[發(fā)明專利]高質(zhì)量、高收率的碳納米管陣列制備方法及裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810054298.9 | 申請(qǐng)日: | 2008-08-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101348901A | 公開(kāi)(公告)日: | 2009-01-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 崔屾;侯煒鑫;程剛;張順通;宮娜娜 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 天津大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C23C16/26 | 分類號(hào): | C23C16/26 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責(zé)任專利代理事務(wù)所 | 代理人: | 王麗 |
| 地址: | 300072天津*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 質(zhì)量 收率 納米 陣列 制備 方法 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于納米技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及以環(huán)己烷為碳源,制備高質(zhì)量、高收率的碳納米管陣列的方法及裝置。
背景技術(shù)
碳納米管陣列(carbon?nanotube?arrays—CNTAs或aligned?carbon?nanotubes—ACNTs,本發(fā)明專利取前者的縮寫(xiě)形式)是碳納米管(carbon?nanotubes—CNTs)的一種重要存在形式。在CNTAs中,CNTs是以排列有序、高度平行、高密度的形式存在的。CNTAs不僅保留了CNTs的優(yōu)異的力學(xué)、電學(xué)、熱學(xué)等性能,而且還具有了CNTs的高度取向性、高密度和準(zhǔn)直性的結(jié)構(gòu)特點(diǎn),所以在場(chǎng)發(fā)射顯示器件、納米復(fù)合材料、特殊用途的膜材料、納米電容器及超級(jí)電容器、納米電子器件、納米膜傳感器、特殊涂料、太陽(yáng)能利用、儲(chǔ)氫材料等領(lǐng)域具有很好的應(yīng)用前景。
自Li等(Li?W?Z,Xie?S?S,Qian?L?X,et?al..Large-Scale?Synthesis?of?Aligned?CarbonNanotubes.Science,1996,274(5293):1701-1703)首次報(bào)道了利用孔道限制CNTs取向生長(zhǎng)的方法制備CNTAs以來(lái),有關(guān)CNTAs制備的研究發(fā)展很快,文獻(xiàn)中已經(jīng)報(bào)道過(guò)多種CNTAs制備方法,如模板法、化學(xué)氣相沉積(CVD)法、等離子體增強(qiáng)CVD(PECVD)法、電子回旋共振CVD(ECR-CVD)法、催化熱裂解法、催化劑薄膜法等;上列方法均可歸結(jié)為化學(xué)法。
采用物理方法,以催化裂解法或電弧放電法制備的CNTs為原料,也可制備CNTAs;如在外加磁場(chǎng)作用下,利用CNTs的磁各向異性制備CNTAs;配制CNTs的懸浮液,利用CNTs的自組裝性能制備CNTAs;采用切割CNTs-聚合物復(fù)合材料的方法制備CNTAs等。
對(duì)國(guó)內(nèi)外專利文獻(xiàn)的檢索結(jié)果表明,有關(guān)CNTAs制備的美國(guó)發(fā)明專利有數(shù)百項(xiàng),世界發(fā)明專利有幾十項(xiàng),中國(guó)發(fā)明專利有二十多項(xiàng)。但不論國(guó)內(nèi)外已發(fā)表的論文,還是發(fā)明專利中,均未明確給出CNTAs的收率。
文獻(xiàn)報(bào)道的各種制備CNTAs方法中,相當(dāng)一部分方法可以制得高質(zhì)量(純度高、取向性好、準(zhǔn)直程度高)的CNTAs,但由于收率很低,制備成本很高,使得CNTAs的應(yīng)用研究與開(kāi)發(fā)受到了很大的限制。
以苯為碳源,采用氣霧劑-CVD法雖然可以制得CNTAs,但質(zhì)量不是很好(Mayne?M,Grobert?N,Terrones?M,et?al..Chem.Phys.Lett.,2001,338(2-3):101-107);經(jīng)過(guò)對(duì)該方法的改進(jìn),CNTAs產(chǎn)物的質(zhì)量顯著提高,但收率仍然很低(Scharff?P,Cui?S.Frontiers?ofMultifunctional?Integrated?Nanosystems.Edited?By?Buzaneva?E?and?Scharff?P,KluwerAcademic?Publ?ishers,NATO?Sci.Ser.II.Math.,Phys.&?Chem.,Vol.152,2004,pp.153-166);而且苯對(duì)環(huán)境污染嚴(yán)重,不適宜于工業(yè)化生產(chǎn)。
采用一步熱解裝置,以環(huán)己烷為碳源,雖然可以制得CNTAs,但收率仍然很低,且質(zhì)量較差(Mahanandia?P,Nanda?K?K.Nanotechnology,2008,19(15):155602(7pp))。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種以環(huán)己烷為碳源,在高溫、常壓、氬氣氛條件下,采用公知的氣霧劑-CVD方法,制備高質(zhì)量、高收率的CNTAs。本發(fā)明對(duì)于促進(jìn)CNTAs的應(yīng)用研究與開(kāi)發(fā)具有重要的實(shí)際意義。
本發(fā)明的高質(zhì)量、高收率的碳納米管陣列制備方法,采用氣霧劑-CVD方法,其特征是以環(huán)己烷為碳源。
本發(fā)明的高質(zhì)量、高收率的碳納米管陣列制備方法,其特征是所述的方法步驟如下:
(1)首先分別對(duì)催化劑母體二茂鐵與環(huán)己烷碳源進(jìn)行純化;
(2)配制含有質(zhì)量百分比2-6%濃度的催化劑母體的反應(yīng)溶液,然后轉(zhuǎn)移入噴霧瓶中;
(3)密封反應(yīng)系統(tǒng),借助真空泵,用氬氣抽洗、置換其內(nèi)的空氣;
(4)加熱石英反應(yīng)管至700—900攝氏度,調(diào)節(jié)流量計(jì)至氬氣流量為3—9立升每分鐘,使反應(yīng)溶液直接噴射入石英反應(yīng)管,持續(xù)噴射4—15分鐘,即可得到碳納米管陣列粗產(chǎn)物。
所述的高質(zhì)量碳納米管陣列在放置于石英反應(yīng)管內(nèi)的石英片以及單晶硅片上也能生成。
所述的液體環(huán)己烷使用前需經(jīng)過(guò)精餾或5A分子篩浸泡脫水處理。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于天津大學(xué),未經(jīng)天津大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810054298.9/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的





