[實用新型]漿料攪拌裝置

有效

• 申請號: 200820103034.3
• 申請日: 2008-07-16
• 公開（公告）號: CN201239616Y
• 公開（公告）日: 2009-05-20
• 發明（設計）人: 吳強;李廣偉;張易寧
• 申請（專利權）人: 福建國光電子科技股份有限公司
• 主分類號: B01F7/10
• 分類號: B01F7/10
• 代理公司: 福州元創專利商標代理有限公司
• 代理人: 蔡學俊

技術領域

本實用新型涉及一種漿料攪拌裝置。

背景技術

在工業生產中，經常需要對易發生沉降的漿料進行攪拌，以使其在漿料槽內各處保持均勻，如，在固體電解電容器生產的其中一道工序，就是在被制完畢石墨層的鋁箔陰極被覆銀漿層。在被制銀漿的過程中，隨著銀漿靜置時間的延長，銀粉發生自然沉降，使得銀漿底層的銀含量逐漸增大，而上層的樹脂及溶劑含量逐漸增加。被制銀漿時，陰極浸入到銀漿的上層，那么所附著的銀漿中銀的含量逐漸減少，而樹脂及溶劑的含量逐漸增加，那么所制備的電容器的ESR逐漸增大，甚至將出現銀漿無法附著到陰極的現象。因此要周期性或連續對靜置銀漿進行攪拌，如果只是水平方向的攪動，不能很好地將銀漿地底層及上層混合，如果將銀漿回收到其他容器中進行滾動或球磨，則槽壁將粘附較多地銀漿，導致回收的銀漿量及成分發生改變，造成浪費。因此本發明提供了一種在線周期性或連續銀漿攪拌裝置，保證銀漿長時間、穩定地使用。

發明內容

本實用新型的目的在于提供一種漿料攪拌裝置，該裝置不僅攪拌效果好，而且結構簡單，安裝實施方便。

本實用新型采用的技術方案是：這種漿料攪拌裝置，包括機臺和設于機臺上的漿料槽，所述漿料槽上設有與往復攪拌運行方向垂直的攪拌支架，所述攪拌支架下側經支軸與設于漿料槽內的攪拌輪相鉸接，所述攪拌輪由沿支軸長度方向布設的環形側板和連接于環形側板周部之間的攪拌葉片構成，所述環形側板經設于其中部的軸承與支軸相鉸接。

本實用新型的顯著特點是攪拌輪結構簡單，且采用中空結構，由攪拌葉片和環形側板連接而成，整體重量輕，安裝實施方便。同時，該裝置通過試驗對攪拌輪的葉片數、葉片傾角、葉片厚度、寬度以及攪拌速度進行研究，從而得到了最佳的攪拌效果。

此外，該裝置可由電機傳動機構帶動，進行往復攪拌運行，不僅工作效率高，而且自動化程度高。

下面結合附圖及具體實施例對本實用新型作進一步的詳細說明。

附圖說明

圖1是本實用新型實施例的構造示意圖。

圖2是本實用新型實施例攪拌輪的構造示意圖。

圖中，9調速電機，10電機固定板，11滑軌，12滑臺，13限位塊，14同步帶，15同步帶輪，16銀漿槽定位板。

具體實施方式

本實用新型的漿料攪拌裝置，包括機臺1和設于機臺1上的漿料槽2，所述漿料槽2上設有與往復攪拌運行方向垂直的攪拌支架3，所述攪拌支架3下側經支軸4與設于漿料槽2內的攪拌輪5相鉸接，所述攪拌輪5由沿支軸4長度方向布設的環形側板6和連接于環形側板6周部之間的攪拌葉片7構成，所述環形側板6經設于其中部的軸承與支軸4相鉸接。

上述攪拌葉片7均布于環形側板6的周部上，攪拌葉片7同向傾斜且外端傾向攪拌輪5的旋轉方向一側。

上述機臺1上設有用以帶動攪拌支架3往復運行的電機傳動機構8。

上述漿料槽2為矩形，所述攪拌輪5的軸向長度與漿料槽2的寬度相適應，攪拌輪5的直徑大小與漿料槽2的高度相適應。

上述攪拌葉片7與攪拌輪5半徑方向所成的傾角為10～80度。

上述攪拌葉片7的葉片數為2片以上。

下面結合具體實施例，對采用本實用新型的漿料攪拌裝置進行被銀漿的方法進行介紹。

本裝置適用于固體電解電容器的被銀漿工作，所述固體電解電容器的電容器芯片是表明覆蓋有電介質層的閥金屬或氧化物，其中閥金屬是鋁、鉭、鈮或者鈦等，氧化物是一氧化鈮等。

為了充分保證銀漿槽中的銀漿成分均勻，所制作的電容器電性能一致，該銀漿攪拌裝置的攪拌輪為由攪拌葉片和環形側板構成的空心結構。為了保證銀漿在攪拌過程中的攪拌效率以及底層與上層的充分混合，該銀漿攪拌裝置的攪拌葉片的葉片數大于2片，傾角在10～80度之間。在上述條件下，調整電機的轉速使銀漿有效率地進行攪拌，并且不能產生大量氣泡，如20～60轉/分。

將銀漿置于球磨機上滾動一定時間后，倒入銀漿槽，靜置一會，使銀漿面充分流平。將完成石墨層制作的固體電解電容器半成品的陰極浸入銀漿中，幾秒鐘后提起，于干燥箱中烘干，使銀漿變成具有導電性的銀漿層。銀漿使用過程中，每隔一段時間攪拌一次，打開電機的開關，電機傳動機構8即帶動攪拌支架3往復運動。

攪拌裝置中攪拌輪上最好設置葉片，且葉片數量大于2片，葉片小于兩片時攪拌效率太低，葉片的數量根據攪拌輪的直徑、葉片的厚度以及漿料的粘度設置。漿料粘度較大，則葉片數量少，以免攪拌過分而使漿料內部產生大量氣泡，影響被制效果。漿料粘度較小，則應增加葉片數量，以致于底層漿料可以充分達到上層。