[發(fā)明專利]膜層結(jié)構(gòu)及使用該膜層結(jié)構(gòu)的電子裝置殼體

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810304792.6
• 申請日: 2008-10-09
• 公開（公告）號: CN101716837A
• 公開（公告）日: 2010-06-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林君鴻;詹博文;何侑倫
• 申請（專利權(quán)）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號: B32B3/22
• 分類號: B32B3/22;B32B15/04;B32B9/04;B32B7/10;H05K5/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種膜層結(jié)構(gòu)及使用該膜層結(jié)構(gòu)的電子裝置殼體。

背景技術(shù)

隨著電子科技的高速發(fā)展，人們對手機(jī)的外觀品質(zhì)要求越來越高。現(xiàn)在有的手機(jī)廠商采用不容易導(dǎo)電的金屬錫，銦等作為鍍膜材料制成一層厚度較大的連續(xù)的金屬膜層，從而使手機(jī)的外殼及屏幕具有金屬質(zhì)感及鏡面效果。但由于連續(xù)的金屬膜層是一層導(dǎo)電薄膜，手機(jī)信號在通過此薄膜時(shí)被這層導(dǎo)電薄膜吸收，引起手機(jī)信號被遮蔽的問題。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，有必要提供一具有鏡面效果并可有效避免信號被遮蔽的膜層結(jié)構(gòu)及使用該膜層結(jié)構(gòu)的電子裝置殼體。

一種膜層結(jié)構(gòu)，用于附著在一基板上，其為一復(fù)合金屬膜層，所述膜層結(jié)構(gòu)由至少一層金屬膜與至少一層介質(zhì)膜交替堆疊而成，所述每層金屬膜均為不連續(xù)的凸塊狀結(jié)構(gòu)，所述介質(zhì)膜由不導(dǎo)電的材料制成。

一種電子裝置殼體，其包括一基板及上述膜層結(jié)構(gòu)，所述膜層結(jié)構(gòu)附著在所述基板上。

本發(fā)明的膜層結(jié)構(gòu)及使用該膜層結(jié)構(gòu)的電子裝置殼體，將每層金屬膜都制成不連續(xù)的凸塊狀結(jié)構(gòu)，且將金屬膜與介質(zhì)膜交替堆疊，從而使所述電子裝置殼體具有鏡面效果并可有效避免電子裝置發(fā)出的信號被所述膜層結(jié)構(gòu)遮蔽。

附圖說明

圖1是本發(fā)明實(shí)施方式提供的膜層結(jié)構(gòu)的示意圖；

圖2是圖1的膜層結(jié)構(gòu)的第一實(shí)施方式的光譜圖；

圖3是圖1的膜層結(jié)構(gòu)的第二實(shí)施方式的光譜圖；

圖4是圖1的膜層結(jié)構(gòu)的第三實(shí)施方式的光譜圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合附圖，對本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。

請參閱圖1，為本發(fā)明實(shí)施方式提供的電子裝置殼體100，其包括一基板110，一附著層120，一膜層結(jié)構(gòu)130及一保護(hù)層140。

所述附著層120，膜層結(jié)構(gòu)130及保護(hù)層140依次堆疊在所述基板110上。

所述基板110用于承載附著層120，膜層結(jié)構(gòu)130及保護(hù)層140。在本實(shí)施方式中，所述基板110為玻璃基板。

所述膜層結(jié)構(gòu)130位于所述附著層120及保護(hù)層140之間。所述膜層結(jié)構(gòu)130為復(fù)合金屬膜層，其由至少一層金屬膜131及至少一層介質(zhì)膜132交替堆疊而成。所述介質(zhì)膜132由不導(dǎo)電的材料制成。由于鏡面效果與金屬的反射率有關(guān)，反射率越大，則鏡面效果越好。但每種金屬膜的反射率都有一個(gè)最大極限值。要使金屬膜的反射率達(dá)到這個(gè)最大極限值，每種金屬膜均對應(yīng)有一個(gè)厚度值。本實(shí)施方式就將這種厚度的金屬膜分割成多層，并在相鄰的兩層金屬膜之間填充介質(zhì)膜，這樣就可保證被分割后的金屬膜的反射率不變。但是由于連續(xù)的金屬膜具有導(dǎo)電性，即使相鄰的金屬膜之間被不導(dǎo)電的介質(zhì)膜分隔開，這樣的復(fù)合金屬膜層仍然會有導(dǎo)電性。根據(jù)金屬鍍膜的制程可知，在金屬鍍膜的過程中，會先形成多個(gè)不連續(xù)的凸塊狀結(jié)構(gòu)，隨著金屬膜厚度逐漸增加，此不連續(xù)的凸塊就會逐漸的相互連在一起，形成一個(gè)連續(xù)的金屬膜。不連續(xù)的凸塊狀的金屬膜不會導(dǎo)電，因此本實(shí)施方式的膜層結(jié)構(gòu)130的金屬膜131就采用這種不連續(xù)的凸塊狀結(jié)構(gòu)。以金屬鋁為例，經(jīng)實(shí)驗(yàn)證明，鋁的最大極限反射率接近60％，此時(shí)鋁膜的厚度為30nm，且鋁膜的厚度為5nm時(shí)還是不連續(xù)的凸塊狀結(jié)構(gòu)，因此為了保證金屬膜為鋁膜的復(fù)合金屬膜層既有較好的鏡面效果又不會導(dǎo)電，同時(shí)又為了方便鍍膜的制程，就將30nm的鋁膜分割成6層，每層厚度均為5nm，然后在相鄰的鋁膜之間填充由二氧化硅制成的介質(zhì)膜，形成包括6層金屬膜及5層介質(zhì)膜的復(fù)合金屬膜層。可以理解，也可將30nm的鋁膜分成不相等的多層，每層的厚度越薄越好，比如第一層為1nm，第二層為2nm等，只要每層金屬膜為不連續(xù)的凸塊狀結(jié)構(gòu)即可。同時(shí)各金屬膜131可分別采用不同的金屬材料，比如第一層為鉻膜，第二層為鋁膜，第三層為銀膜等。可以理解，所述金屬膜131的材料不同，所得到的膜層結(jié)構(gòu)130的反射率不同。

所述附著層120用于連接所述膜層結(jié)構(gòu)130與所述基板110。所述附著層120由不導(dǎo)電材料制成，且該不導(dǎo)電材料與基板110及膜層結(jié)構(gòu)130中的金屬膜131或介質(zhì)膜132均具有良好的粘著性。在本實(shí)施方式中，由于膜層結(jié)構(gòu)130的最內(nèi)層為金屬膜131，基板110為玻璃基板，且二氧化硅薄膜與金屬膜131及玻璃基板的粘著性均比較好，因此就采用二氧化硅薄膜作為附著層120。可以理解，若與附著層120鄰接的金屬膜131或介質(zhì)膜132與所述基板110的粘著性比較好時(shí)，所述附著層120可省去。