[發明專利]硬質疊層被膜有效
| 申請號: | 200810081818.5 | 申請日: | 2005-01-25 |
| 公開(公告)號: | CN101254673A | 公開(公告)日: | 2008-09-03 |
| 發明(設計)人: | 山本兼司;久次米進;高原一樹;藤井博文 | 申請(專利權)人: | 株式會社神戶制鋼所 |
| 主分類號: | B32B33/00 | 分類號: | B32B33/00;B32B9/00;C23C30/00;C23C14/06 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硬質 疊層被膜 | ||
1.一種硬質疊層被膜,其特征是:
交替疊層由特定組成構成的層A和層B,層A的晶體結構和層B的晶體結構不相同,每層的層A的厚度是每層的層B的厚度的2倍以上,每層的層B的厚度在0.5nm以上,每層的層A的厚度在200nm以下,
其中,
所述層A由:
式1:(Ti1-x-yAlxMy)(BaCbN1-a-b-cOc)的組成構成,但是,x、y、a、b、c分別表示原子比,0.4≤x≤0.8、0≤y≤0.6、0≤a≤0.15、0≤b≤0.3、0≤c≤0.1、M為從元素周期表中的4A族、5A族、6A族中的金屬元素、及Si中選擇的一種以上元素;
所述層B由從:
式2:B1-x-yCxNy,但是,x、y分別表示原子比,0≤x≤0.25、B/N≤1.5、
式3:Si1-x-yCxNy,但是,x、y分別表示原子比,0≤x≤0.25、0.5≤Si/N≤2.0、
式4:C1-xNx,但是,x表示原子比,0≤x≤0.6、
式5:Cu1-y(CxN1-x)y,但是,x、y分別表示原子比,0≤x≤0.1、0≤y≤0.5中選擇的任何一個組成構成。
2.如權利要求1所述的硬質疊層被膜,其特征是:
所述層A,由(Ti1-x-yAlxMy)(BaCbN1-a-b-cOc)的組成構成,但是,x、y、a、b、c分別表示原子比,0.5≤x≤0.8、0.05≤y≤0.6、0≤a≤0.15、0≤b≤0.3、0≤c≤0.1、M為從Cr、V、Si中選擇的1種以上元素。
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