[發(fā)明專利]一種活性焦再生方法與裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810056730.8
• 申請(qǐng)日: 2008-01-24
• 公開（公告）號(hào): CN101491754A
• 公開（公告）日: 2009-07-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張大偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 張大偉
• 主分類號(hào): B01J20/34
• 分類號(hào): B01J20/34;B01J20/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 周長(zhǎng)興

1.一種實(shí)現(xiàn)活性焦再生方法的裝置，該再生方法為：將活性焦置于 再生裝置中，先經(jīng)100-400℃加熱除去水份后，再加熱至500-850℃再生， 使活性焦中的有機(jī)物生成為可燃?xì)怏w；其特征在于，該再生裝置包括：

一加熱室，該加熱室中間設(shè)置有間隔墻，將加熱室分成兩個(gè)溫度區(qū)， 其中加熱室靠爐尾一端為高溫區(qū)，加熱室靠爐頭一端為低溫區(qū)；

加熱室的側(cè)壁上安裝有若干燃?xì)庠O(shè)備，該燃?xì)庠O(shè)備的燃?xì)膺M(jìn)口連接有 兩根燃?xì)夤艿溃渲幸桓鶠橥鈦砣細(xì)夤埽硪桓鶠榛厥绽没钚越乖偕鷷r(shí) 產(chǎn)生的可燃?xì)獾目扇細(xì)夤埽?

間隔墻上設(shè)有通氣道；

低溫區(qū)頂部設(shè)有煙氣口；

爐尾的頂部設(shè)有一可燃?xì)怏w出口，通過一可燃?xì)馀潘惋L(fēng)機(jī)連接可燃?xì)? 管；

一滾筒，內(nèi)部設(shè)有翻料板，該滾筒整體貫穿加熱室內(nèi)，該滾筒靠加熱 室爐頭一端為進(jìn)料端，進(jìn)料端連接一水蒸汽出口，靠加熱室爐尾一端為出 料端；其中，該滾筒的安裝是進(jìn)料端比出料端高1-2°。

2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中，加熱室的高溫區(qū)靠近爐尾一端 的區(qū)域溫度為700～850℃，高溫區(qū)且靠近間隔墻一端的區(qū)域溫度為500～ 600℃；加熱室的低溫區(qū)且靠近間隔墻一端的區(qū)域溫度為300～400℃；低 溫區(qū)且靠近爐頭一端的區(qū)域溫度為100～200℃。

3.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中，加熱室的高溫區(qū)和低溫區(qū)一側(cè) 壁上安裝有溫度傳感器。

4.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中，滾筒進(jìn)料端的水蒸汽出口上部 安裝有調(diào)節(jié)閥，調(diào)節(jié)閥上部為水蒸汽排放管。

5.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中，爐尾設(shè)有負(fù)壓檢測(cè)設(shè)備。

6.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中，燃?xì)庠O(shè)備連接的兩根燃?xì)夤艿? 上均安裝有閥門。

7.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中，滾筒的轉(zhuǎn)速調(diào)整范圍為2～5轉(zhuǎn) /分，滾筒的長(zhǎng)徑比為10～15∶1，滾筒內(nèi)活性焦裝填系數(shù)為0.2～0.3。