[發明專利]一種地下廠房各洞室的連接結構及其施工方法有效
| 申請號: | 200810059698.9 | 申請日: | 2008-02-04 |
| 公開(公告)號: | CN101230581A | 公開(公告)日: | 2008-07-30 |
| 發明(設計)人: | 鮑利發;戚海峰;吳喜艷;王慧鋒 | 申請(專利權)人: | 中國水電顧問集團華東勘測設計研究院 |
| 主分類號: | E02D29/045 | 分類號: | E02D29/045;E04H5/02 |
| 代理公司: | 杭州九洲專利事務所有限公司 | 代理人: | 韓小燕 |
| 地址: | 310014浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 地下 廠房 各洞室 連接 結構 及其 施工 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種地下廠房各洞室的連接結構及其施工方法。適用于水利水電工程之地下廠房。
背景技術
地下廠房洞室群通常由幾個主要洞室及附屬洞室組成,各主要洞室之間通過附屬洞室連接。主要洞室邊墻大多不采用混凝土襯砌,而是采用噴錨等柔性支護方法,為了保證主要洞室長期運行的通風、采暖等要求,后期采用防潮墻與巖壁分開,防止巖壁產生潮濕的空氣影響主要洞室的通風空調系統的使用效率。另外在防潮墻內利用框架梁設懸臂板作為排水溝來解決巖壁滲漏水問題。附屬連接洞室因機電設備布置、交通和美觀需要,一般均采用混凝土襯砌結構。附屬連接洞室的襯砌施工一般先于主要洞室的樓板澆筑,其襯砌向主洞方向延伸從結構設計到施工均較困難,使得附屬洞室的襯砌只能與巖壁噴層線齊平。附屬連接洞室與主要洞室內樓板層的相互關系剖視圖如圖1、圖2表示,兩種情況均顯示主要洞室的板梁結構與附屬洞室的城門洞型混凝土襯砌間無法形成可供設置止水的交接面。附屬洞室多為設備布置通道或者交通通道,故對各洞室間連接部位的防水、止水要求較高,由于地下洞室的巖壁因其特性無法做到滴水不漏(滲),巖壁水體會沿巖壁下滲影響連接部位機電設備的安全運行及交通方便。同時由于附屬洞室的襯砌為城門洞型且只與巖壁噴層線齊平,給附屬洞室與防潮墻間的連接段后期的建筑裝修的平順銜接帶來困難,影響美觀。因此主、附洞室的連接從結構、防水、施工和裝修等方面均顯得尤其重要。
發明內容
本發明要解決的技術問題是:提供一種簡單、合理、可靠的地下廠房各洞室的連接結構及其施工方法,旨在使各洞室間的銜接結構能夠做到平順、防水、便于后期建筑裝修。
本發明所采用的技術方案是:一種地下廠房各洞室的連接結構,具有主要洞室和附屬洞室,主要洞室的巖壁上有混凝土噴層,主要洞室與混凝土噴層間設置防潮墻,附屬洞室內有混凝土襯砌,其特征在于:在主要洞室與附屬洞室連接岔口兩側緊貼巖壁混凝土噴層布置邊柱,邊柱的邊緣與混凝土襯砌及防潮墻外邊線齊平,呈扁長型,在兩邊柱上位于附屬洞室頂拱高程布置一異形梁,該梁的上邊緣或下邊緣優化為同附屬洞室頂拱襯砌內邊緣一致的曲線型,異形梁的梁寬等于主要洞室巖壁混凝土噴層與防潮墻外邊線間的距離,在異形梁的頂部設置排水溝,在邊柱與異形梁的組合和附屬洞室內呈城門洞型混凝土襯砌間的交接面布設周圈止水帶。
所述異形梁的邊緣優化為同附屬洞室頂拱襯砌內邊緣一致的曲線型,利用邊柱與異形梁的組合同附屬洞室內的城門洞型混凝土襯砌間的充分交接面布設周圈止水帶。
一種地下廠房各洞室連接結構的施工方法,其特征在于包括以下步驟:
1)在主要洞室與附屬洞室連接岔口兩側緊貼巖壁混凝土噴層布置邊柱,邊柱的邊緣與混凝土襯砌及防潮墻外邊線齊平,邊柱呈扁長型;
2)在兩邊柱上位于附屬洞室頂拱高程布置一異形梁,該異形梁是將主要洞室之防潮墻下梁局部加大而成,局部加大區段的梁高應能實現異形梁與附屬洞室襯砌頂拱有充分的交接面;
3)在邊柱與異形梁的組合和附屬洞室內呈城門洞型混凝土襯砌間的交接面布設周圈止水帶;
4)在異形梁的頂部設置排水溝。
本發明另一種地下廠房各洞室連接結構的施工方法,其特征在于包括以下步驟:
1)在主要洞室與附屬洞室連接岔口兩側緊貼巖壁混凝土噴層布置邊柱,邊柱的邊緣與混凝土襯砌及防潮墻外邊線齊平,邊柱呈扁長型;
2)在兩邊柱上位于附屬洞室頂拱高程布置一異形梁,該異形梁獨立布置,異形梁與邊柱的斷面除滿足與附屬洞室內混凝土襯砌有充分的交接面外,還應能承受異形梁上面防潮墻的荷載;
3)在邊柱與異形梁的組合和附屬洞室內呈城門洞型混凝土襯砌間的交接面布設周圈止水帶;
4)在異形梁的頂部設置排水溝。
本發明的有益效果是:本技術方案結合利用主、附洞室結構布置設計,工程措施簡單,施工方便,連接結構合理、簡單、可靠,使各洞室的連接實現了平順銜接、防水止水、便于后期建筑裝修。
附圖說明
圖1是本發明背景技術一種連接結構的豎向剖面圖。
圖2是本發明背景技術另一種連接結構的豎向剖面圖。
圖3是本發明的平面圖。
圖4是對圖1所示的背景技術作出改進,為圖3的A-A向剖面圖。
圖5是圖4的B-B向剖面圖。
圖6是對圖2所示的背景技術作出改進,為圖3的A-A向剖面圖。
圖7是圖6的B-B向剖面圖。
具體實施方式
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