[發(fā)明專利]太陽(yáng)能級(jí)多晶硅的提純裝置及提純方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810071577.6 | 申請(qǐng)日: | 2008-08-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101343063A | 公開(公告)日: | 2009-01-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 羅學(xué)濤;鄭淞生;蔡靖;陳文輝;陳朝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廈門大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C01B33/037 | 分類號(hào): | C01B33/037 |
| 代理公司: | 廈門南強(qiáng)之路專利事務(wù)所 | 代理人: | 馬應(yīng)森 |
| 地址: | 361005福*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 太陽(yáng) 能級(jí) 多晶 提純 裝置 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種多晶硅,尤其是涉及一種太陽(yáng)能級(jí)多晶硅的提純裝置及提純方法。
背景技術(shù)
所謂的“提純”是指根據(jù)形成基質(zhì)元素或雜質(zhì)元素的物理化學(xué)性質(zhì),通過(guò)合適的物理化 學(xué)工藝去除基質(zhì)中的雜質(zhì)元素。
對(duì)于被用作半導(dǎo)體材料的硅而言,目前,最成熟也是最大規(guī)模的生產(chǎn)工藝是西門子法或 改良的西門子法。這類工藝首先將硅石通過(guò)C還原得到純度至少為98%的工業(yè)硅,然后將工 業(yè)硅在1400℃左右的高溫下與HCl反應(yīng)生成SiHCl3(或SiCl4),經(jīng)過(guò)蒸餾提純后,再在西門 子反應(yīng)器(或流態(tài)床)中用高純H2還原得到純度最高可達(dá)12N的高純多晶硅。到現(xiàn)在為止, 全世界90%的多晶硅都是利用此工藝生產(chǎn)。這類方法初期投資大、建設(shè)周期長(zhǎng)、能耗大、成 本高,且中間產(chǎn)品SiHCl3(或SiCl4)有劇毒,需大量使用液氯和氫氣,存在環(huán)保及安全隱患。
近年來(lái),隨著石油價(jià)格的不斷上漲,以及全世界范圍內(nèi)的環(huán)境染污問題日趨嚴(yán)重,太陽(yáng) 能以其分布廣泛、清潔無(wú)污染等優(yōu)點(diǎn)成為解決能源危機(jī)和環(huán)境惡化的一個(gè)重要途徑而倍受青 睞,關(guān)于高效率太陽(yáng)能電池及相關(guān)材料的開發(fā)和研制已經(jīng)成為世界各發(fā)達(dá)國(guó)家重點(diǎn)投入和扶 持的科技項(xiàng)目。
目前太陽(yáng)能電池工業(yè)轉(zhuǎn)換材料絕大多數(shù)都采用硅,而用于生產(chǎn)太陽(yáng)電池的硅材料主要來(lái) 自于半導(dǎo)體工業(yè)的廢料。目前硅原料(多晶硅)的缺乏嚴(yán)重威脅到光伏產(chǎn)業(yè)的增長(zhǎng)。作為硅 集成電路和器件用的多晶硅原料是由西門子法生產(chǎn)的,因此來(lái)自半導(dǎo)體級(jí)硅的廢料并不會(huì)顯 著增加。但隨著光伏產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展,這些硅原料已遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足太陽(yáng)電池的需求,硅原料 已經(jīng)成為光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展的最主要的瓶頸之一。因此,研究開發(fā)一種低成本太陽(yáng)能級(jí)多晶硅的 生產(chǎn)技術(shù)是非常必要的。
制造太陽(yáng)能電池用的多晶硅,其純度要求在6N(即99.9999%)以上,其中P、B含量都 必須小于0.1ppmw,而Al、Fe、Ti等金屬雜質(zhì)要求小于0.05ppmw,C、O則應(yīng)小于1ppmw。
對(duì)于金屬雜質(zhì)Fe、Ti等,由于其在硅中的分凝系數(shù)比較大,因此通過(guò)嚴(yán)格的定向凝固可 以達(dá)到很好的去除效果,基本可以滿足太陽(yáng)能電池的要求。
對(duì)于P雜質(zhì),由于其在高溫下的飽和蒸氣壓遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于硅,因此通過(guò)真空熔煉的方法,在 一定的高真空下,使磷揮發(fā)進(jìn)入氣相中,可以得到很好的除磷效果,如日本專利JP2905353。 而對(duì)于B雜質(zhì),因其在硅中的分凝系數(shù)(0.8)接近于1,無(wú)法通過(guò)定向凝固去除,且其沸點(diǎn) 高達(dá)2550℃,因此通過(guò)真空的辦法也沒有明顯去除效果。但B的氧化物在真空下比較容易揮 發(fā),也較容易進(jìn)入SiO2的堿性融渣中,因此目前除B的主要方法是在真空下通氧化性氣體, 如美國(guó)專利US5972107;或者通過(guò)造渣工藝,如美國(guó)專利US5788945;以及二者相結(jié)合的方 法,如美國(guó)專利US6,368,403B1。另外,C、O等雜質(zhì)通過(guò)通入水蒸氣也可以達(dá)到很好的去除 效果。
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