[發明專利]一種IC專用掩膜板上黑點類缺陷的修補方法有效
| 申請號: | 200810216703.2 | 申請日: | 2008-10-13 |
| 公開(公告)號: | CN101382731A | 公開(公告)日: | 2009-03-11 |
| 發明(設計)人: | 荊學軍 | 申請(專利權)人: | 清溢精密光電(深圳)有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/00 | 分類號: | G03F1/00;G03F1/08 |
| 代理公司: | 深圳中一專利商標事務所 | 代理人: | 張全文 |
| 地址: | 518057廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 ic 專用 掩膜板上 黑點 缺陷 修補 方法 | ||
技術領域
本發明屬于IC專用掩膜板缺陷修補技術領域,尤其涉及一種IC專用掩膜板上黑點類缺陷的修補方法。
背景技術
IC專用掩膜板(也可稱為Reticle)為IC行業對曝光用并已經貼了鉻掩膜板專用保護膜(也可稱為Pellicle膜)的鉻掩膜板(也可稱為Chrome-Mask)的一種學術稱謂,它主要有兩部分組成:一部分為鉻掩膜板,另一部分為透過率≥99%的鉻掩膜板專用保護膜。其中,鉻掩膜板由Layer?Design?Data(即Pattern圖形)和Quartz?and?Chrome?Substrate組成,所述Layer?Design?Data布滿Quartzand?Chrome?Substrate的表面。
在鉻掩膜板制作過程中會產生一些黑點類缺陷,其中主要是一些Chrome殘留點和小臟點,主要由于激光刻寫環境不達標或顯影不良或者清洗鉻掩膜板時清洗制程異常以及傳遞過程中環境不達標產生的。由于黑點類缺陷在產品的使用過程中會阻礙光的透過,需要去除才能正常使用。
實踐中,在貼鉻掩膜板專用保護膜膜之前,受顯微鏡檢驗倍數的影響,此類缺陷容易漏檢,但在貼專用保護膜膜后,使用貼膜后的檢驗方式就能夠檢出此類缺陷。
目前行業內去除鉻掩膜板上此類黑點類缺陷的方法是把鉻掩膜板專用保護膜去除后再去除缺陷,這種處理方法的缺點是:1、除下鉻掩膜板專用保護膜時容易蹭傷鉻掩膜板,影響鉻掩膜板的質量;2、缺陷去除時間長,流程復雜,影響客戶的交貨期。
發明內容
本發明的目的在于提供一種IC專用掩膜板上黑點類缺陷的修補方法,旨在解決去除IC專用掩膜板上黑點類缺陷需要將IC專用掩膜板上設有的鉻掩膜板專用保護膜去掉從而容易導致鉻掩膜板損壞的問題。
本發明是這樣實現的,一種IC專用掩膜板上黑點類缺陷的修補方法,其特征在于它包括以下步驟:(1)將IC專用掩膜板的膜面向上放在IC專用掩膜板修補儀上,使用IC專用掩膜板修補儀上設有的顯微鏡確定IC專用掩膜板的黑點類缺陷的位置;(2)打開IC專用掩膜板修補儀上設有的激光器,根據黑點類缺陷大小和種類選擇與之相對應的修補光斑和修補工藝將黑點類缺陷修補掉,所述IC專用掩膜板由鉻掩膜板和鉻掩膜板專用保護膜組成,所述激光器的發射功率為250mw至500mw之間,以使黑點類缺陷氣化,并且使所述鉻掩膜板專用保護膜不被破壞;(3)修補完成后把IC專用掩膜板從IC專用掩膜板修補儀上取下,完成修補操作。
采用以上方案后,用鐳射修補儀上設有的激光器直接可以將IC專用掩膜板上的黑點類缺陷去除,而不用將專用保護膜從鉻掩膜板上去掉再用激光器去除,其技術效果為有以下兩點:1、修補IC專用掩膜板黑點內缺陷時不用將鉻掩膜板專用保護膜從鉻掩膜板上除下,防止鉻掩膜板被蹭傷;2、修補IC專用掩膜板的缺陷流程簡單,用時間較短。
附圖說明
圖1為本發明一種IC專用掩膜板上黑點類缺陷的修補方法提供的實施例中IC專用掩膜板的示意圖。
具體實施方式
為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白,以下結合附圖及實施例,對本發明進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明,并不用于限定本發明。
請參閱圖1,IC專用掩膜板1是由鉻掩膜板2和鉻掩膜板專用保護膜3組成,其中由鉻掩膜板2包括Layer?Design?Data(也可稱Pattern圖形)和Quartz?andChrome?Substrate(圖中均未示出)。
本發明一種IC專用掩膜板上黑點類缺陷的修補方法由以下四個步驟組成:
(1)、將有黑點類缺陷的IC專用掩膜板1放在Olympus顯微鏡檢查儀(圖中未示出)下檢查,將檢查到的黑點類缺陷(主要是Chrome殘留點或小臟點)的坐標圖標注到生產用的檢驗記錄(圖中未示出)上;采用該步驟可快速準確檢測IC專用掩膜板1黑點類缺陷的位置,大大節約了步驟(2)的檢查時間。
(2)、將IC專用掩膜板1用鉻版傳遞盒(圖中未示出)傳遞到鐳射修補儀房間(圖中未示出),該鐳射修補儀房間的凈化等級為1000級以上,室內溫度為22±1℃,室內濕度為45%至70%。把IC專用掩膜板1的膜面向上放在置于鐳射修補儀房間內型號為JCY-3的鐳射修補儀上(圖中未示出),所述JCY-3的鐳射修補儀由顯微鏡、激光器和操作平臺三個部分組成,參照步驟(1)的檢查記錄,使用該鐳射修補儀設有的顯微鏡根據檢驗記錄上的坐標圖找到Chrome殘留點或小臟點,并最終把顯微鏡的倍數調到500倍,然后微調聚焦按鈕,一直到能夠在顯示屏上清晰的看到Chrome殘留點或小臟點為止;
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G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





