[實用新型]廢蝕刻液循環再生及銅的回收處理系統

無效

• 申請號: 200820036434.7
• 申請日: 2008-06-05
• 公開（公告）號: CN201381235Y
• 公開（公告）日: 2010-01-13
• 發明（設計）人: 徐毅
• 申請（專利權）人: 徐毅
• 主分類號: C02F1/26
• 分類號: C02F1/26;C25C1/12
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域：

本實用新型涉及液態混合物的分離技術，尤其涉及一種廢蝕刻液的循環再生技術。

背景技術：

作為電子工業、信息產業和家電行業的基礎，近20年來重污染行業之一的印制電路板行業紛紛向中國轉移，使得中國的印制電路板行業近年一直保持高于10％的年增長速度，目前有多種規模的企業近3000家，年產量達到2億平方米，每年消耗精銅在10萬噸以上，產出的廢蝕刻液中總銅量在5萬噸以上，對社會尤其是PCB周邊地區的水資源構成了嚴重的危害。蝕刻是PCB(印制電路板)生產中耗藥水量較大的工序，也是產生廢液(即危險廢物——廢蝕刻液，按國家環保總局的廢物分類命名)和廢水(即一次洗滌廢水和二次洗滌廢水)最大的工序；一般而言，每生產一平方米正常厚度(18μm)的雙面板消耗蝕刻液約為2～3升，并出廢蝕刻液2～3升、一次洗滌廢水50～75升、二次洗滌廢水80～100升。目前的做法是定時或不定時地從蝕刻槽排出部分銅含量很高的母液——廢蝕刻液，同時向其中添加新的蝕刻液。由于蝕刻的最佳銅濃度在80～100克/升，而外排時則希望銅濃度越高越好(常在135～165克/升)，以盡可能提高蝕刻液利用效率，降低溶液總使用量，因此，不論是采用人工間歇排放工藝還是比重控制的連續排放工藝，實際生產中蝕刻液并未處于最佳技術狀態，并且該廢液中富含銅(135～165克/升)。傳統處理方法是把失效蝕刻液給回收公司生產硫酸銅，這是一種被動的后期治理。采取分散運輸、集中處理的硫酸銅工藝，既浪費了費蝕刻液中的氨、氯化物、硫脲、鉻合銅等資源，而且廢液運輸中存在潛在的事故隱患，其工藝本身對區域性的水系及周邊環境造成了更為嚴重的二次污染，雖然處理方法工藝雖簡單，但是需要消耗大量試劑，產生大量洗滌廢水，或者所得產品純度不夠，并且不能直接再生蝕刻劑，經濟效益低。

國內還有采用離子膜工藝直接在蝕刻液堿性體系下電解提取銅來進行循環再生的方法，由于技術思路問題和離子膜及陰極板的問題，造成電解液氯離子與其他組份相互化學反應，導致再生蝕刻液組份調節困難，生產穩定性差，雙面及高精多層板不能使用，電解時有劇毒氣體氯氣產生，另外由于電解過程中采用不銹鋼板作為陰陽極，造成電解液溫度過高，產出的銅大部分成粉狀，純度較低，同時氨揮發損失大，氨洗液不能循環再生；另外電解銅需每天手工提取一至兩次，導致勞動強度大和氨的流失嚴重等問題。

實用新型內容：

本實用新型的目的就是將有機化工、有色冶金、環境工程及機電一體化技術進行整合，提供一種使蝕刻工序成為零污染排放的清潔生產復合技術——廢蝕刻液循環再生及銅的回收處理系統。

本實用新型是這樣實現的：廢蝕刻液循環再生及銅的回收處理系統由廢蝕刻液萃取系統、蝕刻液循環再生系統和電解系統組成，其特征在于：三個系統通過連接管路相連，所述的連接管路中設有循環泵、管道閥門以及中轉槽。廢蝕刻液萃取系統包括一級萃取缸和二級萃取缸、萃取劑和萃取劑循環缸，在所述一級萃取缸和二級萃取缸上分別設置有蝕刻廢液入口、萃取劑入口和再生液出口，所述萃取劑循環缸分別與一級萃取缸和二級萃取缸連接；

所述蝕刻液循環再生系統包括去除裝置和組份調節缸，所述的一級萃取缸和二級萃取缸通過再生液出口分別與去除裝置連接，所述的去除裝置分別與所述萃取劑循環缸和組份調節缸相連接，所述組份調節缸上設置有出口；

所述的電解系統包括銅反萃缸和電解槽，所述的銅反萃缸與所述電解槽連接，所述的銅反萃缸分別與所述的萃取劑循環缸和二級萃取缸連接。

本實用新型與現有技術相比具有如下優點：

本系統利用“萃取-反萃-電沉積銅”工藝，與蝕刻機相互連接后，自動循環運作，進行蝕刻液和氨洗水的回收及再生工作，蝕刻效果穩定，在技術上使該工序處于蝕刻的最佳狀態，使蝕刻速度最高，側蝕最小；全封閉式系統，無廢水、廢氣及廢物排放，可使蝕刻工序成為清潔生產工序；在產出結果上變有危害的大量液體廢物為無污染之嫌的固體商品——金屬銅，大幅提高PCB企業的副產品收益，符合國家實現清潔生產可持續發展的循環經濟總體戰略發展目標。

附圖說明：

圖1為本實用新型所述廢蝕刻液循環再生及銅的回收處理系統的結構示意圖

具體實施方式：