[發明專利]測試液晶面板光學特性的陣列基板電路及其實現方法

有效

• 申請號: 200810057957.4
• 申請日: 2008-02-21
• 公開（公告）號: CN101515074A
• 公開（公告）日: 2009-08-26
• 發明（設計）人: 吳昊
• 申請（專利權）人: 北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13;G01R31/00
• 代理公司: 北京匯澤知識產權代理有限公司
• 代理人: 張穎玲;王黎延

1.一種測試液晶面板光學特性的陣列基板電路，所述陣列基板電路包括柵線引線主線和數據線引線主線，其特征在于，

所述陣列基板電路還包括：與柵極引線主線一一對應電連接的柵極引線支線，所述柵線引線支線的一端延伸形成有涂敷導電介質用的密集區域；以及，

與數據線引線主線一一對應電連接的數據線引線支線，所述數據線引線支線的一端延伸形成有涂敷導電介質用的密集區域。

2.根據權利要求1所述的測試液晶面板光學特性的陣列基板電路，其特征在于，

所述數據線引線支線設置于柵金屬層，并與其對應的數據線引線主線呈不同方向排布，所述數據線引線主線和數據線引線支線處留有過孔，所述數據線引線主線和數據線引線支線通過涂敷在所述數據線引線主線和數據線引線支線的過孔處的透明導電涂層實現所述的電連接；

所述柵線引線支線設置于源漏電極金屬層，并與其相對應的柵線引線主線呈不同方向排布，所述柵線引線主線和柵線引線支線處留有過孔，所述柵線引線主線和柵線引線支線通過涂敷在所述柵線引線主線和柵線引線支線的過孔處的透明導電涂層實現所述的電連接。

3.根據權利要求2所述的測試液晶面板光學特性的陣列基板電路，其特征在于，所述數據線引線主線分批排布成多個數據線引線綁定區域，同一數據線引線綁定區域內所有數據線引線主線對應的所有數據線引線支線的一端延伸形成所述的涂敷導電介質用的密集區域；

所述柵線引線主線分批排布成多個柵線引線綁定區域，同一柵線引線綁定區域內所有柵線引線主線對應的所有柵線引線支線的一端延伸形成所述的涂敷導電介質用的密集區域。

4.根據權利要求1、2或3所述的測試液晶面板光學特性的陣列基板電路，其特征在于，所述數據線引線支線延伸形成的密集區域的形狀為圓形；所述柵?線引線支線延伸形成的密集區域的形狀為圓形。?

5.根據權利要求2或3所述的測試液晶面板光學特性的陣列基板電路，其特征在于，所述數據線引線主線和數據線引線支線呈互相垂直的方向排布；所述柵線引線主線和柵線引線支線呈互相垂直的方向排布。?

6.根據權利要求1、2或3所述的測試液晶面板光學特性的陣列基板電路，其特征在于，所述各數據線引線支線之間呈等間距狀排布；所述各柵線引線支線之間呈等間距狀排布。?

7.一種測試液晶面板光學特性的陣列基板電路的實現方法，其特征在于，包括以下步驟：?

(a)設置玻璃基板，在玻璃基板上進行柵金屬層的沉積鍍膜；?

(b)刻蝕柵金屬層，在柵金屬層上形成柵線引線主線和數據線引線支線，數據線引線支線的一端延伸形成涂敷導電介質用的密集區域；?

(c)在柵金屬層上依次沉積絕緣層、半導體層以及源漏電極金屬層；?

(d)刻蝕源漏電極金屬層，在源漏電極金屬層上形成數據線引線主線和柵線引線支線，柵線引線支線的一端延伸形成涂敷導電介質用的密集區域；?

(e)沉積鈍化保護層并對其刻蝕，在相應的數據線引線主線和數據線引線支線處分別形成過孔，在相應的柵線引線主線和柵線引線支線處分別形成過孔；?

(f)沉積并刻蝕透明像素電極層，同時形成透明導電涂層，通過過孔處涂敷的透明導電涂層分別連接數據線引線主線和數據線引線支線、柵線引線主線和柵線引線支線。?

8.根據權利要求7所述的測試液晶面板光學特性的陣列基板電路的實現方法，其特征在于，所述數據線引線主線分批排布成多個數據線引線綁定區域，同一數據線引線綁定區域內所有數據線引線主線對應的所有數據線引線支線的一端延伸形成所述的涂敷導電介質用的密集區域；?

所述柵線引線主線分批排布成多個柵線引線綁定區域，同一柵線引線綁定區域內所有柵線引線主線對應的所有柵線引線支線的一端延伸形成所述的涂敷導電介質用的密集區域。?

9.根據權利要求7或8所述的測試液晶面板光學特性的陣列基板電路的實現方法，其特征在于，所述數據線引線支線延伸形成的密集區域的形狀為圓形；所述柵線引線支線延伸形成的密集區域的形狀為圓形。?

10.根據權利要求7或8所述的測試液晶面板光學特性的陣列基板電路的實現方法，其特征在于，所述數據線引線主線和數據線引線支線呈互相垂直的方向排布；所述柵線引線主線和柵線引線支線呈互相垂直的方向排布。?

11.根據權利要求7或8所述的測試液晶面板光學特性的陣列基板電路的實現方法，其特征在于，所述各數據線引線支線之間呈等間距狀排布；所述各柵線引線支線之間呈等間距狀排布。?