[發明專利]一種提高TiNi合金支架在X-光下顯影性的方法無效
| 申請號: | 200810064031.8 | 申請日: | 2008-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN101230445A | 公開(公告)日: | 2008-07-30 |
| 發明(設計)人: | 隋解和;成艷;高智勇;蔡偉 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱工業大學 |
| 主分類號: | C23C14/02 | 分類號: | C23C14/02;C23C14/34;C23C14/16;A61F2/82;A61L31/08 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標事務所 | 代理人: | 金永煥 |
| 地址: | 150001黑龍江*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 提高 tini 合金 支架 顯影 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種提高TiNi合金在X-光下顯影性的方法。
背景技術
TiNi合金因具有優異的形狀記憶和超彈性性能,良好的耐蝕性和生物相容性在生物醫學領域獲得廣泛的應用。TiNi合金最有發展潛力的醫學應用之一是心血管支架,TiNi合金支架易實現自膨脹和恒彈力支撐,具有手術簡單、易固定,與血管壁貼合好、作用力均勻等優點。為滿足介入治療輕型化和小型化的需求,在保證支架支撐力的前提下,TiNi合金支架絲應盡量細或壁盡量薄,這將導致在X-光下顯影性的降低。另外TiNi合金支架長期植入人體后,因Ni離子溶出而存在發炎、致畸和致癌的潛在危險。
鉭作為可見性較高的醫用生物材料,輻射不透明性,生物相容性,機械性能和無磁性方面都優于不銹鋼材料。目前,有將鉭作為第三組元加入TiNi合金以提高在X-光下的顯影性,但鉭的加入降低了TiNi合金的相變溫度。還有將鉭絲填充入TiNi合金細管中,再進行拉拔,得到以這種金屬為芯的細絲,從而增強了TiNi合金在X-光下的顯影性,但該種工藝復雜,成本高,而且結構的改變降低了TiNi合金的機械性能。
發明內容
本發明目的是為了解決現有技術中提高TiNi合金支架在X-光下顯影性的方法存在工藝復雜、成本高、降低了TiNi合金的機械性能或是降低TiNi合金的相變溫度的問題,而提供一種提高TiNi合金支架在X-光下顯影性的方法。
一種提高TiNi合金支架在X-光下顯影性的方法按以下步驟實現:一、將TiNi合金支架化學拋光,再放入丙酮中超聲波清洗,然后吹干;二、吹干后的TiNi合金支架放入多弧離子鍍爐中,抽真空至10-4~10-5Pa,再通入氬氣至0.2~0.3Pa,在TiNi合金支架加上800~1100V的負偏壓,進行濺射清洗,持續時間為20~40min;三、濺射清洗后,在弧流為70~80A、負偏壓為100~500V的條件下用鉭離子轟擊TiNi合金支架并沉積,轟擊時間為30~160min,然后冷卻至室溫取出,得鍍鉭層的TiNi合金支架。
本發明采用多弧離子鍍技術在TiNi合金表面制備了均勻致密、結合牢固的鉭層,增加了TiNi合金支架的抗腐蝕性能,提高了TiNi合金支架在X-光下的顯影性,且在鍍層與TiNi合金支架之間存在過渡層,過渡層的存在有利于提高TiNi合金支架與鍍層之間的結合力,同時提高了TiNi合金支架植入位置的準確性和有利于術后跟蹤檢查;本發明一種提高TiNi合金支架在X-光下顯影性的方法,工藝簡單、成本低,且未在TiNi合金中添加第三元素,所以不影響TiNi合金的相變溫度,也未改變TiNi合金支架的構造,所以不影響TiNi合金的機械性能。
附圖說明
圖1為具體實施方式七中所得鍍鉭層的TiNi合金支架的小掠角X射線衍射譜圖;圖2為具體實施方式七中所得鍍鉭層的TiNi合金支架截面的掃描電鏡圖;圖3為具體實施方式七中所得鍍鉭層的TiNi合金支架與普通TiNi合金支架的X-光照對比圖,圖3中1為普通TiNi合金支架,2為鍍鉭層的TiNi合金支架。
具體實施方式
具體實施方式一:本實施方式一種提高TiNi合金支架在X-光下顯影性的方法按以下步驟實現:一、將TiNi合金支架化學拋光,再放入丙酮中超聲波清洗,然后吹干;二、吹干后的TiNi合金支架放入多弧離子鍍爐中,抽真空至10-4~10-5Pa,再通入氬氣至0.2~0.3Pa,在TiNi合金支架加上800~1100V的負偏壓,進行濺射清洗,持續時間為20~40min;三、濺射清洗后,在弧流為70~80A、負偏壓為100~500V的條件下用鉭離子轟擊TiNi合金支架并沉積,轟擊時間為30~160min,然后冷卻至室溫取出,得鍍鉭層的TiNi合金支架。
具體實施方式二:本實施方式與具體實施方式一不同的是步驟二中所用多弧離子鍍爐為HHB-6.6多弧離子鍍爐。其它步驟及參數與具體實施方式一相同。
具體實施方式三:本實施方式與具體實施方式一不同的是步驟二中抽真空至10-5Pa,再通入氬氣至0.25Pa。其它步驟及參數與具體實施方式一相同。
具體實施方式四:本實施方式與具體實施方式一不同的是步驟二中TiNi合金支架加上1000V的負偏壓,進行濺射清洗,持續時間為30min。其它步驟及參數與具體實施方式一相同。
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