[發明專利]深溝型氣升推流立體循環式整體合建氧化溝有效
| 申請號: | 200810053030.3 | 申請日: | 2008-05-07 |
| 公開(公告)號: | CN101269880A | 公開(公告)日: | 2008-09-24 |
| 發明(設計)人: | 居文鐘;李彥;夏斌杰;王德龍;侯景樹;楊濤 | 申請(專利權)人: | 天津市天水環保設計工程有限公司 |
| 主分類號: | C02F3/30 | 分類號: | C02F3/30 |
| 代理公司: | 天津市三利專利商標代理有限公司 | 代理人: | 王蘊華 |
| 地址: | 300191天津*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 深溝 型氣升推流 立體 循環 整體 合建 氧化 | ||
1、一種深溝型氣升推流立體循環式整體合建氧化溝,包括內設厭氧區、缺氧區、設有微孔曝氣器組的好氧區及固液分離區的整體合建氧化溝,厭氧區設于主溝前端,其特征在于在厭氧區與主溝末端端墻之間的溝體的中下部設置了將主溝分為上下兩層溝道且前后留有通道的水平隔板;好氧區設于上層溝道及主溝末端,好氧區內設有n級(n≥1)由垂直于主溝側墻平行設置的豎直進水擋水墻、出水擋水墻及位于其間的微孔曝氣器組構成的下設進水口、上設出水口的曝氣氣升區,進水擋水墻及出水擋水墻的側面均固定連接主溝側墻,且出水擋水墻的底部固定連接在水平隔板上;在上層溝道的好氧區內對應n級曝氣氣升區分為n級好氧反應區,各級好氧反應區分別位于與其對應的曝氣氣升區的出水擋水墻的外側;所述的固液分離區設置在厭氧區和第n級好氧反應區之間;下層溝道設置為缺氧區。
2、根據權利要求1所述的深溝型氣升推流立體循環式整體合建氧化溝,其特征在于所述的n級曝氣氣升區中的第一級曝氣氣升區的進水擋水墻是主溝末端端墻,出水擋水墻設于水平隔板末端,微孔曝氣器組位于溝底介于進水擋水墻與出水擋水墻之間,且出水擋水墻底端延伸至缺氧區。
3、根據權利要求1所述的深溝型氣升推流立體循環式整體合建氧化溝,其特征在于在所述的各級好氧反應區內水平隔板與曝氣氣升區出水擋水墻的連接拐角部及固液分離區內靠近厭氧區的擋水墻的中下部分別設置排泥管。
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