[發明專利]微-納流控芯片的二維納米通道的制備方法無效
| 申請號: | 200810060845.4 | 申請日: | 2008-03-21 |
| 公開(公告)號: | CN101251532A | 公開(公告)日: | 2008-08-27 |
| 發明(設計)人: | 張磊;殷學鋒;童利民;谷付星 | 申請(專利權)人: | 浙江大學 |
| 主分類號: | G01N33/48 | 分類號: | G01N33/48;C12Q1/68 |
| 代理公司: | 杭州中成專利事務所有限公司 | 代理人: | 盛輝地 |
| 地址: | 310027浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 納流控 芯片 二維 納米 通道 制備 方法 | ||
1.一種微一納流控芯片的制備方法,其特征是將二氧化硅納米線放置載玻片上作為模板;通 過熱壓法,將二氧化硅納米線嵌入聚碳酸酯基片的上表面;用氫氟酸將嵌入聚碳酸酯基片 中的二氧化硅納米線溶解后,在聚碳酸酯基片表面形成二維納米通道;將形成二維納米通 道的聚碳酸酯基片與聚二甲基硅氧烷蓋片封合,形成密封的二維納米通道,二氧化硅納米 線直徑在20-900納米,長度在5微米到4厘米,將加工有微米通道的蓋片與加工有二維 納米通道的基片相封接,二維納米通道與微米通道相連,得到集成的微-納流控芯片。
2.根據權利要求1所述的微-納流控芯片的制備方法,其特征是所用的載玻片上放置納米線 為直線形,陣列形或弧形,用于壓制不同形狀的二維納米通道。
3.根據權利要求1所述的微-納流控芯片的制備方法,其特征是二維納米通道的寬度在 20-900納米之間,長度在5微米到4厘米之間,形狀為直線形,陣列形,弧形或相互交 叉。
4.根據權利要求1所述的微-納流控芯片的制備方法,其特征是交叉連接的復雜的二維納米 通道,使用多根納米線作為模板,通過多次熱壓法制作。
5.根據權利要求1所述的微-納流控芯片的制備方法,具體步驟是:
●用熱拉伸法制備納米線;
●將一塊潔凈平整的聚碳酸酯基片蓋在納米線和載玻片上;
●將聚碳酸酯基片,納米線和載玻片放入熱壓機中熱壓,使納米線嵌入聚碳酸酯基片;
●將載玻片和聚碳酸酯基片剝離,用刻蝕劑溶解基片上的納米線,露出納米通道;
●去除了納米線的聚碳酸酯基片與蓋片封合,形成二維納米通道。
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