[發明專利]曝光描圖裝置有效
| 申請號： | 200810082393.X | 申請日： | 2008-03-04 |
| 公開（公告）號： | CN101276153A | 公開（公告）日： | 2008-10-01 |
| 發明（設計）人： | 李德;高津嘉郎 | 申請（專利權）人： | 株式會社ORC制作所 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;H05K3/00;H01L21/30;G02B26/08 |
| 代理公司： | 北京三友知識產權代理有限公司 | 代理人： | 黨曉林 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 曝光 描圖 裝置 | ||
1.一種曝光描圖裝置，以來自光源照射的紫外線對載置于被曝光體臺座上的被曝光體做描圖，包括：
一孔洞構件，設有用于將上述光源分離成第一光束及第二光束的第一開口窗及第二開口窗；
第一及第二空間光調變裝置，調變上述第一光束及第二光束；
投影光學系，將上述第一空間光調變裝置及第二空間光調變裝置所調變的第一光束及第二光束投影至上述被曝光體；
第一光量傳感器，在上述孔洞構件的附近，檢測出上述光源的光量；
第二光量傳感器，檢測出穿透上述投影光學系的第一光束及第二光束的光量；以及
判斷裝置，根據上述第一光量傳感器的第一輸出信息以及上述第二光量傳感器的第二輸出信息而判斷從上述孔洞構件至上述被曝光體的狀況。
2.如權利要求1所述的曝光描圖裝置，其中上述第二光量傳感器被搭載于上述被曝光體臺座上，在穿透上述投影光學系的第一光束及第二光束的正下方進入及退避。
3.如權利要求1或2所述的曝光描圖裝置，其還包括：
第一縮聚部，設于第一光束從上述孔洞構件至上述被曝光體的光路中；
第二縮聚部，設于第二光束從上述孔洞構件至上述被曝光體的光路中；
其中，上述判斷裝置系根據上述第二光量傳感器所檢測出的第一光束的第一輸出信息與上述第二光束的第二輸出信息而調整上述第一縮聚部及第二縮聚部。
4.如權利要求1或2所述的曝光描圖裝置，其還包括：
記憶裝置，記憶著伴隨上述被曝光面隨著時間的變化的理想光量數據；
警告部，當上述第二光量傳感器的輸出信息超過上述記憶裝置所記憶的光量信息的既定范圍以上時，輸出關于運轉情況的警告。
5.如權利要求1或2所述的曝光描圖裝置，其還包括：
警告部，當上述第一光量傳感器與上述第二光量傳感器的輸出信息超過既定關系以外時，輸出關于從上述孔洞構件至上述被曝光體的運轉情況的警告。
6.如權利要求5所述的曝光描圖裝置，其中上述判斷裝置系根據上述第二光量傳感器所檢測出的上述第一光束的光量與上述第二光束的光量，將關于上述第一或第二空間光調變裝置的運轉狀況的警告輸出至上述警告部。
7.如權利要求1至6中任一項所述的曝光描圖裝置，其還包括：
第三光量傳感器，檢測出上述第一及第二空間光調變裝置在不穿透上述投影光學系的方向上所調變的上述第一光束及第二光束的光量，其中上述判斷裝置系根據上述第二光量傳感器的輸出信息與上述第三光量傳感器的輸出信息而判斷從上述第一及第二空間光調變裝置至上述被曝光體的狀況。
8.如權利要求7所述的曝光描圖裝置，其中上述第三光量傳感器系兼用上述第二光量傳感器。
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