[發明專利]帶電粒子束的圖案無變化聚焦

有效

• 申請號: 200810132080.0
• 申請日: 2008-07-24
• 公開（公告）號: CN101572207A
• 公開（公告）日: 2009-11-04
• 發明（設計）人: 尼珥·玆維
• 申請（專利權）人: 以色列商·應用材料以色列公司
• 主分類號: H01J37/21
• 分類號: H01J37/21;H01J37/28
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司
• 代理人: 徐金國

1.一種用于聚焦掃描顯微鏡的方法，包括：

以一次帶電粒子束掃描晶片的參考單元裸片的多個第一部位；

響應所述一次帶電粒子束來檢測從所述多個第一部位發射的二次帶電粒 子束；

基于所檢測的二次帶電粒子束來計算所述多個第一部位的第一聚焦等級；

以所述一次帶電粒子束掃描晶片的指定的單元裸片的多個第二部位，同時 調制所述一次帶電粒子束的焦深，所述參考單元裸片和所述指定的單元裸片具 有全等的布局，以及其中所述第二部位與所述參考單元裸片的第一部位在位置 上分別矢量地對應；

響應所述一次帶電粒子束來檢測從所述多個第二部位發射的所述二次帶 電粒子束；

基于所檢測的從所述第二部位發射的二次帶電粒子束來計算所述第二部 位的第二聚焦等級；以及

響應所述第一和第二聚焦等級來確定所述第二部位的所述一次帶電粒子 束的準確聚焦。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，調制所述焦深包括調制所 述顯微鏡的聚焦元件的聚焦參數，其中計算所述第二聚焦等級包括確定所述第 二聚焦等級的相位，以及其中確定所述準確聚焦包括將所述第二聚焦等級的所 述相位與所述聚焦參數的相位進行比較。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，將所述第二聚焦等級的所 述相位與所述聚焦參數的所述相位進行比較包括確定所述第二聚焦等級的所 述相位和所述聚焦參數的所述相位之間的差，以及其中所述差關于對應于所述 準確聚焦的參考相位而單調變化。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，計算所述第二聚焦等級包 括確定所述第二聚焦等級的幅度變化，以及其中確定所述準確聚焦包括響應所 述幅度變化來確定所述準確聚焦。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述幅度變化在所述準確 聚焦處為最小值，以及其中確定所述準確聚焦包括確定測得的幅度變化與所述 最小值的差。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，調制所述焦深包括調制所 述顯微鏡的聚焦元件的聚焦參數，以及其中確定所述準確聚焦包括響應所述第 一和第二聚焦等級來設置所述聚焦參數。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述多個第一部位和所述 多個第二部位包括具有不同圖案的部位，以及其中確定所述準確聚焦包括確定 具有不同圖案的所述部位的所述準確聚焦。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，確定所述準確聚焦包括將 各個第一聚焦等級與各個第二聚焦等級進行比較，以形成各個歸一化聚焦等 級。

9.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，以所述一次帶電粒子束掃 描所述多個第一部位包括將所述一次帶電粒子束的聚焦參數維持在恒定值。

10.一種用于聚焦掃描顯微鏡的裝置，包括：

照射模塊，配置用于以一次帶電粒子束掃描晶片的參考單元裸片的多個第 一部位，以及用于以所述一次帶電粒子束掃描所述晶片的指定單元裸片的多個 第二部位，同時調制所述一次帶電粒子束的焦深，所述參考單元裸片和所述指 定單元裸片具有全等的布局，以及其中所述第二部位分別與所述參考單元裸片 的所述第一部位在位置上矢量地對應；

成像探測器，配置為響應所述一次帶電粒子束來檢測從所述第一部位和所 述第二部位發射的二次帶電粒子束；以及

處理器，配置用于基于所檢測的二次帶電粒子束來計算所述多個第一部位 的第一聚焦等級和所述多個第二部位的第二聚焦等級，以及用于響應所述第一 和第二聚焦等級來確定所述第二部位的所述一次帶電粒子束的準確聚焦。

11.根據權利要求10所述的裝置，其特征在于，調制所述焦深包括調整 所述顯微鏡的聚焦元件的聚焦參數，其中計算所述第二聚焦等級包括確定所述 第二聚焦等級的相位，以及其中確定所述準確聚焦包括將所述第二聚焦等級的 所述相位與所述聚焦參數的相位進行比較。