[發明專利]含有機金屬錯合物的酞菁化合物及其用途無效
| 申請號: | 200810147409.0 | 申請日: | 2008-08-15 |
| 公開(公告)號: | CN101648954A | 公開(公告)日: | 2010-02-17 |
| 發明(設計)人: | 沙晉康;楊政奮;程平昌;張慶榮;顏光甫;洪安威 | 申請(專利權)人: | 有化科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C07D487/22 | 分類號: | C07D487/22;C07F15/00;G11B7/242 |
| 代理公司: | 北京天平專利商標代理有限公司 | 代理人: | 孫 剛 |
| 地址: | 中國臺灣新竹市新竹*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 有機 金屬 錯合物 化合物 及其 用途 | ||
技術領域
本發明有關光儲存記錄媒體、光電顯示感應器等的材料,特別是一種可用于高倍速可錄式光碟片記錄層的新穎的含有機金屬錯合物的酞菁化合物,亦有關其制備方法及其包含在光學記錄媒體的記錄層的應用。
背景技術
鑒于時代的進步,近年來資訊化社會的急速發展,儲存媒體的使用已變為廣泛普及的技術。現在因光儲存記錄媒體,它提供使用者很容易進行資訊記錄、讀取及耐久性保存的優點,且價格低廉,故已成為小體積保存大量資料量的重要記錄媒體工具。
本發明的領域為用于可寫式光碟的記錄層的染料,經由染料在寫入和未寫入的位置形成不同光學性質而進行記錄;已知的光儲存記錄媒體有:(1)一次寫入多次讀取的光碟(Write?Once?Read?Many?WORM);(2)唯讀式光碟(Read?Onlymemory?ROM);(3)可擦讀寫式光碟(Erasable?Direct?Read?after?Write?EDRW)。目前是選擇吸收近紅外線范圍(NIR范圍)的輻射的染料應用于WORM系列當記錄材料,此技術由M.Emmelius描述于Angewandte?Chemie,No.11,1475-1502頁(1989)中,主要藉由使用雷射照射記錄材料經由物理變化(如升華、擴散)或經由化學變化(如:光致變色性,異構化或熱分解)達成將資料記錄成所需要的吸收改變而成為信號。近年來市面上讀寫型的記錄裝置有DVD記錄裝置和CD記錄裝置,就現況而言,DVD方面市售燒錄器也提高至8-16倍速記錄為主。而產品已成熟的CD燒錄器方面,也全面從低倍速(12X~24X)的記錄媒體逐漸轉進至高倍速(32X~52X)。然而,CD-R光碟片在進行高倍速可錄式光碟燒錄時,需要用較短于通常寫入的時間進行燒錄,另一方面由于需要高功率的雷射照射,因此在燒錄讀取特性上所需的界限(margin)會變得更狹窄,尤其是記錄特性(抖晃率(jitter))不佳,雷射功率增加等等問題出現,因此記錄層染料的特性更為重要。
目前合乎高倍速的CD-R可錄式光學記錄媒體性質中,酞菁染料是最被廣泛應用于光碟記錄層的主要材料。雖然酞菁染料在分子結構較為安定,但本身結構性質溶解度差且分子間容易慢慢地凝結(aggregated)而沉淀,對光的敏感性差、燒錄溫度太高、分解不佳及反射率過低等問題,需通過改變本身分子結構或添加其他化合物以改良染料的特性。
針對以上問題,曾在中國臺灣專利公告第208702號揭示,對于酞菁染料主結構引入立體阻礙性大的取代基,尤其是烷氧基具有多分枝結構,且也引入鹵素原子(溴、碘為最佳)方式,可提高立體阻礙效果。這種嘗試所得到的酞菁化合物,其分解溫度明顯降低,有良好的燒錄分解性。也因分子的對稱性降低的關系及異構物亦較為多,溶劑溶解度明顯增大,反射率亦明顯提升許多,但當逐漸地要求較快的寫入速度時,造成BLER(區段錯誤率)的數目增加,光碟片品質嚴重下降的問題也隨的出現。
EP-A?600427揭露出一種光儲存記錄媒體的記錄層染料是以酞菁化合物為主,并加入少許的添加劑,如雙(環戊二烯基)亞鐵衍生物(ferrocenyl?derivatives)等助燃劑或其它抗爆劑,對染料層的熱分解特性及記錄特性有更大的改善效果,但對于所使用的添加劑會因溶解度的差異使得回收染料中添加劑和酞菁化合物濃度改變,因此必須隨時注意回收染料在溶劑中的各濃度比例,其實未獲得完全充分的改善效果。
后來WO97/23354也有提及在記錄層的染料組成物中,將酞菁主結構中心金屬原子的軸向配位結合金屬雙(環戊二烯基)(metallocenyl)衍生物,通過酞菁結構與金屬雙(環戊二烯)的鍵結的想法以改善回收染料問題及提升染料循環使用的效果,但其本身使用時無法得到令人滿意的記錄特性。
另一方面WO?00/09522、WO?03/068865和WO?02/083796中則記載著,更進一步嘗試藉由將記錄層染料的酞菁化合物的四個苯基環中,至少有一個苯基環帶有至少一個金屬雙(環戊二烯基)基團作為橋接基結合的取代基,此處橋接基包含至少兩個選自-CH2-、-C(C=O)-、-CH(C1~C4烷基)-、-C(C1~C4烷基)2-、-NH-、-S-及-O-組成的組群的原子或原子團所組成的鏈,合成一種具金屬雙(環戊二烯基)的酞菁化合物,以改善添加物的缺點,也提供一種可以高倍速記錄特性良好的最佳方案。
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