[實(shí)用新型]顱面形態(tài)測量裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200820028032.2 | 申請日： | 2008-01-04 |
| 公開（公告）號： | CN201135439Y | 公開（公告）日： | 2008-10-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 張艷寧;施建宇;周洪;翟培芳;林增剛;李映 | 申請（專利權(quán)）人： | 西北工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號： | A61B5/107 | 分類號： | A61B5/107 |
| 代理公司： | 西北工業(yè)大學(xué)專利中心 | 代理人： | 黃毅新 |
| 地址： | 710072陜*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 形態(tài) 測量 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
1、一種顱面形態(tài)測量裝置，包括座椅，其特征在于：還包括激光三維掃描儀、旋轉(zhuǎn)臺、支架、滑塊、滑軌，滑軌安放在工作室的地面，滑塊上的U型槽與滑軌配合，卡放在滑軌上并可沿滑軌作360°移動，滑塊上方正中固連一支架，支架上固連一旋轉(zhuǎn)臺，激光三維掃描儀放置在旋轉(zhuǎn)臺上，座椅固定在滑軌圓心處的地面上，面對滑軌的0刻度位置。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述顱面形態(tài)測量裝置，其特征在于：所述的滑軌圓周側(cè)面有刻度線。
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