[發明專利]致動裝置及其制造方法以及使用其的模塊位移調節裝置

無效

• 申請號: 200810086978.9
• 申請日: 2008-04-03
• 公開（公告）號: CN101355325A
• 公開（公告）日: 2009-01-28
• 發明（設計）人: 李華善;李成熙;林承模;鄭喜文
• 申請（專利權）人: 三星電子株式會社
• 主分類號: H02N2/00
• 分類號: H02N2/00;G02B7/04;G03B5/00
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司
• 代理人: 韓明星;李友佳

1.一種致動裝置，包括：

可變形的膜；

壁，形成在所述膜上以限定空穴；

桿，形成在所述空穴中，并且位于所述膜的表面上，在相對于空穴中心 的一側，以與所述膜的變形相關聯地運動；

致動單元，形成在所述膜的下表面上，以被壓電地驅動，從而使膜變形。

2.如權利要求1所述的致動裝置，其中，所述致動單元包括按順序堆疊 在所述膜的下表面上的第一電極、壓電層和第二電極。

3.如權利要求2所述的致動裝置，其中，第一電極、壓電層和第二電極 中的至少一個的面積小于所述膜的形成空穴的面積。

4.如權利要求1所述的致動裝置，其中，所述壁在所述膜上限定多個空 穴，所述桿分別形成在所述多個空穴中。

5.如權利要求4所述的致動裝置，其中，所述多個空穴通過多個塊被限 定，在所述空穴中的所述桿的位置和形狀根據對應的塊彼此不同。

6.如權利要求1所述的致動裝置，其中，所述桿的高度大于所述壁的高 度。

7.如權利要求1所述的致動裝置，還包括設置在所述桿與所述膜之間以 及在所述壁與所述膜之間的絕緣膜。

8.一種模塊位移調節裝置，包括：

功能模塊；

致動模塊，通過使用被放置在形成于可變形的膜上的空穴中的桿來調節 功能模塊的位移，從而所述桿與所述膜的變形相關聯地運動，所述桿位于相 對于空穴的中心的一側上。

9.如權利要求8所述的模塊位移調節裝置，還包括按順序堆疊在所述膜 的下側上的第一電極、壓電層和第二電極。

10.如權利要求9所述的模塊位移調節裝置，還包括將用于功能模塊的 位移調節的功率供給到第一電極和第二電極的功率供給單元。

11.如權利要求9所述的模塊位移調節裝置，其中，第一電極、壓電層 和第二電極中的至少一個的面積小于所述膜的形成所述空穴的面積。

12.如權利要求8所述的模塊位移調節裝置，其中，所述致動模塊還包 括在所述膜上限定多個空穴的壁，其中，所述桿分別形成在所述多個空穴中。

13.如權利要求12所述的模塊位移調節裝置，其中，所述多個空穴通過 多個塊被限定，在所述空穴中的所述桿的位置和形狀根據對應的塊彼此不同。

14.如權利要求8所述的模塊位移調節裝置，還包括：

磁體單元，在功能模塊與致動模塊之間提供磁性吸引力，以使功能模塊 與致動模塊彼此附著；

軸承單元，布置在通過磁性吸引力形成的附著面上。

15.如權利要求8所述的模塊位移調節裝置，還包括：

彈簧單元，在功能模塊與致動模塊之間提供拉力，使功能模塊與致動模 塊彼此附著；

第一軸承單元，布置在功能模塊與彈簧單元之間的連接區域以及在致動 模塊與彈簧單元之間的連接區域上；

第二軸承單元，布置在通過拉力形成的附著面上。

16.如權利要求12所述的模塊位移調節裝置，其中，桿的高度大于壁的 高度。

17.一種用于制造致動裝置的方法，包括：

制造膜，制造在所述膜上的壁以限定空穴，并制造在所述空穴中的桿， 使所述桿位于所述膜的表面并在相對于空穴的中心的一側上；

在所述膜的下表面上堆疊第一電極、壓電層和第二電極。

18.如權利要求17所述的方法，其中，所述制造步驟包括在除了與所述 壁和桿對應的部分之外的位置對由多種材料制成的多層晶片的一側進行蝕 刻，以形成在所述多層晶片的一側上形成的空穴、壁和桿的膜。

19.如權利要求18所述的方法，其中，所述制造步驟包括對所述多層晶 片的一側進行蝕刻，從而留下凹陷，然后對具有凹陷的被蝕刻過的所述一側 進行蝕刻，從而形成空穴、壁和桿，其中，桿的高度大于壁的高度。