[發明專利]等離子體加工設備

有效

• 申請號: 200810224715.X
• 申請日: 2008-12-09
• 公開（公告）號: CN101754564A
• 公開（公告）日: 2010-06-23
• 發明（設計）人: 韋剛
• 申請（專利權）人: 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司
• 主分類號: H05H1/46
• 分類號: H05H1/46;H01L21/00;H01J37/32
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 逯長明

1.一種等離子體加工設備，其特征在于，包括：相對設置的第一電極板 和第二電極板，匹配裝置，功率分配裝置和電源裝置；

所述第一電極板包括至少兩個相互絕緣的子電極板，所述第二電極板用 于承載待加工的襯底，

所述電源裝置通過所述匹配裝置與所述功率分配裝置連接，

所述功率分配裝置與所述第一電極板連接，用于將電源裝置的功率分配 輸入到所述各個子電極板，在每個子電極板和第二電極板之間獲得獨立的電 場分布，進而控制每一個子電極板下方產生的等離子體密度；

其中，所述至少兩個子電極板包括第一子電極板、第二子電極板，所述 功率分配裝置包括第一電容、第二電容，所述匹配裝置與所述第一子電極板 直接連接，所述第二電容與所述第二子電極板并聯后再與所述第一電容串聯 連接到所述匹配裝置。

2.根據權利要求1所述的等離子體加工設備，其特征在于，所述至少兩 個子電極板還包括第N子電極板，所述功率分配裝置還包括第M-1電容、第 M電容，所述第M電容與所述第N子電極板并聯后再與所述第M-1電容連 接組成串聯電路，所述串聯電路再與第N-1子電極板并聯，其中，N、M均 為自然數，且N≥3，M＝2N-2。

3.根據權利要求1或2所述的等離子體加工設備，其特征在于，多個所 述電容中至少一個用電感替代，或者多個所述電容中的至少一個用電感和電 容的組合替代。

4.根據權利要求3所述的等離子體加工設備，其特征在于，所述電感為 可調電感。

5.根據權利要求1或2所述的等離子體加工設備，其特征在于，所述電 容為可調電容。

6.根據權利要求1或2所述的等離子體加工設備，其特征在于，所述至 少兩個子電極板在平行于所述第二電極板的平面內并列分布、中心對稱分布、 軸對稱分布或同心嵌套式分布。

7.根據權利要求1或2所述的等離子體加工設備，其特征在于，所述至 少兩個子電極板的形狀可以相同也可以不同，所述子電極板為矩形、圓形或 橢圓形。