[發(fā)明專利]一種高壓二次電路保潔劑及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810043644.3 | 申請日： | 2008-07-18 |
| 公開（公告）號： | CN101629128A | 公開（公告）日： | 2010-01-20 |
| 發(fā)明（設計）人： | 張思平 | 申請（專利權）人： | 張思平 |
| 主分類號： | C11D1/66 | 分類號： | C11D1/66;C11D3/37;C11D3/24;C11D3/18;C11D3/20 |
| 代理公司： | 上海三和萬國知識產(chǎn)權代理事務所 | 代理人： | 劉立平 |
| 地址： | 200030上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 高壓 二次 電路 保潔 及其 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種保潔劑，其特征在于，按以下質(zhì)量百分比的組成成分為：聚乙二醇辛基苯醚1～20％，壬基酚聚氧乙烯醚1～20％，CFCl2CH3?10～20％，正溴丙烷1～3％，C4F9OCH320～40％，硅油0.5～2％；
選自以下組分的一種或多種：低級烷烴、具有碳原子數(shù)為1～4的烷基取代基的低級烷烴、低級醇類、低級烯烴；
所述低級烷烴為庚烷0～1％、己烷0～1％、辛烷0～1％；
所述具有碳原子數(shù)為1～4的烷基取代基的低級烷烴為甲基戊烷0～1％、甲基己烷0～1％、二甲基己烷0～1％、甲基庚烷0～1％、甲基環(huán)己烷0～1％、乙基戊烷0～1％、二甲基環(huán)戊烷0～1％、四甲基丁烷0～1％、甲基乙基己烷0～1％、三甲基戊烷0～1％；
所述低級醇類為乙醇0～1％；
所述低級烯烴為乙烯0～1％。
2.如權利要求1所述的保潔劑，其特征在于，所述聚乙二醇辛基苯醚含量為1～5％，所述壬基酚聚氧乙烯醚含量為5～10％。
3.如權利要求1所述的保潔劑，其特征在于，所述保潔劑的pH值為6.8～7.2。
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