[發(fā)明專利]圖案化晶圓缺點(diǎn)檢測(cè)系統(tǒng)及其方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810210608.1
• 申請(qǐng)日: 2008-08-04
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101358935A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-02-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 阿曼努拉·阿杰亞拉里;京林;春林·盧克·曾
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 半導(dǎo)體技術(shù)設(shè)備私人有限公司
• 主分類號(hào): G01N21/956
• 分類號(hào): G01N21/956;G01R31/00;G01B11/00
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司
• 代理人: 王敏杰

1.一個(gè)用于檢測(cè)半導(dǎo)體裝置的系統(tǒng)，其特征在于，包括：

一個(gè)基于計(jì)算機(jī)運(yùn)行的區(qū)域選擇系統(tǒng)，所述的區(qū)域選擇系統(tǒng)從一個(gè)半導(dǎo) 體晶圓上選取多個(gè)區(qū)域，所述半導(dǎo)體晶圓分為多個(gè)半導(dǎo)體晶片，所述區(qū)域包 括多個(gè)半導(dǎo)體晶片；

一個(gè)基于計(jì)算機(jī)運(yùn)行的區(qū)域金模板系統(tǒng)，所述的金模板系統(tǒng)為所述多個(gè) 區(qū)域內(nèi)的每一個(gè)區(qū)域生成一個(gè)區(qū)域金模板，每一個(gè)所述區(qū)域金模板基于與一 個(gè)區(qū)域內(nèi)的多個(gè)半導(dǎo)體晶片相對(duì)應(yīng)的多個(gè)晶片圖像產(chǎn)生一個(gè)基準(zhǔn)晶片圖像； 以及，

一個(gè)組金模板系統(tǒng)，所述的組金模板系統(tǒng)生成多個(gè)組金模板，每一個(gè)所 述組金模板基于兩個(gè)或更多個(gè)所述區(qū)域金模板產(chǎn)生一個(gè)基準(zhǔn)晶片圖像。

2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，進(jìn)一步包括：

一個(gè)主金模板系統(tǒng)，所述的主金模板系統(tǒng)從多個(gè)組金模板中生成一個(gè)主金 模板，所述主金模板產(chǎn)生一個(gè)基準(zhǔn)晶片圖像；

一個(gè)用于檢測(cè)半導(dǎo)體晶片的檢測(cè)系統(tǒng)，其中，主金模板首先被用來(lái)檢測(cè)半 導(dǎo)體晶片，如果晶片圖像的主金模板檢測(cè)失敗了，那么多個(gè)組金模板被用來(lái) 檢測(cè)半導(dǎo)體晶片，如果用組金模板進(jìn)行的一個(gè)或多個(gè)檢測(cè)通過(guò)，那么半導(dǎo)體 晶片檢測(cè)通過(guò)。

3.如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，進(jìn)一步包括一個(gè)主晶片檢測(cè)系統(tǒng)， 以及一個(gè)組晶片檢測(cè)系統(tǒng)，如果由所述主晶片檢測(cè)系統(tǒng)進(jìn)行的晶片圖像檢測(cè) 失敗了，則用所述組晶片檢測(cè)系統(tǒng)比較一個(gè)晶片圖像和至少一個(gè)組金模板， 其中，每個(gè)組金模板與所述主金模板中的部分相對(duì)應(yīng)。

4.如權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)，其特征在于，進(jìn)一步包括一個(gè)區(qū)域晶片檢測(cè)系 統(tǒng)，如果由主晶片檢測(cè)系統(tǒng)和組晶片檢測(cè)系統(tǒng)進(jìn)行的晶片圖像檢測(cè)均失敗了， 則用所述區(qū)域晶片檢測(cè)系統(tǒng)比較一個(gè)晶片圖像和至少一個(gè)區(qū)域金模板。

5.如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其特征在于，進(jìn)一步包括：

一個(gè)主晶片檢測(cè)系統(tǒng)，比較一個(gè)晶片圖像和所述的主金模板；

一個(gè)中間晶片檢測(cè)系統(tǒng)，比較所述的晶片圖像和所述的組金模板中的一 個(gè)。

6.如權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)，其特征在于，進(jìn)一步包括一個(gè)區(qū)域晶片檢測(cè)系 統(tǒng)，比較所述的晶片圖像和區(qū)域金模板中的一個(gè)。

7.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，進(jìn)一步包括一個(gè)照明選擇系統(tǒng)， 選擇兩個(gè)或多個(gè)不同照明裝置的一個(gè)，來(lái)照亮所述的半導(dǎo)體晶圓不論生成區(qū) 域金模板或者生成組金模板都需要所述照明選擇系統(tǒng)。

8.如權(quán)利要求1或2所述的系統(tǒng)，其特征在于，進(jìn)一步包括一個(gè)晶圓控制 系統(tǒng)，用于移動(dòng)并檢測(cè)多個(gè)獨(dú)立的半導(dǎo)體晶片中的每一個(gè)。

9.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述區(qū)域選擇系統(tǒng)選擇一個(gè)半 導(dǎo)體晶圓上的一個(gè)或多個(gè)區(qū)域被檢測(cè)，從該晶圓上，該區(qū)域的金模板已經(jīng)生 成，并且所述區(qū)域選擇系統(tǒng)檢測(cè)從其中提煉出一個(gè)金模板的預(yù)定區(qū)域，或者 評(píng)估亮度改變，特征位置內(nèi)的不同，或者柱狀圖數(shù)據(jù)來(lái)檢測(cè)該區(qū)域，該區(qū)域 的金模板已經(jīng)生成。

10.一種檢測(cè)半導(dǎo)體部件的方法，其特征在于，包括：

利用計(jì)算機(jī)比較一個(gè)晶片圖像和一個(gè)主金模板，其中主金模板表示所述 晶片圖像中預(yù)先定義的區(qū)域，所述主金模板產(chǎn)生一個(gè)基準(zhǔn)晶片圖像；

如果所述的晶片圖像沒(méi)有通過(guò)其與主金模板的對(duì)比，則利用計(jì)算機(jī)比較 所述的晶片圖像和一組金模板，其中，所述主金模板由多個(gè)組金模板所產(chǎn)生， 所述組金模板產(chǎn)生一個(gè)基準(zhǔn)晶片圖像。

11.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，進(jìn)一步包括，如果所述的晶片 圖像沒(méi)有通過(guò)其與所述組金模板的對(duì)比，則比較所述的晶片圖像和一個(gè)區(qū)域 金模板，所述區(qū)域金模板產(chǎn)生一個(gè)基準(zhǔn)晶片圖像，基于與在一個(gè)半導(dǎo)體晶圓 區(qū)域內(nèi)的多個(gè)半導(dǎo)體晶片相對(duì)應(yīng)的多個(gè)晶片圖像而產(chǎn)生。

12.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，如果所述的晶片圖像沒(méi)有通過(guò) 其與主金模板的對(duì)比，則比較晶片圖像和所述的組金模板的過(guò)程包括比較所 述的晶片圖像和兩個(gè)或多個(gè)組金模板中的每一個(gè)。