種低能電子加速器束下裝置反應(yīng)器。
背景技術(shù)
使用低能電子加速器實(shí)現(xiàn)乳液的輻射交聯(lián)過(guò)程中,使用的束下裝置是一種不銹鋼反應(yīng)器。被輻照流體從循環(huán)罐內(nèi)由一組計(jì)量泵送入到溢流輻照槽,然后被輻照流體溢流至回收槽,由另一組計(jì)量泵將被輻照流體吸出至循環(huán)罐,實(shí)現(xiàn)循環(huán)輻照的過(guò)程。
由于計(jì)量泵產(chǎn)生的流體沖擊使得被輻照流體的輻照液面出現(xiàn)上下波動(dòng),乳液接受電子束的均衡性不好,輻照效果差,現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)此沒(méi)有解決方案。
實(shí)用新型內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷,本實(shí)用新型的目的是提供一種低能電子加速器束下裝置反應(yīng)器,可以有效地避免被輻照流體的輻照液面上下波動(dòng)和被輻照流體滯留,改善被輻照流體接受電子束的均衡性,避免被輻照流體因局部接受劑量過(guò)大而焦化。
為達(dá)到以上目的,本實(shí)用新型采取的技術(shù)方案是:
一種低能電子加速器束下裝置反應(yīng)器,包括內(nèi)部設(shè)有溢流輻照槽1的回收槽2,回收槽2設(shè)有回收槽支架3,回收槽2底部設(shè)有出液管5,回收槽2底部設(shè)有供進(jìn)液管4穿過(guò)的通孔,溢流輻照槽1底部設(shè)有進(jìn)液管4,其特征在于:在溢流輻照槽1內(nèi)設(shè)有通過(guò)支架7固定在進(jìn)液管4管口正上方的液面穩(wěn)定板6,液面穩(wěn)定板6上設(shè)有過(guò)液孔8,過(guò)液孔8的孔徑為4mm~11mm。
在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,所說(shuō)的液面穩(wěn)定板6為圓盤(pán)形,液面穩(wěn)定板6的直徑略大于進(jìn)液管4的管徑,所說(shuō)的支架7的數(shù)量為四個(gè),支架7均勻分布在液面穩(wěn)定板6四周,液面穩(wěn)定板6和支架7通過(guò)螺栓、螺母9連接,液面穩(wěn)定板6上設(shè)有與螺栓適配的螺栓孔10,所說(shuō)的過(guò)液孔8至少為6個(gè)直孔,所說(shuō)的過(guò)液孔8以液面穩(wěn)定板6的中心為圓點(diǎn)均勻分布。
在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,過(guò)液孔8的數(shù)量為7個(gè),其中6個(gè)過(guò)液孔8為一組以液面穩(wěn)定板6的中心為圓點(diǎn)均勻分布,液面穩(wěn)定板6中心設(shè)有1個(gè)過(guò)液孔8。
在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,過(guò)液孔8的數(shù)量為12個(gè),每6個(gè)過(guò)液孔8為一組分成兩組以液面穩(wěn)定板6的中心為圓點(diǎn)均勻分布。
在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,過(guò)液孔8數(shù)量為13個(gè),其中12個(gè)過(guò)液孔8按6個(gè)一組分成兩組以液面穩(wěn)定板6的中心為圓點(diǎn)均勻分布,液面穩(wěn)定板6中心設(shè)有1個(gè)過(guò)液孔8。
在上述技術(shù)方案的基礎(chǔ)上,所說(shuō)的兩組過(guò)液孔8之間以液面穩(wěn)定板6中心為圓點(diǎn)交錯(cuò)30°排列。
本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn):
1.有效地避免被輻照流體的輻照液面上下波動(dòng)和被輻照流體滯留,改善被輻照流體接受電子束的均衡性,避免被輻照流體因局部接受劑量過(guò)大而焦化,可以獲得更好的輻照效果。
2.產(chǎn)品結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,設(shè)計(jì)合理,成本低廉,效果明顯。
附圖說(shuō)明
本實(shí)用新型有如下附圖:
圖1低能電子加速器束下裝置反應(yīng)器剖視示意圖
圖2低能電子加速器束下裝置反應(yīng)器俯視示意圖
圖3液面穩(wěn)定板俯視示意圖
圖4低能電子加速器束下裝置反應(yīng)器側(cè)視示意圖
附圖標(biāo)記:
1為溢流輻照槽,2為回收槽,3為回收槽支架,4為進(jìn)液管,5為出液管,6為液面穩(wěn)定板,7為支架,8為過(guò)液孔,9為螺栓、螺母,10為螺栓孔,11為O型密封圈安裝槽及密封圈。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
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