[發明專利]一種高光學質量硒化鋅的制備方法有效
| 申請號: | 200810246543.6 | 申請日: | 2008-12-25 |
| 公開(公告)號: | CN101759161A | 公開(公告)日: | 2010-06-30 |
| 發明(設計)人: | 蘇小平;王鐵艷;張福昌;霍承松;魏乃光;趙永田;魯泥藕;付利剛 | 申請(專利權)人: | 北京有色金屬研究總院;北京國晶輝紅外光學科技有限公司 |
| 主分類號: | C01B19/04 | 分類號: | C01B19/04 |
| 代理公司: | 北京眾合誠成知識產權代理有限公司 11246 | 代理人: | 童曉琳 |
| 地址: | 100088*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光學 質量 硒化鋅 制備 方法 | ||
1.一種高光學質量硒化鋅的制備方法,采用化學氣相沉積工藝,其特征在 于,該方法步驟為,
(1)將鋅放入沉積爐內;
(2)通過真空泵對沉積爐抽真空,使真空度為1×104~5×104Pa;
(3)將沉積室升溫至450~600℃,鋅融化并蒸發后,繼續升溫至650~800℃, 并保溫;
(4)以氬氣作為反應原料氣體H2Se的攜帶氣體,通過質量流量計將H2Se氣體 按照設定值0.5~2L/min、氬氣按照5~20L/min的流量通入沉積室中,鋅與H2Se 的摩爾比為0.8~1.2,沉積室內壁發生沉積反應,硒化鋅開始生長;
(5)每隔一個小時檢測一次Zn的蒸發量,通過調節質量流量計使得H2Se與鋅 的摩爾比保持不變,隨時監測沉積室的壓力,通過調整真空泵的抽氣速率,保持 進/出沉積室氣體總量不變,沉積室內壓力恒定,沉積時間為15~25天,然后以 0.1~0.5℃/min的降溫速率降至室溫,得到高光學質量的硒化鋅。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京有色金屬研究總院;北京國晶輝紅外光學科技有限公司,未經北京有色金屬研究總院;北京國晶輝紅外光學科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810246543.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:駐極體背極式雙振膜電聲致動器及其制法
- 下一篇:揚聲器改良結構





