[發(fā)明專利]一類含有嘧啶酮苯基的化合物、其藥物組合物及其制備方法和用途無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810204368.4 | 申請日: | 2008-12-10 |
| 公開(公告)號: | CN101747282A | 公開(公告)日: | 2010-06-23 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉正;李劍峰;楊小軍;王震;張金鳳;朱毅;沈敬山 | 申請(專利權)人: | 上海特化醫(yī)藥科技有限公司;中國科學院上海藥物研究所 |
| 主分類號: | C07D239/36 | 分類號: | C07D239/36;C07D403/12;C07H15/26;A61K31/513;A61K31/5377;A61K31/7068;A61P43/00 |
| 代理公司: | 北京金信立方知識產權代理有限公司 11225 | 代理人: | 朱梅;黃麗娟 |
| 地址: | 201209 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一類 含有 嘧啶 苯基 化合物 藥物 組合 及其 制備 方法 用途 | ||
1.如下式I所示的含有嘧啶酮苯基的化合物、其藥學上可接受的鹽或其溶劑化物:
其中,
R1和R2各自獨立地代表H,C1-C10烷基,C3-C6鏈烯基,C3-C6環(huán)烷基,鹵素,CF3,CN,NO2,OR5,NR6R7,NHSO2NR6R7,CONR6R7,CO2R8,NHCOR8,芳基,Het,非必需地被芳基、OR5、NR6R7、CN、CONR6R7或CO2R8取代的C1-C4烷基,或者非必需地被CN、CONR6R7或CO2R8取代的C2-C4鏈烯基;且當R1為CONR6R7或CO2R8時,R2不為H;
Z代表OR3,NR3R10,COR11,NHCOR15或OCOR15;
R3代表C1-C6烷基,C3-C6環(huán)烷基,C3-C6鏈烯基,C1-C3鹵代烷基,或者被C1-C3烷氧基或C3-C6環(huán)烷基取代的C1-C3烷基;
R4代表NO2,CN,SO2NR6R7,NR9R10,COR11,OR12,非必需地被OH、CN、C1-C4烷氧基、NR6R7、CONR6R7或CO2R8取代的C2-C4烷基,非必需地被CN、CONR6R7或CO2R8取代的C2-C4鏈烯基;或者R4代表5~7元雜環(huán)基,所述5~7元雜環(huán)基非必需地被選自OH、COOR8、CONH2、C1-C6烷基、被鹵素或烷氧基或羥基取代的C1-C6烷基、C1-C4烷氧基、C3-C6環(huán)烷基、芳基和Het中的一個或者多個取代基取代;
R5代表H,C1-C6烷基,C3-C6鏈烯基,C3-C6環(huán)烷基,非必需地被OH、C1-C4烷氧基或NR6R7取代的C1-C4烷基,芳基或Het;
R6和R7各自獨立地代表H,C1-C6烷基,C3-C6環(huán)烷基,C3-C6內酰胺基,芳基或Het;或者R6和R7各自獨立地代表非必需地被OH、C1-C4烷氧基、NR13R14、芳基、Het或4~8元雜環(huán)基取代的C1-C3烷基,所述4~8元雜環(huán)基非必需地被選自OH、COOR8、CONH2、COR16、SO2R16、C1-C6烷基、被鹵素或烷氧基或羥基取代的C1-C6烷基、C1-C4烷氧基、C3-C6環(huán)烷基、芳基和Het中的一個或者多個取代基取代;或者R6和R7與它們相連的氮原子共同構成4~8元雜環(huán)基,所述4~8元雜環(huán)基非必需地被選自OH、COOR8、CONH2、COR16、SO2R16、C1-C6烷基、被鹵素或烷氧基或羥基取代的C1-C6烷基、C1-C4烷氧基、C3-C6環(huán)烷基、芳基和Het中的一個或者多個取代基取代;或者R6和R7與它們相連的氮原子共同構成氨基酸殘基或氨基酰胺殘基;
R8代表H,C1-C6烷基或芳基;
