[發明專利]鍍膜支架

無效

• 申請號: 200810301446.2
• 申請日: 2008-05-06
• 公開（公告）號: CN101575699A
• 公開（公告）日: 2009-11-11
• 發明（設計）人: 簡士哲
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業(深圳)有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;G02B1/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種鍍膜支架，其包括：

一個支架本體，所述支架本體具有一中心轉軸，所述支架本體可繞所述中 心轉軸旋轉，所述支架本體上設置有多個容置通孔；

至少一基片夾具，每個基片夾具對應設置于每個容置通孔中，所述基片夾 具和所述支架本體之間通過轉軸連接，每個基片夾具相連的轉軸處設有一 翻面導向槽，所述翻面導向槽由一第一擋塊及一第二擋塊共同配合形成， 所述第一擋塊與所述第二擋塊相互分離，所述第一擋塊為半月形，所述第 二擋塊一端為圓弧形一端為方形，所述第二擋塊設置于所述第一擋塊的半 月形內部，且圓弧形的一端靠里，所述第一擋塊與所述第二擋塊之間的間 隙形成所述翻面導向槽，所述翻面導向槽具有開放的兩端；及

一個翻面控制裝置，所述翻面控制裝置包括至少一翻面桿及一控制元件， 所述控制元件用于控制所述翻面桿移動至與所述基片夾具的翻面導向槽 接近的位置，以使所述支架本體繞所述中心轉軸旋轉時，所述翻面桿在所 述翻面導向槽的導引下自所述翻面導向槽的一端進入，沿所述翻面導向槽 移動，之后從所述翻面導向槽的另一端滑出，帶動所述基片夾具翻面。

2.如權利要求1所述的鍍膜支架，其特征在于，所述翻面導向槽設置于每一 基片夾具的轉軸末端的外側。

3.如權利要求1所述的鍍膜支架，其特征在于，所述翻面導向槽為圓弧形。

4.如權利要求1所述的鍍膜支架，其特征在于，所述支架本體為半圓球面狀，

所述多個容置通孔呈行列排布于所述支架本體上，每一行上的多個容置通 孔位于同一條水平線上。

5.如權利要求1所述的鍍膜支架，其特征在于，所述控制元件為電動馬達、 電磁泵或磁流電動機。

6.如權利要求1所述的鍍膜支架，其特征在于，所述基片夾具具有多個通孔， 用于容置待鍍膜工件。

7.如權利要求1所述的鍍膜支架，其特征在于，所述基片夾具材料選自銅、 鋁、不銹鋼或塑膠中的一種或幾種。

8.如權利要求1所述的鍍膜支架，其特征在于，所述支架本體材料選自銅、 鋁及不銹鋼中的一種或幾種。