[發(fā)明專利]一種降低金屬硅中氧、碳含量的方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810070925.8 | 申請(qǐng)日: | 2008-04-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101386413A | 公開(公告)日: | 2009-03-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄭智雄 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南安市三晶硅品精制有限公司 |
| 主分類號(hào): | C01B33/037 | 分類號(hào): | C01B33/037 |
| 代理公司: | 廈門市首創(chuàng)君合專利事務(wù)所有限公司 | 代理人: | 張松亭 |
| 地址: | 362000福*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 降低 金屬硅 含量 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種提純金屬硅的方法,特別是涉及一種降低金屬硅中的氧、碳含量的方法。
背景技術(shù)
硅是一種重要的冶金、化工、電子、光學(xué)材料,在信息、通訊、航天航空、環(huán)保、太陽能硅電池等廣闊領(lǐng)域發(fā)揮著重要的作用,市場(chǎng)需求也越來越大。但無論直拉法生產(chǎn)的單晶硅或定向凝固結(jié)晶法生產(chǎn)的多晶硅片的兩種工藝都采用石墨加熱系統(tǒng)和石英坩堝,而熔融的硅幾乎能與所有材料起化學(xué)反應(yīng),因此,氧和碳是半導(dǎo)體硅(多晶硅、單晶硅)中含量最高的非金屬雜質(zhì),而氧、碳的存在會(huì)影響硅太陽能電池的性能,并降低硅太陽能電池的使用壽命。
氧和碳是多晶硅和單晶硅生產(chǎn)工藝中最難去除的雜質(zhì)元素,現(xiàn)有技術(shù)中采用氣相蒸餾提純法將硅材料提純至11N,硅材料中的氧、碳含量極低,但對(duì)于如太陽能電池等對(duì)氧、碳要求并不是特別高的行業(yè)(只需達(dá)到6N即可),產(chǎn)生了極大的產(chǎn)能過剩。同時(shí),由于氣相蒸餾提純法的生產(chǎn)成本極高,在太陽能行業(yè)普遍難于承受。因此,人們迫切希望能提供一種生產(chǎn)成本較低的降低金屬硅中氧、碳含量的方法。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供了一種成本低廉、操作步驟簡(jiǎn)單的降低金屬硅中氧、碳元素含量的方法,以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題。本發(fā)明中的方法在金屬硅處于熔融狀態(tài)時(shí)通入氧氣、氫氣和水蒸氣,使其在硅液中反應(yīng)產(chǎn)生局部高溫,從而使硅液中的O、C元素隨氣體排放而除去。
本發(fā)明提供的技術(shù)方案如下:
一種降低金屬硅中氧、碳含量的方法,包括如下步驟:
A、將1550℃~1950℃的處于熔融狀態(tài)的硅液倒入盛硅容器中,盛硅容器的底部中央設(shè)有三個(gè)分別連接帶有控氣裝置的氧氣、氫氣、水蒸氣氣源導(dǎo)入氣頭;
B、吹入氧氣、氫氣和水蒸氣,使氫氣和氧氣在硅液中反應(yīng)產(chǎn)生局部高溫,使硅溶液中的O、C元素隨氣體排放而除去;
C、連續(xù)通入氧氣、氫氣和水蒸氣1~3小時(shí)。
前述降低金屬硅中氧、碳含量的方法中,還可以包括以下步驟:在完成前述步驟A、B和C的操作后,取樣分析檢測(cè),并根據(jù)檢測(cè)結(jié)果決定是否重復(fù)B步驟,在硅液中O含量在3000ppm以下,C含量在600ppm以下時(shí),結(jié)束操作。
本發(fā)明采用在熔融的硅液中吹入氧氣、氫氣和水蒸氣,使氫氣和氧氣在硅液中反應(yīng)產(chǎn)生局部高溫,使硅液中的O、C元素隨氣體排放而除去,從而提供了一種操作步驟簡(jiǎn)單、成本低廉的降低硅液中O、C元素含量的方法。由于同時(shí)吹入氧氣、氫氣和水蒸氣氣體會(huì)在局部產(chǎn)生激烈反應(yīng),因此本發(fā)明優(yōu)選采用順次吹入氧氣、氫氣和水蒸氣氣體的方式。吹入氧氣、氫氣、水蒸氣氣體的時(shí)間取決于硅液中的O、C含量,O、C元素含量則通過取樣分析獲得。
前述降低金屬硅中氧、碳含量的方法中,所述氧氣、氫氣、水蒸氣氣源導(dǎo)入氣頭直徑與盛硅容器直徑的比例優(yōu)選為1∶9~11。
前述降低金屬硅中氧、碳含量的方法中,氧氣、氫氣、水蒸氣氣源導(dǎo)入氣頭使用氧化鎂、氧化鋯或氧化鉿中的一種制成。
前述降低金屬硅中氧、碳含量的方法中,所述氧氣、氫氣、水蒸氣氣源導(dǎo)入氣頭呈三角形地設(shè)置在盛硅容器的底部中央。
前述降低金屬硅中氧、碳含量的方法中,盛硅容器一般為坩堝,且對(duì)硅液的污染須控制在太陽能級(jí)硅所允許的限度以內(nèi)。
前述降低金屬硅中氧、碳含量的方法中,通入硅液中的氧氣、氫氣、水蒸氣的摩爾比為1∶0.4~0.6∶0.4~0.6,優(yōu)選為1∶0.5∶0.5。前述配比的氧氣、氫氣、水蒸氣可以在最大程度上節(jié)約氧氣、氫氣、水蒸氣,避免造成不必要的浪費(fèi)。
本發(fā)明中涉及的降低金屬硅中所含碳、氧元素含量的方法對(duì)用作原料的金屬硅的純度無特殊要求,優(yōu)選含量大于90%的硅原料。
前述降低金屬硅中氧、碳含量的方法中,所述氧氣、氫氣、水蒸氣氣體的壓力為1~2kg/cm2g。氧氣、氫氣、水蒸氣氣體的壓力以硅液稍有沸騰但又不使之噴濺為度,以1~2kg/cm2g的低壓蒸汽為宜。氧氣、氫氣、水蒸氣氣體壓力可根據(jù)硅液重量在上述范圍內(nèi)做適當(dāng)?shù)恼{(diào)整,壓力可根據(jù)每噸硅液使用1kg/cm2g壓力的氧氣、氫氣、水蒸氣氣體來計(jì)算,如在硅液重量為2噸時(shí),氧氣、氫氣和水蒸氣的進(jìn)氣氣壓為2kg/cm2g,以免氣壓過大產(chǎn)生沸騰和損傷盛硅容器邊壁,從而保證操作者的安全,并延長(zhǎng)盛硅容器的使用壽命。
在前述降低金屬硅中氧、碳含量的方法中,為防止氣體之間過早反應(yīng),兩相鄰的導(dǎo)入氣頭之間可用板狀物隔離。所述板狀物可采用氧化鎂、氧化鋯或氧化鉿中的一種制成。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于南安市三晶硅品精制有限公司,未經(jīng)南安市三晶硅品精制有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810070925.8/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





