[發明專利]鍍膜裝置

無效

• 申請號: 200810304781.8
• 申請日: 2008-10-08
• 公開（公告）號: CN101713063A
• 公開（公告）日: 2010-05-26
• 發明（設計）人: 王仲培
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種鍍膜裝置。

背景技術

為了使產品表面的薄膜純度更高，鍍膜的制程須在真空環境下完成，即 真空鍍膜。真空鍍膜的主要流程是將洗凈后的產品放置在承載部上，將承載 部送入鍍膜機的真空腔內，對真空腔進行加熱和抽氣使其到達鍍膜制程所需 的真空范圍，然后對蒸鍍源加熱，使鍍膜材料變成離子態，接著離子態的鍍 膜材料蒸發到達產品表面，逐漸在產品表面沉積形成薄膜。蒸鍍時間視所鍍 的膜層數和程序的不同而有長短。鍍膜完畢，真空腔冷卻后將承載部取出。

目前隨著產品的光學性能日益復雜，對產品進行雙面鍍膜的需求日益增 加。但現有的真空鍍膜設備中，一次僅能對產品的一面進行鍍膜，若需對產 品進行雙面鍍膜，則必須將真空腔打開，利用人工對承載著產品的承載部進 行翻面。這樣會存在以下缺點：第一，需進行兩次抽真空的動作，比較耗費 時間；第二，蒸鍍時真空腔內的溫度極高，因此人工翻面時，必須等到真空 腔冷卻后才可打開真空腔，將承載部取出，翻面后再將其放入真空腔內，延 長了鍍膜的加工時間；第三，要將真空腔打開兩次，無法保持真空腔內的環 境參數完全一致，導致產品兩面的膜層特征不一致；第四，打開真空腔時， 會造成產品的清潔度下降，進而影響產品良率。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種可使產品自動翻面鍍膜的鍍膜裝置。

一種鍍膜裝置，其包括一真空腔，一旋轉支撐組件，兩個固定臂，兩個 翻轉馬達，一承載部，一蒸鍍源及一控制器。所述旋轉支撐組件可旋轉地固 定于所述真空腔的頂部，所述蒸鍍源對應所述旋轉支撐組件設置在所述真空 腔的底部，所述旋轉支撐組件上設有一紅外線接收器，所述承載部上設置有 一與所述紅外線接收器相對應的紅外線發射器。所述兩個固定臂分別固定在 所述旋轉支撐組件的相對兩端。所述承載部可旋轉的連接在所述兩個固定臂 上。所述翻轉馬達包括一馬達本體及一翻轉軸。所述馬達本體能夠帶動所述 翻轉軸轉動。所述馬達本體固定在所述固定臂上，所述翻轉軸與所述承載部 相固接。所述控制器同時與兩個翻轉馬達及紅外線接收器相電連接，用于控 制翻轉馬達的轉速，實現兩個翻轉馬達同步轉動，同時當紅外線接收器接收 到紅外信號之后，所述控制器可發出指令使承載部停止轉動。

本發明的鍍膜裝置利用翻轉馬達使承載部自動翻面，利用分別設置在旋 轉支撐組件及承載部上的紅外線接收器及紅外線發射器，并結合一與紅外線 接收器電連接的控制器，實現對承載部翻面后的定位，因此不需打開真空腔 就可使產品自動翻面，進行雙面鍍膜，減少了加熱和抽真空的次數，大大縮 短了產品的鍍膜時間。

附圖說明

圖1是本發明第一實施方式提供的鍍膜裝置的結構示意圖；

圖2是圖1的鍍膜裝置中的承載部翻轉前的示意圖；

圖3是圖1的鍍膜裝置中的承載部翻轉后的示意圖；

圖4是本發明第二實施方式提供的鍍膜裝置的結構示意圖。

具體實施方式

下面將結合附圖，對本發明作進一步的詳細說明。

請參閱圖1及圖2，為本發明第一實施方式提供的一種鍍膜裝置100， 用于對產品200進行鍍膜。所述鍍膜裝置100包括一真空腔110，一旋轉支 撐組件120，兩個固定臂130，兩個翻轉臂140，兩個翻轉馬達150，一承載 部170，一蒸鍍源180，及一控制器190。

所述旋轉支撐組件120包括一支撐架121，一旋轉軸122及一旋轉馬達 123，所述旋轉馬達123固定在所述真空腔110的頂部，所述支撐架121連 接在所述旋轉軸122的一端，所述旋轉軸122的另一端與所述旋轉馬達123 相連接，從而使支撐架121在旋轉馬達123的帶動下可在水平面內進行旋轉。 所述支撐架121的底部設置一紅外線接收器126。

所述兩個固定臂130分別平行固定在所述支撐架121的相對兩端。

所述兩個翻轉臂140分別可旋轉的連接在所述固定臂130的內側。

所述翻轉馬達150包括一馬達本體151及一翻轉軸152，所述馬達本體 151可帶動所述翻轉軸152轉動。所述馬達本體151固定在所述固定臂130 上，所述翻轉軸152與所述翻轉臂140相固接。