R9代表H,C1-C6烷基或SO2R16;
R10代表H,C1-C6烷基,COR15,SO2NR6R7,SO2R16,非必需地被一個或者多個選自C1-C6烷基、三甲基硅基、芐基和乙酰基中的取代基取代的五元或六元單糖基;或者R10代表五元雜環(huán)基,所述5元雜環(huán)基非必需地被取代基取代;或者當R9為H時,R10代表氨基酸殘基,且非必需地被OH、C1-C6烷基、C1-C4烷氧基、COR16、芐基、芐氧羰基和叔丁氧羰基中的一個或者多個取代;
R11代表H,OH,C1-C6烷基,芳基,Het,NH(CH2)kNH2,NH(CH2)kNHSO2R16,NH(CH2)kNHCOR16,其中k代表0~4;被鹵素、OH或C1-C6烷氧基取代的C1-C3烷基,或者(CH2)mNR6R7,其中m代表0~2;或者R11代表氨基酸殘基或氨基酰胺殘基,且非必需地被C1-C6烷基或C1-C4烷氧基取代;
R12代表H,COR19,SO2R16,或者非必需地被一個或多個取代基取代的五元或六元單糖基,所述取代基選自C1-C6烷基、三甲基硅基、芐基和COR16中;
R13和R14各自獨立地代表H或C1-C6烷基;或者R13和R14與它們相連的氮原子共同構成4~8元雜環(huán)基,且所述4~8元雜環(huán)基非必需地被選自OH、C1-C6烷基、C1-C4烷氧基、C3-C6環(huán)烷基、芳基和Het中的一個或者多個取代基取代;
R15代表H,CF3,非必需地被OH、C1-C6烷氧羰基氨基、NR13R14、NHSO2R16或NHCOR16取代的C1-C6烷基,(CH2)nCOOR8,(CH2)nCONHR8,其中n代表0~6;非必需地被C1-C6烷基、OH、C1-C6烷氧基或NR13R14取代的C2-C4鏈烯基,非必需地被C1-C6烷基或OH取代的C3-C6環(huán)烷基,非必需地被C1-C6烷基或OH取代的氧代C3-C6環(huán)烷基,非必需地被C1-C6烷基或OH取代的C3-C6環(huán)烷氧基,芳基或Het;
R16代表C1-C6烷基,芳基或Het;
R17和R18各自獨立地代表H,非必需地被OH取代的C1-C6烷基,或非必需地被OH取代的芳基;或者R17和R18與它們相連的氮原子共同構成4~8元雜環(huán)基,所述4~8元雜環(huán)基非必需地被選自OH、C1-C6烷基、C1-C4烷氧基、C3-C6環(huán)烷基、芳基和Het中的一個或者多個取代基取代;
R19代表C1-C6烷基,芳基或NHR8;
R20代表C1-C3烷基;
鹵素代表F,Cl,Br或I;
Y代表O,S或NR8;
所述“芳基”代表取代或未取代的苯基,所述取代為選自鹵素、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、CF3、CN和NO2中的一個或多個取代基所取代;
所述“5~7元雜環(huán)基”、“4~8元雜環(huán)基”、“五元雜環(huán)基”代表含雜原子的飽和雜環(huán)基及非飽和雜環(huán)基,所述的雜原子選自N、S和O;
所述“Het”代表含有1~4個雜原子的芳香5~6元雜環(huán)基,所述的雜原子選自N、S和O,且該芳香5~6元雜環(huán)基非必需地被選自鹵素、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、CF3、CN和NO2中的一個或多個取代基取代。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海特化醫(yī)藥科技有限公司;中國科學院上海藥物研究所,未經上海特化醫(yī)藥科技有限公司;中國科學院上海藥物研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810204368.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:顯影液組成物
- 下一篇:滾珠螺母內滾道磨削砂輪軸截形的圓弧擬合方法





