[發明專利]低溫快速燒成高頻低損耗玻璃陶瓷及其制備方法

無效

• 申請號: 200810124200.2
• 申請日: 2008-06-17
• 公開（公告）號: CN101298368A
• 公開（公告）日: 2008-11-05
• 發明（設計）人: 王庭慰;邵海彬;張其土
• 申請（專利權）人: 南京工業大學
• 主分類號: C03C10/02
• 分類號: C03C10/02
• 代理公司: 南京天華專利代理有限責任公司
• 代理人: 徐冬濤;袁正英

1.一種低溫快速燒成的高頻低損耗玻璃陶瓷，其特征在于其原料組份和各 組份占原料總量的重量百分比分別為：玻璃料85～95％，粘結劑5～15％；其中 玻璃料由硼硅酸鹽系玻璃、鈣硅硼系玻璃和成核劑組成；其中硼硅酸鹽系玻璃 占玻璃料總重量的50～90％，鈣硅硼系玻璃占玻璃料總重量的5～45％，成核劑 占玻璃料總量的0.5～10％；所述的硼硅酸鹽系玻璃料化學組份和各組份占硼硅 酸鹽系玻璃總量的重量百分比分別為：CaO?30～50％，SiO₂?10～30％，B₂O₃?20～ 55％，ZnO?0.5～10％，MgO?0.5～10％；所述的鈣硅硼系玻璃料化學組份和各組份 占鈣硅硼系玻璃總量的重量百分比分別為：SiO₂?50～60％，B₂O₃?10～30％，CaO?5～ 25％，Na₂O?0.5～2％，Li₂O?0.5～2％，K₂O?0.5～2％；所述的成核劑至少為TiO₂、ZrO₂或MoO₃中的任意一種；其制備的具體步驟如下：

A.分別按硼硅酸鹽系玻璃配方稱取CaCO₃、SiO₂、H₃BO₃、ZnO和MgO，按鈣 硅硼系玻璃配方稱取SiO₂、H₃BO₃、CaCO₃、Na₂O、Li₂O和K₂O，混合均勻；

B.分別在鉑金坩堝內加熱保溫，使其完全熔化和均勻化，倒入蒸餾水中 得到透明的碎玻璃；

C.分別將得到的碎玻璃經濕法球磨得到硼硅酸鹽系玻璃和鈣硅硼系玻璃粉 末；

D.按硼硅酸鹽系玻璃占玻璃料總重量的50～90％，鈣硅硼系玻璃占玻璃料 總重量的5～45％的比例稱取上述步驟C所制得的硼硅酸鹽系玻璃和鈣硅硼系玻 璃粉末，再加入占玻璃料總量的0.5～10％的成核劑，在球磨罐中混合3～6h得 玻璃料；

E.稱取占原料總量的重量百分比為85～95％的步驟D所制得的玻璃料，加 入占原料總量的重量百分比為5～15％的粘結劑造粒后，壓制成型；

F.將上述樣品在680～750℃下直接放入電熱爐中，保溫15～60min后， 直接從爐中將樣品取出在空氣中冷卻即得高頻低損耗玻璃陶瓷。

2.根據權利要求1所述的高頻低損耗玻璃陶瓷，其特征在于所述的粘結劑 為蒸餾水或聚乙烯醇水溶液。

3.根據權利要求1所述的高頻低損耗玻璃陶瓷，其特征在于步驟B中的加 熱溫度為1000～1250℃，保溫時間為0.5～1h；步驟C中硼硅酸鹽系玻璃和鈣 硅硼系玻璃粉末的列產品平均粒徑為40～75μm；步驟E中壓制成型的壓力控制 為100～200Mpa。