[發明專利]全氟聚醚化合物、防污涂料組合物和含有該組合物的薄膜有效
| 申請號: | 200810092948.9 | 申請日: | 2008-04-18 |
| 公開(公告)號: | CN101456947A | 公開(公告)日: | 2009-06-17 |
| 發明(設計)人: | 李壽福;樸仁濬;河鐘郁;李光遠;李相九;樸恩英;金銀卿 | 申請(專利權)人: | 韓國化學研究院 |
| 主分類號: | C08G65/336 | 分類號: | C08G65/336;C09D171/02;C09D183/04;C09D5/16;G02B1/11;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人: | 王 健 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 全氟聚醚 化合物 防污 涂料 組合 含有 薄膜 | ||
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本申請依據35?U.S.C.§119(a)要求2007年12月13日提交的韓國專利申請No.10-2007-0130194的權益,其整個內容經此引用并入本文。
技術領域
本發明涉及包含新型全氟聚醚改性硅烷化合物以改進防污性、抗劃傷性和耐久性的防污涂料組合物,和通過涂布該組合物而形成的薄膜。
背景技術
氟基功能材料正作為包括光通信、光電子、半導體、汽車和計算機工業在內的下一代技術中的核心材料引起全世界的關注。對各種顯示器,包括液晶顯示器(LCD)中使用的光學薄膜的需求迅速增加。光學薄膜包括液晶或偏振層、保護液晶和提供平坦性的硬涂層、防止光學干涉和提供清晰圖像的減反射層、和防止表面污染的防污層。尤其地,制造具有防污層的光學薄膜的技術從工業角度看非常重要。
目前,減反射薄膜由用于折光指數和厚度控制的具有很高親水性的多層無機氧化物薄膜構成。因此,其在使用過程中容易被污染,且污染物不容易去除。在使用溶劑去除污染物的情況下,具有破壞薄膜表面的危險。為了向光學功能薄膜、玻璃等的表面提供防污性和拒水性,在最外表面上使用有機硅或氟烴聚合物以形成固化薄膜。
用于涂布該表面的材料的實例包括C8F17C2H4Si(NH)3/2、C4F9C2H4Si(NH)3/2和聚硅氧硅氮烷(polysiloxazane)[美國專利No.4,678,688]。當這些化合物單獨使用時,由于與無機氧化物基底的交聯不足,摩擦耐久性變差。當僅使用碳氟化合物時,沒有獲得令人滿意的防污性。當使用聚硅氧硅氮烷化合物時,由于聚硅氧硅氮烷具有比碳氟化合物大的表面能,初始防污性變差。此外,由于形成三維結構所需的官能團不足,可能不能獲得充足交聯。因此,污染物可能累積或附著,并可能由于低玻璃化轉變溫度而留下指紋。在日本專利公開No.1990-233535中,使用具有全氟基團的硅烷化合物作為玻璃表面改性劑,但是所得涂層沒有表現出充足的拒水性、防污性和/或未污染性。
為了解決該問題,已經提出結合無機材料(如玻璃)和有機材料的所謂硅烷偶聯技術。硅烷偶聯劑在分子中具有與有機材料有良好親合力的有機官能基團或化學結構并具有反應性烷氧基甲硅烷基。烷氧基甲硅烷基與空氣中的水分發生自縮合反應,轉化成硅氧烷從而形成涂層。同時,硅烷偶聯劑與玻璃或金屬表面形成化學和物理鍵,從而產生耐久的堅韌涂層。利用這些優點,硅烷偶聯劑廣泛用作各種基底的涂布劑或底涂料。
公開了通過化學鍵合在硅烷偶聯劑中引入全氟基團而獲得的化合物作為具有良好成膜性、與基底的粘合性和耐久性的涂布劑[日本專利公開No.昭58-167597、日本專利公開No.昭58-122979、平10-232301和平2000-143991]。根據這些專利,提到在具有硅烷偶聯結構的基底表面上引入全氟烷基改進了防污性(拒水和拒油性)。但是,這些化合物沒有足夠的拒油性,因為全氟基團部分的長度(分子量)受到限制,或在全氟基團部分足夠長的情況下,包含全氟基團的整個分子中烷氧基甲硅烷基占據的比例降低,由此導致差的粘合性或粘合耐久性。
背景部分中的上述信息僅用于加強對本發明的背景的理解,因此其可能含有不構成韓國本領域普通技術人員已知的現有技術的信息。
發明內容
為解決與現有技術有關的上述問題,已經作出本發明。
本發明的目的是提供新的全氟聚醚改性硅烷化合物。
本發明的另一目的是提供具有良好防污性、與基底的粘合性和耐久性的防污涂料組合物和由該組合物制成的薄膜。
為了實現這些目的,一方面,本發明提供了下式(1)的全氟聚醚改性硅烷化合物:
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